-
公开(公告)号:CN102666383A
公开(公告)日:2012-09-12
申请号:CN201080051797.8
申请日:2010-11-15
Applicant: 日挥触媒化成株式会社
IPC: C01B33/149 , B32B9/00 , B32B27/00 , B32B27/30 , C09C1/00 , C09C3/12 , C09D4/02 , C09D7/12 , C09D183/04 , C09D183/07 , C09D201/00
CPC classification number: C09J4/00 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C01B32/16 , C01B32/174 , C01P2002/50 , C01P2004/64 , C01P2006/12 , C08K3/22 , C08K3/36 , C08K9/06 , C09C1/0081 , C09C1/3081 , C09D7/62 , C09D7/67 , C09D183/04
Abstract: 本发明提供一种即使在高浓度下也稳定的、在基质成分中的分散性良好的硅铝溶胶及其制造方法。除去硅铝溶胶中存在的来自制造原料的阳离子(碱金属离子),同时减少夹杂离子,将表面负电荷量调节在规定范围内,使用由此得到的二氧化硅·氧化铝粒子,使有机硅化合物预先吸附在粒子表面之后进行水解,从而进行表面处理。
-
公开(公告)号:CN106029798B
公开(公告)日:2019-06-07
申请号:CN201580008556.8
申请日:2015-02-12
Applicant: 日挥触媒化成株式会社
IPC: C09D201/00 , C09D5/02 , C09D7/61
CPC classification number: C09D5/028 , C08J7/047 , C08J2367/02 , C08K3/22 , C08K3/2279 , C08K3/36 , C08K2003/2227 , C08K2003/2231 , C08K2003/2241 , C08K2003/2244 , C08K2003/2296 , C09D5/006 , C09D7/67 , C09D7/68 , C09D7/70 , C09D201/00
Abstract: 本发明的用于形成透明被膜的涂布液中,无机氧化物微粒和树脂乳液分散于含有水和有机溶剂中的至少一种的分散介质中。涂布液的全部固体成分浓度为0.03~70重量%,涂布液中的无机氧化物微粒的浓度(CP)以固体成分计在0.0009~56重量%的范围内,树脂乳液的浓度(CR)以固体成分计在0.006~68重量%的范围内。另外,无机氧化物微粒中所含有的碱金属的固体成分浓度总量以氧化物(Me2O,Me=Li、Na、K)计在1000ppm以下。即使将该涂布液涂布在基材上之后对基材进行拉伸、或是一边拉伸基材一边进行涂布,也能够不出现斑点、膜不均(海岛结构)地提供表面平坦的具有透明被膜的基材。
-
公开(公告)号:CN102666383B
公开(公告)日:2014-07-09
申请号:CN201080051797.8
申请日:2010-11-15
Applicant: 日挥触媒化成株式会社
IPC: C01B33/149 , B32B9/00 , B32B27/00 , B32B27/30 , C09C1/00 , C09C3/12 , C09D4/02 , C09D7/12 , C09D183/04 , C09D183/07 , C09D201/00
CPC classification number: C09J4/00 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C01B32/16 , C01B32/174 , C01P2002/50 , C01P2004/64 , C01P2006/12 , C08K3/22 , C08K3/36 , C08K9/06 , C09C1/0081 , C09C1/3081 , C09D7/62 , C09D7/67 , C09D183/04
Abstract: 本发明提供一种即使在高浓度下也稳定的、在基质成分中的分散性良好的硅铝溶胶及其制造方法。除去硅铝溶胶中存在的来自制造原料的阳离子(碱金属离子),同时减少夹杂离子,将表面负电荷量调节在规定范围内,使用由此得到的二氧化硅·氧化铝粒子,使有机硅化合物预先吸附在粒子表面之后进行水解,从而进行表面处理。
-
公开(公告)号:CN101397422A
公开(公告)日:2009-04-01
申请号:CN200810215004.6
申请日:2008-08-29
Applicant: 日挥触媒化成株式会社
IPC: C09D7/12 , B01J13/00 , C09D183/04 , G02B1/10
Abstract: 本发明涉及改性氧化锆微粒、带硬涂膜的基材及可形成该硬涂膜的涂布液。改性氧化锆微粒是表面被五氧化锑及/或二氧化硅覆盖的氧化锆微粒,在下述条件下测定该氧化锆微粒的表面电位时,其值在-120~-10mV的范围内,条件(1):改性氧化锆微粒分散液的固形成分浓度为1重量%,条件(2):改性氧化锆微粒分散液的pH在2~13的范围内。
-
公开(公告)号:CN104164099B
公开(公告)日:2018-10-02
申请号:CN201410200714.7
申请日:2014-05-13
Applicant: 日挥触媒化成株式会社
IPC: C09C1/28 , C09C3/12 , C09C3/06 , C09D183/04 , C09D183/08 , C09D7/62
