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公开(公告)号：CN103430281A
公开(公告)日：2013-12-04
申请号：CN201280013566.7
申请日：2012-01-23
Applicant: 新东工业株式会社
CPC classification number: H01L21/02664 , H01L21/0242 , H01L21/02428 , H01L21/0254 , H01L21/02587 , H01L33/007 , H01S5/0213 , H01S5/32341 , H01S2304/04
Abstract: 提供一种用于半导体元件的基板的处理方法，该方法用于向基板施加喷射处理，所述基板具有第一表面和与第一表面相对的第二表面。该处理方法包括以下步骤：向与第一表面相对的第二表面施加喷射处理，在所述第一表面上，形成或者将要形成化合物半导体膜。
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公开(公告)号：CN102123829A
公开(公告)日：2011-07-13
申请号：CN201080002376.6
申请日：2010-08-03
Applicant: 新东工业株式会社
IPC: B24C5/04
Abstract: 本发明提供喷丸加工用喷射喷嘴，可均匀进行宽广区域的加工且耐久性高。该喷嘴(10)具备：气体喷射部(11)；供给喷射材料的供给口(12)；混合室(13)，其分别与气体喷射部及供给口连通，对从气体喷射部供给的压缩气体和从供给口供给的喷射材料进行混合，形成固气二相流；和对被加工物喷射从混合室导入的固气二相流的喷射材料喷射部(14)。在气体喷射部的开口部(11b)形成有使压缩气体的气流在长边方向扩展的整流部(20)。在整流部以与长边垂直且相对于长边的中心线对称的方式设置有整流部件(21)，以划分第一流路(11a)，该整流部件具有使压缩气体的气流在气体喷射部的长方形截面的长边方向扩展的整流面(21a)。
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公开(公告)号：CN114905415A
公开(公告)日：2022-08-16
申请号：CN202210094507.2
申请日：2022-01-26
Applicant: 新东工业株式会社
Abstract: 本发明涉及喷砂加工装置以及定量供给装置。喷砂加工装置具备存积容器、定量供给装置以及喷砂加工用的喷嘴。存积容器存积研磨材料。定量供给装置从存积容器供给研磨材料。喷嘴将从定量供给装置供给的研磨材料与压缩空气一起喷射。定量供给装置具有外壳以及螺杆。外壳沿着水平方向延伸，在内部划分空间，具有连通空间与存积室的导入口和在从导入口在水平方向上分离的位置朝向下方开口的供给口。螺杆收纳于外壳，具有沿着水平方向延伸的旋转轴，以旋转轴为中心旋转由此将空间内的研磨材料从导入口朝向供给口输送。螺杆以在铅垂方向上不与供给口重叠的方式收纳于外壳。
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公开(公告)号：CN107000161A
公开(公告)日：2017-08-01
申请号：CN201580064186.X
申请日：2015-10-29
Applicant: 新东工业株式会社
CPC classification number: B24C1/00 , B24C1/083 , B24C3/26 , B24C3/32 , B24C5/00 , B24C9/00 , B24C9/003
Abstract: 一种毛刺去除方法包括：准备包括加工容器和产生吸引力的吸引机构的去毛刺装置、以及多个被处理品的工序；将多个被处理品安置在加工容器的工序；对安置到加工容器的多个被处理品进行搅拌的工序；以及利用由吸引机构的动作而产生的气流，使朝向处于正在被搅拌的状态的多个被处理品投入的磨粒加速至规定的速度，并且使该磨粒与多个被处理品接触或者碰撞从而去除多个被处理品的毛刺。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105451939A
公开(公告)日：2016-03-30
申请号：CN201480044034.9
申请日：2014-03-26
Applicant: 新东工业株式会社
CPC classification number: B24B31/16 , B24B31/02 , B24B31/06 , B24B57/02 , B24C1/08 , B24C3/065 , B24C3/26 , B24C7/0092 , H01G13/00
Abstract: 本发明提供研磨装置以及研磨方法。研磨装置(1)具备：装入被加工物的加工容器(10)；使被加工物在加工容器内流动的流动化单元；将研磨材料朝向被加工物投入的研磨材料投入单元(30)；以及产生朝向研磨材料通过加工容器(10)的方向的气流，并且吸引回收研磨材料的吸引单元(40)。从研磨材料投入单元(30)投入的研磨材料借助从吸引单元(40)产生的气流，一边与被加工物接触一边通过装入加工容器(10)内的被加工物之间。由此，研磨被加工物。
