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公开(公告)号：CN104870183B
公开(公告)日：2016-12-07
申请号：CN201380067551.3
申请日：2013-12-24
Applicant: 日挥触媒化成株式会社
CPC classification number: C09K3/18 , B05D7/50 , B32B3/30 , B32B9/00 , B32B2307/412 , B32B2307/73 , B32B2605/00 , C03C17/3411 , C03C2217/42 , C03C2217/76 , Y10T428/24364
Abstract: 本发明提供拒水性高、与基材的密合性、耐磨损性、耐擦伤性等提高了的拒水性透明被膜。一种带有拒水性透明被膜的基材，其特征是，由基材、和该基材表面的拒水性透明被膜构成，上述拒水性透明被膜由包含无机氧化物微粒的无机氧化物微粒层、和该无机氧化物微粒层上的保护涂层构成，拒水性透明被膜表面具有凹凸结构，该凸部的平均高度(TF)在30～500nm的范围，平均凸部间距离(间距宽度)(WF)在50～1000nm的范围，与水的接触角在130～180°的范围。上述平均高度(TF)和上述平均凸部间距离(WF)的比值(TF)/(WF)在0.1～10的范围。上述凹凸结构的凸部的表面还具有微细凹凸，该微细凸部的平均高度(TFF)在3～50nm的范围，平均凸部间距离(WFF)比上述凸部的平均凸部间距离(WF)小，且在3～50nm的范围。
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公开(公告)号：CN103515457A
公开(公告)日：2014-01-15
申请号：CN201310256586.3
申请日：2013-06-25
Applicant: 日挥触媒化成株式会社
IPC: H01L31/0216 , H01L31/04
CPC classification number: Y02E10/542 , Y02P70/521 , H01G9/209 , H01G9/2036
Abstract: 本发明涉及带防反射膜的基材的制造方法及光电池。本发明提供硬度高且裂纹、擦伤等的发生得到抑制的带防反射膜的基材的制造方法。该带防反射膜的基材由形成于基材上的高折射率层、和形成于该高折射率层上的低折射率层构成，所述制造方法包括下述的工序(a)～(e)：(a)在基材上涂布分散液，该分散液是包含1～1000ppm的碱性氮化合物、且折射率在1.50～2.40的范围内的高折射率金属氧化物粒子的分散液；(b)在低于碱性氮化合物的沸点的温度下除去分散介质；(c)涂布低折射率层形成成分分散液；(d)在除去分散介质后，(e)在120～700℃下进行加热处理。
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公开(公告)号：CN111801390B
公开(公告)日：2022-07-05
申请号：CN201980016947.2
申请日：2019-03-29
Applicant: 日挥触媒化成株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够得到脱模性以及与基材的粘附性优异的膜的涂布液。其为包含具有反应性基团的氟系低聚物、固化性低聚物以及有机溶剂的涂布液。在此，有机溶剂的溶解参数(SP值)为11[(cal/cm3)1/2]以下，氟系低聚物的表面张力(STA[mN/m])与固化性低聚物的表面张力(STB[mN/m])满足以下的式子：STA≤22；28≤STB≤32；STB－STA≥7.5。
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公开(公告)号：CN103515457B
公开(公告)日：2017-08-25
申请号：CN201310256586.3
申请日：2013-06-25
Applicant: 日挥触媒化成株式会社
IPC: H01L31/0216 , H01L31/04
CPC classification number: Y02E10/542 , Y02P70/521
Abstract: 本发明涉及带防反射膜的基材的制造方法及光电池。本发明提供硬度高且裂纹、擦伤等的发生得到抑制的带防反射膜的基材的制造方法。该带防反射膜的基材由形成于基材上的高折射率层、和形成于该高折射率层上的低折射率层构成，所述制造方法包括下述的工序(a)～(e)：(a)在基材上涂布分散液，该分散液是包含1～1000ppm的碱性氮化合物、且折射率在1.50～2.40的范围内的高折射率金属氧化物粒子的分散液；(b)在低于碱性氮化合物的沸点的温度下除去分散介质；(c)涂布低折射率层形成成分分散液；(d)在除去分散介质后，(e)在120～700℃下进行加热处理。
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公开(公告)号：CN111801390A
公开(公告)日：2020-10-20
申请号：CN201980016947.2
申请日：2019-03-29
Applicant: 日挥触媒化成株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够得到脱模性以及与基材的粘附性优异的膜的涂布液。其为包含具有反应性基团的氟系低聚物、固化性低聚物以及有机溶剂的涂布液。在此，有机溶剂的溶解参数(SP值)为11[(cal/cm3)1/2]以下，氟系低聚物的表面张力(STA[mN/m])与固化性低聚物的表面张力(STB[mN/m])满足以下的式子：STA≤22；28≤STB≤32；STB－STA≥7.5。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106164190B
公开(公告)日：2020-05-01
申请号：CN201580017788.X
申请日：2015-03-30
Applicant: 日挥触媒化成株式会社
