公开(公告)号：CN102445850A

公开(公告)日：2012-05-09

申请号：CN201110272206.6

申请日：2007-04-03

申请人： 太阳控股株式会社

发明人： 伊藤信人 ,  柴崎阳子 ,  加藤贤治 ,  有马圣夫

IPC分类号： G03F7/027 ,  G03F7/031 ,  C08G59/42 ,  C08G59/14 ,  C08F290/06 ,  C08F283/00 ,  H05K3/28

CPC分类号： C08F290/06 ,  C08F283/00 ,  C08F290/061 ,  C08F290/062 ,  C08G59/1466 ,  C08G59/4215 ,  G03F7/032 ,  H05K3/287 ,  Y10S430/117 ,  Y10S430/12 ,  Y10S430/121 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/123 ,  Y10S430/124 ,  Y10S430/125 ,  Y10S430/127 ,  Y10S522/913 ,  Y10T428/12729

摘要： 本发明提供一种碱显影型阻焊剂，其特征在于，其为可通过稀碱溶液显影的组合物，该组合物包含：(A)含羧基感光性树脂，其将(a)1分子中具有2个以上的环状醚基或环状硫醚基的化合物与(b)不饱和单羧酸反应后，与(c)多元酸酐反应，将所得树脂进一步与(d)1分子中同时具有环状醚基和烯属不饱和基的化合物反应，再次使(c)多元酸酐反应而得到；(B)肟酯系光聚合引发剂，其包含下述通式(I)所示的肟酯基；(C)1分子中具有2个以上的烯属不饱和基的化合物；以及(D)热固化性成分，其中，所述组合物的干燥涂膜在波长350～375nm下的吸光度为膜厚25μm时0.3～1.2。[化学式1](式中，R1表示氢原子、碳数1～7的烷基或苯基，R2表示碳数1～7的烷基或苯基。)

公开(公告)号：CN1354392A

公开(公告)日：2002-06-19

申请号：CN01135041.5

申请日：2001-11-16

申请人： 住友化学工业株式会社

发明人： 上谷保则 ,  大桥贤治 ,  森马洋

IPC分类号： G03F7/039

CPC分类号： G03F7/0397 ,  G03F7/0045 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/123 ,  Y10S430/124

摘要： 一种化学放大型正光刻胶组合物,适合用于利用ArF、KrF等的激发激光的平板印刷,并能提供良好的剖面形状,它含有具有被2－烷基－2－金刚烷基或1－金刚烷基－1－烷基烷基保护的碱溶性基团的树脂,其本身不溶于或微溶于碱,但通过酸的作用溶于碱;和上式(I)表示的锍盐产酸剂，其中Q1、Q2和Q3独立表示氢、羟基、具有1－6个碳原子的烷基、或具有1－6个碳原子的烷氧基;Q4表示可以具有环结构的全氟烷基。

公开(公告)号：CN1330288A

公开(公告)日：2002-01-09

申请号：CN01118895.2

申请日：2001-06-29

申请人： 海力士半导体有限公司

发明人： 郑载昌 ,  李根守 ,  郑旼镐 ,  白基镐

IPC分类号： G03F7/004

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0395 ,  Y10S430/115 ,  Y10S430/117 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/124 ,  Y10S430/126

摘要： 本发明涉及一种含有光自由基发生剂的光致抗蚀剂组合物,更具体涉及一种包括(a)光致抗蚀剂树脂,(b)光产酸剂,(c)有机溶剂和(d)光自由基发生剂的光致抗蚀剂组合物。该光致抗蚀剂组合物能降低或阻止由于光致抗蚀剂上部组合物产生的酸浓度相对于光致抗蚀剂下部组合物产生的酸浓度高所造成的倾斜图像的生成。

公开(公告)号：CN102186815B

公开(公告)日：2014-07-30

申请号：CN200980141521.6

申请日：2009-10-08

申请人： 巴斯夫欧洲公司

发明人： 大和仁志 ,  朝仓敏景 ,  西前祐一

IPC分类号： C07C381/12 ,  G03F7/00

CPC分类号： C07C381/12 ,  C07C317/04 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/123 ,  Y10S430/124 ,  Y10S430/125 ,  Y10S430/126

