公开(公告)号：CN104870183B

公开(公告)日：2016-12-07

申请号：CN201380067551.3

申请日：2013-12-24

Applicant: 日挥触媒化成株式会社

Inventor： 箱嶋夕子 ,  松田政幸 ,  村口良 ,  江上和孝 ,  小柳嗣雄 ,  熊泽光章 ,  吉田聪 ,  俵迫祐二

IPC: B32B9/00 ,  B32B3/30 ,  C03C17/34

CPC classification number: C09K3/18 ,  B05D7/50 ,  B32B3/30 ,  B32B9/00 ,  B32B2307/412 ,  B32B2307/73 ,  B32B2605/00 ,  C03C17/3411 ,  C03C2217/42 ,  C03C2217/76 ,  Y10T428/24364

Abstract: 本发明提供拒水性高、与基材的密合性、耐磨损性、耐擦伤性等提高了的拒水性透明被膜。一种带有拒水性透明被膜的基材，其特征是，由基材、和该基材表面的拒水性透明被膜构成，上述拒水性透明被膜由包含无机氧化物微粒的无机氧化物微粒层、和该无机氧化物微粒层上的保护涂层构成，拒水性透明被膜表面具有凹凸结构，该凸部的平均高度(TF)在30～500nm的范围，平均凸部间距离(间距宽度)(WF)在50～1000nm的范围，与水的接触角在130～180°的范围。上述平均高度(TF)和上述平均凸部间距离(WF)的比值(TF)/(WF)在0.1～10的范围。上述凹凸结构的凸部的表面还具有微细凹凸，该微细凸部的平均高度(TFF)在3～50nm的范围，平均凸部间距离(WFF)比上述凸部的平均凸部间距离(WF)小，且在3～50nm的范围。

公开(公告)号：CN103515457A

公开(公告)日：2014-01-15

申请号：CN201310256586.3

申请日：2013-06-25

Applicant: 日挥触媒化成株式会社

Inventor： 箱嶋夕子 ,  松田政幸 ,  村口良

IPC: H01L31/0216 ,  H01L31/04

CPC classification number: Y02E10/542 ,  Y02P70/521 ,  H01G9/209 ,  H01G9/2036

Abstract: 本发明涉及带防反射膜的基材的制造方法及光电池。本发明提供硬度高且裂纹、擦伤等的发生得到抑制的带防反射膜的基材的制造方法。该带防反射膜的基材由形成于基材上的高折射率层、和形成于该高折射率层上的低折射率层构成，所述制造方法包括下述的工序(a)～(e)：(a)在基材上涂布分散液，该分散液是包含1～1000ppm的碱性氮化合物、且折射率在1.50～2.40的范围内的高折射率金属氧化物粒子的分散液；(b)在低于碱性氮化合物的沸点的温度下除去分散介质；(c)涂布低折射率层形成成分分散液；(d)在除去分散介质后，(e)在120～700℃下进行加热处理。

公开(公告)号：CN100519414C

公开(公告)日：2009-07-29

申请号：CN200480012704.5

申请日：2004-05-12

Applicant: 日挥触媒化成株式会社

Inventor： 熊泽光章 ,  松田政幸 ,  平井俊晴

IPC: C01B33/145 ,  C09D1/00

CPC classification number: C09D1/00

Abstract: 本发明提供能形成不仅具有优秀的刮痕耐受性、膜硬度、刮痕强度和与底材的附着性，还具有优秀的混浊度和抗眩光性能的透明膜的透明成膜涂布液，本发明也提供一种显示装置，该显示装置具有的面板由具有这种透明膜的底材构成。透明成膜涂布液含有无机氧化物颗粒团聚物和极性溶剂，各团聚物中平均有2到10个无机氧化物颗粒连接成链。在透明成膜涂布液中，无机氧化物颗粒的平均粒径为4到200nm。无机氧化物颗粒是二氧化硅颗粒，二氧化硅颗粒是多孔颗粒和/或具有内腔的空心颗粒。