IPC: C09D201/00 , B32B27/20 , B32B27/30 , C08F290/06 , C08J7/04 , C09D4/00 , C09D7/61
Abstract: 本发明提供一种即使基材是树脂基材也硬度高、即使为厚膜也膜收缩小、且没有裂纹、翘曲受到抑制、硬度高的透明被膜。本发明的透明被膜形成用的涂布液是含有平均粒径在5～300nm范围内的金属氧化物粒子和基质形成成分的透明被膜形成用的涂布液，基质形成成分由具有2个以下官能团的第一有机树脂和具有3个以上官能团的第二有机树脂构成，金属氧化物粒子的浓度(CP)以固体成分计为45～90重量％，基质形成成分的浓度(CR)以固体成分计为10～50重量％，总固体成分浓度(CT)在60重量％以上，浓度(CR)与浓度(CP)之比(CR/CP)在0.11～1.0的范围内。
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公开(公告)号：CN107129713A
公开(公告)日：2017-09-05
申请号：CN201710111078.4
申请日：2017-02-27
Applicant: 日挥触媒化成株式会社
CPC classification number: C09D4/00 , C08K3/22 , C08K3/36 , C08K9/06 , C08K2003/2227
Abstract: 本发明涉及透明被膜形成用涂布液及具有透明被膜的基材。本发明提供可形成即使为薄基材时卷曲也能被抑制、且硬度及耐擦伤性高的透明被膜的涂布液。该涂布液包含经表面处理的金属氧化物粒子、环氧烷烃改性(甲基)丙烯酸酯树脂和有机溶剂。环氧烷烃改性(甲基)丙烯酸酯树脂是(甲基)丙烯酸酯官能团数为3～10、环氧烷烃基团数为3～40的多官能丙烯酸酯单体树脂。上述金属氧化物粒子中，相对于100质量份金属氧化物粒子，含有以Rn‑SiO(4‑n)/2计为0.1～50质量份的有机硅化合物。上述金属氧化物粒子具有5～500nm的平均粒径，且以相对于环氧烷烃改性(甲基)丙烯酸酯树脂与经表面处理的金属氧化物粒子的固态成分的总量为30～90质量％的量被包含在涂布液中。
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公开(公告)号：CN102533098B
公开(公告)日：2017-04-12
申请号：CN201110428362.7
申请日：2011-12-19
Applicant: 日挥触媒化成株式会社
IPC: C09D183/00 , C09D133/00 , C09D7/12 , B32B9/04
Abstract: 本发明提供用于形成平坦性高、耐白化性、耐水性、耐化学品性等优良的透明被膜的涂布液及带该透明被膜的基材。透明被膜形成用涂布液是由基质形成成分和金属氧化物微粒和溶剂构成的透明被膜形成用涂布液，其特征在于，含有作为均化剂的平均分子量在5000～30000的范围的丙烯酸‑有机硅系树脂，且均化剂的含量以固体成分计在0.001～7.2重量％的范围。带透明被膜的基材由基材和形成于基材上的透明被膜构成，该透明被膜由基质成分和金属氧化物微粒形成，还含有作为均化剂的平均分子量在5000～30000的范围的丙烯酸‑有机硅系树脂，该基质成分的含量以固体成分计在20～99.5重量％的范围，该金属氧化物微粒的含量以固体成分计在0.5～80重量％的范围。
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公开(公告)号：CN102408798A
公开(公告)日：2012-04-11
申请号：CN201110212725.3
申请日：2011-07-19
Applicant: 日挥触媒化成株式会社
IPC: C09D133/00 , C09D5/24 , B32B23/08 , B32B27/18
Abstract: 本发明提供导电性无机氧化物微粒的掺入量少的情况下也能够具有高导电性，透明性高，着色以及干涉条纹被抑制，经济性也良好的可形成带透明被膜的基材的透明被膜形成用涂布液。本发明的透明被膜形成用涂布液含有导电性无机氧化物微粒、基质形成成分以及分散介质，所述导电性无机氧化物微粒经以下述式(1)表示的有机硅化合物表面处理而形成，分散介质含有酮类，总固体成分的浓度在1-60质量％的范围内，表面处理了的导电性无机氧化物微粒为非凝聚且高分散，其作为固体成分的浓度在0.01-6质量％的范围内，基质形成成分的固体成分的浓度在0.1-59.4质量％的范围内，获得的透明被膜中导电性无机氧化物微粒能形成为链状结构，Rn-SiX4-n (1)其中，R为碳数1-10的非取代或取代的烃基，相互相同或不同，X：碳数1-4的烷氧基、羟基、卤素、氢、n：0-3的整数。
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公开(公告)号：CN102408798B
公开(公告)日：2016-12-14
申请号：CN201110212725.3
申请日：2011-07-19
Applicant: 日挥触媒化成株式会社
IPC: C09D133/00 , C09D5/24 , B32B23/08 , B32B27/18
Abstract: 本发明提供导电性无机氧化物微粒的掺入量少的情况下也能够具有高导电性，透明性高，着色以及干涉条纹被抑制，经济性也良好的可形成带透明被膜的基材的透明被膜形成用涂布液。本发明的透明被膜形成用涂布液含有导电性无机氧化物微粒、基质形成成分以及分散介质，所述导电性无机氧化物微粒经以下述式(1)表示的有机硅化合物表面处理而形成，分散介质含有酮类，总固体成分的浓度在1-60质量％的范围内，表面处理了的导电性无机氧化物微粒为非凝聚且高分散，其作为固体成分的浓度在0.01-6质量％的范围内，基质形成成分的固体成分的浓度在0.1-59.4质量％的范围内，获得的透明被膜中导电性无机氧化物微粒能形成为链状结构，Rn-SiX4-n (1)其中，R为碳数1-10的非取代或取代的烃基，相互相同或不同，X：碳数1-4的烷氧基、羟基、卤素、氢、n：0-3的整数。
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