摘要： 式(I)化合物是有效的光生酸剂(PAG)，其中Ar1例如为未被取代或被取代的亚苯基或亚联苯基；Ar2和Ar3例如彼此独立地为任选被取代的苯基、萘基、联苯基或杂芳基；或Ar1和Ar2例如与直接键、O、S或(CO)一起形成稠合环体系；R例如为氢、C3-C30环烷基或C1-C18烷基；且R1、R2和R3例如彼此独立地为C1-C10卤代烷基。

公开(公告)号：CN100535746C

公开(公告)日：2009-09-02

申请号：CN200510071268.5

申请日：2005-05-08

申请人： 东进世美肯株式会社

发明人： 金奉玘 ,  柳盛文 ,  朴圣模 ,  朴赞硕

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/16 ,  G03F7/26

CPC分类号： G03F7/027 ,  Y10S430/117 ,  Y10S430/121 ,  Y10S430/123 ,  Y10S430/124 ,  Y10S430/125

摘要： 本发明涉及光致抗蚀剂树脂组合物，特别是涉及含有以下物质的光致抗蚀剂树脂组合物：a)具有2个氨基甲酸酯键的丙烯酸酯单体，b)具有至少2个乙烯型双键的氨基甲酸酯系列的交联性单体，c)碱可溶性化合物，d)光聚合引发剂和e)溶剂；还涉及利用所述光致抗蚀剂树脂的感光性干膜抗蚀剂。本发明所述的光致抗蚀剂树脂组合物和利用该光致抗蚀剂树脂组合物的感光性干膜抗蚀剂，其与基材的胶粘性和耐喷砂性优异，同时还具有高分辨率和高感光度，从而可以在基材上形成精细的图案。

公开(公告)号：CN1693991A

公开(公告)日：2005-11-09

申请号：CN200510071268.5

申请日：2005-05-08

申请人： 东进世美肯株式会社

发明人： 金奉玘 ,  柳盛文 ,  朴圣模 ,  朴赞硕

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/16 ,  G03F7/26

CPC分类号： G03F7/027 ,  Y10S430/117 ,  Y10S430/121 ,  Y10S430/123 ,  Y10S430/124 ,  Y10S430/125

摘要： 本发明涉及光致抗蚀剂树脂组合物，特别是涉及含有以下物质的光致抗蚀剂树脂组合物：a)具有2个氨基甲酸酯键的丙烯酸酯单体，b)具有至少2个乙烯型双键的氨基甲酸酯系列的交联性单体，c)碱可溶性化合物，d)光聚合引发剂和e)溶剂；还涉及利用所述光致抗蚀剂树脂的感光性干膜抗蚀剂。本发明所述的光致抗蚀剂树脂组合物和利用该光致抗蚀剂树脂组合物的感光性干膜抗蚀剂，其与基材的胶粘性和耐喷砂性优异，同时还具有高分辨率和高感光度，从而可以在基材上形成精细的图案。

公开(公告)号：CN1200943C

公开(公告)日：2005-05-11

申请号：CN01103487.4

申请日：2001-02-07

申请人： 西巴特殊化学品控股有限公司

发明人： J·-P·沃尔夫 ,  B·M·埃布利 ,  G·胡格

IPC分类号： C07F9/28 ,  C08F4/42 ,  C08F2/48 ,  C08L23/00 ,  C09D4/00 ,  C09D10/00 ,  G03C1/04 ,  G03F7/027

CPC分类号： C09D11/101 ,  A61K6/0052 ,  A61K6/08 ,  B33Y70/00 ,  C07F9/28 ,  C07F9/5036 ,  C07F9/5337 ,  C07F9/6521 ,  C08F2/50 ,  C09D4/00 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/029 ,  G03F7/0384 ,  G03F7/0388 ,  G03F7/0755 ,  Y10S430/124 ,  A61K6/083 ,  C08L33/08 ,  C08L33/10 ,  C08L33/20 ,  C08L33/26 ,  C08L27/00 ,  C08L31/04 ,  C08L25/06 ,  C08L27/04 ,  C08L39/06 ,  A61K6/09 ,  C08L75/04 ,  A61K6/087 ,  C08L67/00 ,  C08L71/02 ,  A61K6/097 ,  C08L1/08