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公开(公告)号：CN102216032B
公开(公告)日：2014-05-14
申请号：CN201080002271.0
申请日：2010-09-10
Applicant: 新东工业株式会社
IPC: B24C9/00
CPC classification number: B24C9/003
Abstract: 本发明提供一种喷射材料回收装置，以及包括该喷射材料回收装置的喷射加工装置，该喷射材料回收装置有效地回收喷射材料并能够使装置(例如产生抽吸力以回收喷射材料的分离装置)的尺寸最小化。喷射加工装置1包括喷射材料回收装置20、散射防止盖21和抽吸装置22，喷射材料回收装置20用于回收由喷射装置10喷射的喷射材料和通过喷射加工由工件产生的灰尘，抽吸装置22抽吸和回收散射在防止盖21内的喷射材料和通过喷射加工由工件产生的灰尘。喷射加工装置通过散射防止盖21防止喷射材料和灰尘的散射，并利用通过间隙T抽吸的作为输送介质的外部空气在靠近工件的位置处抽吸和排出喷射材料和灰尘。因此，喷射材料和灰尘能够被有效地回收。
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公开(公告)号：CN103770013A
公开(公告)日：2014-05-07
申请号：CN201310388995.9
申请日：2013-08-30
Applicant: 新东工业株式会社
CPC classification number: Y02E10/50 , Y02P70/521
Abstract: 本发明提供加工基板周缘部的喷丸加工装置以及喷丸加工方法。喷丸加工装置具备：基板周缘部加工机构，其具备：形成有供基板周缘部松弛插入的基板松弛插入部的基板周缘部加工室、配置为前端插入于基板周缘部加工室的内部并对松弛插入于基板松弛插入部的基板周缘部喷射喷射材料的喷嘴、与喷嘴连通并配置于该喷嘴的上方的喷射材料供给机构、以及与基板周缘部加工室连通的集尘机构；基板移动旋转机构，其具备载置基板并使该基板相对于喷嘴相对水平移动且使基板旋转的机构；基板输送机构，其将基板输送至基板移动旋转机构的初始停止位置的上方；升降机构，其用于使基板输送机构下降来将基板转移放置于基板移动旋转机构。
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公开(公告)号：CN102267101A
公开(公告)日：2011-12-07
申请号：CN201110121694.0
申请日：2011-05-09
Applicant: 新东工业株式会社
CPC classification number: B24C3/32 , B24C1/00 , B24C1/086 , B24C3/086 , B24C3/12 , B24C3/322 , B24C9/00 , B24C9/003
Abstract: 本发明提供板状部件的加工装置及其加工方法。能够在基材上形成有薄膜层而平面为四边形的板状部件上将周缘部的不需要的薄膜层高效地除去。具有供上述板状部件的周缘部插入并除去该周缘部的不需要的薄膜层的周缘部加工室以及使上述板状部件移动的移动单元，上述周缘部加工室是顶面封闭而对向面开口的中空形状的周缘部加工用飞散防止罩以及具有与上述周缘部加工用飞散防止罩的开口面相同形状的开口面的周缘部加工用吸引罩连结而成的构造体。在上述周缘部加工室中将喷丸用加工喷嘴以该喷嘴的喷射口被上述周缘部加工用飞散防止罩的壁面覆盖的方式配置。
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公开(公告)号：CN102216032A
公开(公告)日：2011-10-12
申请号：CN201080002271.0
申请日：2010-09-10
Applicant: 新东工业株式会社
IPC: B24C9/00
CPC classification number: B24C9/003
Abstract: 本发明提供一种喷射材料回收装置，以及包括该喷射材料回收装置的喷射加工装置，该喷射材料回收装置有效地回收喷射材料并能够使装置(例如产生抽吸力以回收喷射材料的分离装置)的尺寸最小化。(解决问题的方案)喷射加工装置1包括喷射材料回收装置20、散射防止盖21和抽吸装置22，喷射材料回收装置20用于回收由喷射装置10喷射的喷射材料和通过喷射加工由工件产生的灰尘，抽吸装置22抽吸和回收散射在防止盖21内的喷射材料和通过喷射加工由工件产生的灰尘。喷射加工装置通过散射防止盖21防止喷射材料和灰尘的散射，并利用通过间隙T抽吸的作为输送介质的外部空气在靠近工件的位置处抽吸和排出喷射材料和灰尘。因此，喷射材料和灰尘能够被有效地回收。
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