公开(公告)号：CN101397422A

公开(公告)日：2009-04-01

申请号：CN200810215004.6

申请日：2008-08-29

Applicant: 日挥触媒化成株式会社

Inventor： 村口良 ,  熊泽光章 ,  二神涉 ,  俵迫祐二 ,  松田政幸 ,  平井俊晴

IPC: C09D7/12 ,  B01J13/00 ,  C09D183/04 ,  G02B1/10

Abstract: 本发明涉及改性氧化锆微粒、带硬涂膜的基材及可形成该硬涂膜的涂布液。改性氧化锆微粒是表面被五氧化锑及/或二氧化硅覆盖的氧化锆微粒，在下述条件下测定该氧化锆微粒的表面电位时，其值在－120～－10mV的范围内，条件(1)：改性氧化锆微粒分散液的固形成分浓度为1重量％，条件(2)：改性氧化锆微粒分散液的pH在2～13的范围内。

公开(公告)号：CN103515457B

公开(公告)日：2017-08-25

申请号：CN201310256586.3

申请日：2013-06-25

Applicant: 日挥触媒化成株式会社

Inventor： 箱嶋夕子 ,  松田政幸 ,  村口良 ,  小松通郎

IPC: H01L31/0216 ,  H01L31/04

CPC classification number: Y02E10/542 ,  Y02P70/521

Abstract: 本发明涉及带防反射膜的基材的制造方法及光电池。本发明提供硬度高且裂纹、擦伤等的发生得到抑制的带防反射膜的基材的制造方法。该带防反射膜的基材由形成于基材上的高折射率层、和形成于该高折射率层上的低折射率层构成，所述制造方法包括下述的工序(a)～(e)：(a)在基材上涂布分散液，该分散液是包含1～1000ppm的碱性氮化合物、且折射率在1.50～2.40的范围内的高折射率金属氧化物粒子的分散液；(b)在低于碱性氮化合物的沸点的温度下除去分散介质；(c)涂布低折射率层形成成分分散液；(d)在除去分散介质后，(e)在120～700℃下进行加热处理。

公开(公告)号：CN103922397B

公开(公告)日：2017-05-31

申请号：CN201310014575.4

申请日：2013-01-15

Applicant: 日挥触媒化成株式会社

Inventor： 山口纯 ,  松田政幸 ,  村口良

IPC: C01G25/02

Abstract: 本发明提供分散性、流动性优异的改性氧化锆微粒粉末、改性氧化锆微粒分散溶胶及其制造方法，该粉末是经有机硅化合物表面处理的改性氧化锆微粒的粉末，其特征在于，平均二次粒径(DM2)在5～500nm的范围、平均一次粒径(DM1)在5～500nm的范围、平均二次粒径(DM2)与平均一次粒径(DM1)之比(DM2)/(DM1)在1～10的范围。所述有机硅化合物为下式(1)表示的有机硅化合物，该微粒中的有机硅化合物的含量以Rn‑SiO(4‑n)/2(n为1～3的整数)计为1～50重量%的范围，29Si MAS NMR谱的主峰的半宽度在3～15ppm的范围。Rn‑SiX4‑n (1)(式中，R为碳数1～10的非取代或取代烃基，可以互相相同或不同。X：碳数1～4的烷氧基、羟基、卤素、氢，n：1～3的整数)。

公开(公告)号：CN106029798A

公开(公告)日：2016-10-12

申请号：CN201580008556.8

申请日：2015-02-12

Applicant: 日挥触媒化成株式会社

Inventor： 二神涉 ,  松田政幸 ,  村口良

IPC: C09D201/00 ,  C09D5/02 ,  C09D7/12

CPC classification number: C09D5/028 ,  C08J7/047 ,  C08J2367/02 ,  C08K3/22 ,  C08K3/2279 ,  C08K3/36 ,  C08K2003/2227 ,  C08K2003/2231 ,  C08K2003/2241 ,  C08K2003/2244 ,  C08K2003/2296 ,  C09D5/006 ,  C09D7/67 ,  C09D7/68 ,  C09D7/70 ,  C09D201/00