Abstract: 本发明涉及改性二氧化硅微粒及其制造方法、薄膜形成用的涂布液、带薄膜的基材、以及光电单元。本发明可实现耐候性高的功能性薄膜。为此,使用包含在表面结合有4官能的有机硅化合物的低聚物的二氧化硅微粒的涂布液,来制备薄膜。这里,低聚物是分子量为1000~10000、单体结合后的形态。表面结合有4官能的有机硅化合物的低聚物的二氧化硅微粒的耐酸性高,包含该二氧化硅微粒的薄膜致密、耐候性高。此外,作为涂布液的粘合剂成分,使用4官能的有机硅化合物。构成低聚物的有机硅化合物与粘合剂成分的有机硅化合物可以是相同的化合物,也可以是不同的化合物。特别是使用二氧化硅中空微粒等低折射率的微粒,可制备防反射膜。
-
公开(公告)号:CN107272333A
公开(公告)日:2017-10-20
申请号:CN201710201624.3
申请日:2017-03-29
Applicant: 日挥触媒化成株式会社
CPC classification number: G03F7/004 , C01P2004/84 , C01P2006/60 , C09C1/3661 , C09C1/3684 , C09C3/006
Abstract: 本发明课题是提供表面处理金属氧化物溶胶及其制造方法,所述表面处理金属氧化物溶胶能够实现兼具高折射率及高透光性、低雾度及珠粒小、高敏感度、高残膜率、高分辨率、高耐擦伤性及高耐气候性的抗蚀剂膜。本发明表面处理金属氧化物溶胶包含经表面处理的金属氧化物粒子和分散介质,所述经表面处理的金属氧化物粒子是在金属氧化物粒子的表面设置规定量的含有(甲基)丙烯酸系基团的有机硅化合物而得到的。金属氧化物粒子含有以TiO2计为50质量%以上的二氧化钛。在经表面处理的金属氧化物粒子上,相对于100质量份金属氧化物粒子而言,设置有以Rn-SiO(4-n)/2计为0.1~60质量份的含有(甲基)丙烯酸系基团的有机硅化合物。
-
公开(公告)号:CN112573526B
公开(公告)日:2024-03-29
申请号:CN202011031633.0
申请日:2020-09-27
Applicant: 日挥触媒化成株式会社
IPC: C01B33/141 , B82Y40/00 , C09D7/62 , C09D133/00 , C08J7/046 , C08L1/12
Abstract: 本发明提供能够得到与基材的粘附性优异、具有高硬度及高强度的透明被膜的涂布液。涂布液中包含的粒子具有包含二氧化硅的致密外壳并且在其外壳的内侧具有空洞。粒子的平均粒径(D)为20~250nm,空洞的直径为粒子直径的0.5~0.9倍,粒子的利用N2吸附法的孔容小于1.0cm3/g,粒子的折射率(na)为1.08~1.34,利用式(1)求出的所述外壳的折射率(nS)为1.38以上。使用该涂布液后的带透明被膜的基材具有高硬度及高强度,尤其是对防止反射有用。
-
公开(公告)号:CN116724362A
公开(公告)日:2023-09-08
申请号:CN202280009989.5
申请日:2022-01-27
Applicant: 日挥触媒化成株式会社
IPC: H01B1/20
Abstract: 本发明提供一种即使在低pH区域内也具有良好分散稳定性的链状粒子的分散液。即,是ATO粒子连接而成的链状粒子的分散液,ATO粒子的平均粒径为5nm~20nm,链状粒子含有氧化硅,链状粒子的平均连接数为3~40,链状粒子的等电点小于pH2.0。根据使用这样的链状粒子的分散液制备的涂料,即使粒子的含量少,也能够形成表面电阻值低、与基材的粘着性优异的膜。此外,该链状粒子含有氧化锡和氧化锑,相对于它们的总和,优选含有氧化硅0.5重量%~10重量%、氧化锡70重量%~95重量%以及氧化锑4.5重量%~29.5重量%。
-
公开(公告)号:CN107272333B
公开(公告)日:2022-08-09
申请号:CN201710201624.3
申请日:2017-03-29
Applicant: 日挥触媒化成株式会社
Abstract: 本发明课题是提供表面处理金属氧化物溶胶及其制造方法,所述表面处理金属氧化物溶胶能够实现兼具高折射率及高透光性、低雾度及珠粒小、高敏感度、高残膜率、高分辨率、高耐擦伤性及高耐气候性的抗蚀剂膜。本发明表面处理金属氧化物溶胶包含经表面处理的金属氧化物粒子和分散介质,所述经表面处理的金属氧化物粒子是在金属氧化物粒子的表面设置规定量的含有(甲基)丙烯酸系基团的有机硅化合物而得到的。金属氧化物粒子含有以TiO2计为50质量%以上的二氧化钛。在经表面处理的金属氧化物粒子上,相对于100质量份金属氧化物粒子而言,设置有以Rn‑SiO(4‑n)/2计为0.1~60质量份的含有(甲基)丙烯酸系基团的有机硅化合物。
-
公开(公告)号:CN112573526A
公开(公告)日:2021-03-30
申请号:CN202011031633.0
申请日:2020-09-27
Applicant: 日挥触媒化成株式会社
IPC: C01B33/141 , B82Y40/00 , C09D7/62 , C09D133/00 , C08J7/046 , C08L1/12
Abstract: 本发明提供能够得到与基材的粘附性优异、具有高硬度及高强度的透明被膜的涂布液。涂布液中包含的粒子具有包含二氧化硅的致密外壳并且在其外壳的内侧具有空洞。粒子的平均粒径(D)为20~250nm,空洞的直径为粒子直径的0.5~0.9倍,粒子的利用N2吸附法的孔容小于1.0cm3/g,粒子的折射率(na)为1.08~1.34,利用式(1)求出的所述外壳的折射率(nS)为1.38以上。使用该涂布液后的带透明被膜的基材具有高硬度及高强度,尤其是对防止反射有用。
-
-
-
-
-
-
-
-
-