摘要： 其中各取代基如说明书中所定义的式I化合物是有价值的用于制备不对称二酰基膦氧化物和一酰基膦氧化物的中间体。

公开(公告)号：CN1524104A

公开(公告)日：2004-08-25

申请号：CN02807951.5

申请日：2002-04-09

申请人： 积水化学工业株式会社

发明人： 高桥克典 ,  福井弘司 ,  川端和裕 ,  黑田健夫 ,  一谷基邦 ,  中谷康弘

IPC分类号： C08G77/00 ,  C08G79/00 ,  C08L87/00 ,  C08L101/10 ,  C09D187/00 ,  C09D201/10 ,  C09J187/00 ,  C09J201/10 ,  C08J5/18 ,  C09K3/10 ,  G02B1/10 ,  G02B3/00 ,  G02B5/20 ,  G02B6/13 ,  G03F7/075 ,  H01B1/12 ,  H01B3/46 ,  H01L51/00 ,  H05B33/12 ,  H05B33/14 ,  H05B33/22

CPC分类号： G03F7/0757 ,  C09K3/10 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0755 ,  Y10S430/114 ,  Y10S430/117 ,  Y10S430/124

摘要： 本发明提供了光反应性组合物，通过光照射可使该组合物中可水解的金属化合物发生反应。所述光反应性组合物含有可水解的金属化合物(A)和化合物(B)，所述化合物(A)具有金属原子和与所述金属原子键合的可水解的官能团，所述化合物(B)在氧气存在下经光照射促进所述化合物(A)的反应、聚合或交联。

公开(公告)号：CN100589032C

公开(公告)日：2010-02-10

申请号：CN200480008907.7

申请日：2004-03-25

申请人： 捷时雅株式会社

发明人： 岩永伸一郎 ,  木村徹 ,  西川耕二

IPC分类号： G03F7/033 ,  C09D133/04

CPC分类号： G03F7/031 ,  C08L33/04 ,  G03F7/029 ,  G03F7/033 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/121 ,  Y10S430/124 ,  C08L2666/02

摘要： 本发明的呈未固化状态的光敏树脂膜包含(A)一种特殊的碱溶性共聚物，(B)具有至少一个烯键式不饱和双键的化合物，以及(C)一种辐射敏感的自由基聚合引发剂，通过使用该引发剂，呈未固化状态的、干膜厚度为70μm的涂膜在365nm具有不低于10%的辐射透射率，在405nm具有不低于60%的辐射透射率。以100重量份组分(A)计，该光敏树脂膜中的辐射敏感的自由基聚合引发剂(C)的含量为20-40重量份，并且该光敏树脂膜的干膜厚度不低于50μm。根据该光敏树脂膜可容易地在芯片基底上高精度地形成不低于50μm的高凸起，而常规技术难于形成这样的高凸起。此外，还能抑制元件的连接失效并能提高元件的可靠性。

公开(公告)号：CN1768304A

公开(公告)日：2006-05-03

申请号：CN200480008907.7

申请日：2004-03-25

申请人： 捷时雅株式会社

发明人： 岩永伸一郎 ,  木村徹 ,  西川耕二

IPC分类号： G03F7/033 ,  C09D133/04

CPC分类号： G03F7/031 ,  C08L33/04 ,  G03F7/029 ,  G03F7/033 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/121 ,  Y10S430/124 ,  C08L2666/02

摘要： 本发明的呈未固化状态的光敏树脂膜包含(A)一种特殊的碱溶性共聚物，(B)具有至少一个烯键式不饱和双键的化合物，以及(C)一种辐射敏感的自由基聚合引发剂，通过使用该引发剂，呈未固化状态的、干膜厚度为70μm的涂膜在365nm具有不低于10％的辐射透射率，在405nm具有不低于60％的辐射透射率。以100重量份组分(A)计，该光敏树脂膜中的辐射敏感的自由基聚合引发剂(C)的含量为20－40重量份，并且该光敏树脂膜的干膜厚度不低于50μm。根据该光敏树脂膜可容易地在芯片基底上高精度地形成不低于50μm的高凸起，而常规技术难于形成这样的高凸起。此外，还能抑制元件的连接失效并能提高元件的可靠性。