Abstract: 本发明的用于形成透明被膜的涂布液中，无机氧化物微粒和树脂乳液分散于含有水和有机溶剂中的至少一种的分散介质中。涂布液的全部固体成分浓度为0.03～70重量％，涂布液中的无机氧化物微粒的浓度(CP)以固体成分计在0.0009～56重量％的范围内，树脂乳液的浓度(CR)以固体成分计在0.006～68重量％的范围内。另外，无机氧化物微粒中所含有的碱金属的固体成分浓度总量以氧化物(Me2O，Me＝Li、Na、K)计在1000ppm以下。即使将该涂布液涂布在基材上之后对基材进行拉伸、或是一边拉伸基材一边进行涂布，也能够不出现斑点、膜不均(海岛结构)地提供表面平坦的具有透明被膜的基材。

公开(公告)号：CN104164099A

公开(公告)日：2014-11-26

申请号：CN201410200714.7

申请日：2014-05-13

Applicant: 日挥触媒化成株式会社

Inventor： 二神涉 ,  松田政幸 ,  村口良 ,  平井俊晴

IPC: C09C1/28 ,  C09C3/12 ,  C09C3/06 ,  C09D183/04 ,  C09D183/08 ,  C09D7/12

Abstract: 本发明涉及改性二氧化硅微粒及其制造方法、薄膜形成用的涂布液、带薄膜的基材、以及光电单元。本发明可实现耐候性高的功能性薄膜。为此，使用包含在表面结合有4官能的有机硅化合物的低聚物的二氧化硅微粒的涂布液，来制备薄膜。这里，低聚物是分子量为1000～10000、单体结合后的形态。表面结合有4官能的有机硅化合物的低聚物的二氧化硅微粒的耐酸性高，包含该二氧化硅微粒的薄膜致密、耐候性高。此外，作为涂布液的粘合剂成分，使用4官能的有机硅化合物。构成低聚物的有机硅化合物与粘合剂成分的有机硅化合物可以是相同的化合物，也可以是不同的化合物。特别是使用二氧化硅中空微粒等低折射率的微粒，可制备防反射膜。

公开(公告)号：CN101397422B

公开(公告)日：2012-12-26

申请号：CN200810215004.6

申请日：2008-08-29

Applicant: 日挥触媒化成株式会社

Inventor： 村口良 ,  熊泽光章 ,  二神涉 ,  俵迫祐二 ,  松田政幸 ,  平井俊晴

IPC: C09D7/12 ,  B01J13/00 ,  C09D183/04 ,  G02B1/10

Abstract: 本发明涉及改性氧化锆微粒、带硬涂膜的基材及可形成该硬涂膜的涂布液。改性氧化锆微粒是表面被五氧化锑及/或二氧化硅覆盖的氧化锆微粒，在下述条件下测定该氧化锆微粒的表面电位时，其值在-120～-10mV的范围内，条件(1)：改性氧化锆微粒分散液的固形成分浓度为1重量％，条件(2)：改性氧化锆微粒分散液的pH在2～13的范围内。

公开(公告)号：CN103897470B

公开(公告)日：2018-04-03

申请号：CN201310728112.4

申请日：2013-12-25

Applicant: 日挥触媒化成株式会社

Inventor： 箱嶋夕子 ,  松田政幸 ,  村口良 ,  平井俊晴

IPC: C09D7/61 ,  B32B33/00

Abstract: 本发明提供了一种附有硬质涂膜的基材，该硬质涂膜具有防粘连性、同时翘曲得以抑制。本发明所涉及的附有硬质涂膜的基材的特征在于，由基材和形成于该基材上的硬质涂膜构成，该硬质涂膜由（i）金属氧化物微粒（A）簇（CL）、（ii）基质成分和（iii）簇形成剂构成，至少一部分簇（CL）以在硬质涂膜表面形成凸部的形式存在，该硬质涂膜具有15～200nm的高度范围内的凸部（H凸）。此外，本发明所涉及的硬质涂膜形成用涂布液的特征在于，包含金属氧化物微粒（A）、基质形成成分、簇形成剂和分散介质，且所述金属氧化物微粒（A）浓度（CA）以固体成分计在0.025～48重量份的范围内，所述基质形成成分的浓度（CM）以固体成分计在1～59.7重量份的范围内，所述簇形成剂的浓度（CCL）以固体成分计在0.0005～6重量％的范围内，总固体成分浓度在1～60重量％的范围内，金属氧化物微粒（A）形成簇（CLP）。