一种多晶硅片制绒方法及制绒液

    公开(公告)号:CN103806107A

    公开(公告)日:2014-05-21

    申请号:CN201210437481.3

    申请日:2012-11-02

    IPC分类号: C30B33/10 C23F1/24

    摘要: 本发明提供一种多晶硅片制绒方法及制绒液。现有技术中仅通过含有氧化剂和氢氟酸的多晶硅片制绒液对多晶硅片进行制绒导致绒面反射率较高,且易导致对缺陷密集区域过腐蚀从而造成强度降低和效率降低。本发明的多晶硅片制绒方法先腐蚀去除多晶硅片表面的损伤层,接着通过去离子水清洗所述多晶硅片,然后通过包括氧化剂、氢氟酸和蒙砂剂的多晶硅片制绒液对所述多晶硅片进行制绒,最后通过包括能够溶解蒙砂剂的成分的清洗液清洗所述多晶硅片。本发明可降低所制得的绒面的反射率,并避免制绒后多晶硅片的强度降低,且能提高对应的太阳电池的转换效率。

    一种太阳电池背面局部接触结构及其制造方法和对应的太阳电池及其制造方法

    公开(公告)号:CN102931278A

    公开(公告)日:2013-02-13

    申请号:CN201210437455.0

    申请日:2012-11-02

    CPC分类号: Y02E10/50 Y02P70/521

    摘要: 本发明提供一种太阳电池背面局部接触结构及其制造方法和对应的太阳电池及其制造方法。现有技术在制造背面局部结构时采用旋涂或喷涂硼聚合物存在着不利于工艺集成、利用效率低和存在毒害危险等问题。本发明的太阳电池背面局部接触结构制造方法和对应太阳电池制造方法,先将硅片清洗、正面扩散制PN结和边缘刻蚀,再在硅片背面沉积钝化层在钝化层上沉积与所述硅片掺杂类型相同的掺杂非晶介质层,之后通过激光辐射硅片背面局部区域以在硅片背面上所述局部区域形成局部重掺区,并在掺杂非晶介质层和钝化层的对应位置上形成开口,最后在硅片背面上形成经由开口与局部重掺区电性连接的背面电极。本发明可有效提高工艺的集成度、源的利用率和操作的安全无毒性。