公开(公告)号：CN100478292C

公开(公告)日：2009-04-15

申请号：CN200510054846.4

申请日：2001-06-20

Applicant: 日挥触媒化成株式会社

Inventor： 伊藤武夫 ,  松田秀三 ,  大谷义美 ,  油井和彦 ,  平井俊晴 ,  西田广泰 ,  小松通郎

IPC: C03C17/00 ,  C03C17/34 ,  C03C17/36

CPC classification number: C03C17/3655 ,  C03C17/007 ,  C03C17/34 ,  C03C17/36 ,  C03C17/3676 ,  C03C2217/425 ,  C03C2217/445 ,  C03C2217/475 ,  C03C2217/76 ,  C03C2217/78 ,  Y10T428/249953 ,  Y10T428/249962 ,  Y10T428/249998 ,  Y10T428/25 ,  Y10T428/2982 ,  Y10T428/2984 ,  Y10T428/2991 ,  Y10T428/2993 ,  Y10T428/2995 ,  Y10T428/2996 ,  Y10T428/2998

Abstract: 提供了一种无机化合物颗粒，它包括：壳，以及封入壳中的多孔物质或空腔。还提供了制备所述无机化合物颗粒的方法，它包括以下步骤：分别制备二氧化硅源(原材料)和非二氧化硅无机化合物源(原材料)的碱性水溶液，或者预先制备二氧化硅源和非二氧化硅无机化合物源的混合物的水溶液；从多孔材料前体颗粒中至少部分地将非二氧化硅的无机化合物(除了硅和氧以外的元素)选择性地除去；将可水解的有机硅化合物或硅酸溶液加入步骤2中制得的多孔材料颗粒(包括壳中有空腔的颗粒的前体)的分散液中。

公开(公告)号：CN110582465A

公开(公告)日：2019-12-17

申请号：CN201880026476.9

申请日：2018-05-23

Applicant: 日挥触媒化成株式会社

Inventor： 小松通郎 ,  西田广泰 ,  俵迫祐二 ,  碓田真也 ,  中山和洋

IPC: C01B33/12 ,  B24B37/00 ,  C01F17/00 ,  C09G1/02 ,  C09K3/14 ,  H01L21/304

Abstract: 本发明的课题在于提供即使对于二氧化硅膜、Si晶片、难加工材料也能够高速地进行研磨、同时能够实现高面精度的氧化铈系复合粒子分散液。通过氧化铈系复合微粒分散液，从而解决了上述课题，所述氧化铈系复合微粒分散液包含具备下述特征的平均粒径为50～350nm的氧化铈系复合微粒。氧化铈系复合微粒具有母粒、含有铈的二氧化硅层、子粒和包含易溶解性二氧化硅的层，母粒以非晶质二氧化硅作为主成分，子粒以结晶性氧化铈作为主成分。包含易溶解性二氧化硅的层的质量相对于氧化铈系复合微粒的质量而言的比例在特定范围内。就氧化铈系复合微粒而言，二氧化硅与氧化铈的质量比在特定范围内。氧化铈系复合微粒供于X射线衍射时，仅检测到氧化铈的结晶相。氧化铈系复合微粒供于X射线衍射而测得的结晶性氧化铈的平均微晶直径为10～25nm。

公开(公告)号：CN110177852B

公开(公告)日：2021-12-14

申请号：CN201780083133.1

申请日：2017-12-28

Applicant: 日挥触媒化成株式会社

Inventor： 小松通郎 ,  岩崎幸博 ,  西田广泰 ,  俵迫祐二 ,  中山和洋

IPC: C09K3/14 ,  B24B37/00 ,  C01B33/18 ,  C01F17/235 ,  C01F17/10 ,  C08B15/04 ,  C08J5/14 ,  C09G1/02 ,  H01L21/304

Abstract: 本发明的课题为提供研磨组合物，通过针对形成有二氧化硅等覆膜的衬底使用不产生缺陷的磨粒而增加机械性摩擦效果，从而能够以高速进行研磨，同时能够实现低擦伤等高面精度。解决手段为研磨组合物，其包含磨粒、纤维素单元的C6位的羟基的至少一部分被氧化为羧基而得到的改性微纤维纤维素、以及分散介质，并且Na及K的各含量相对于固态成分重量而言为100ppm以下。

公开(公告)号：CN110582465B

公开(公告)日：2022-11-04

申请号：CN201880026476.9

申请日：2018-05-23

Applicant: 日挥触媒化成株式会社

Inventor： 小松通郎 ,  西田广泰 ,  俵迫祐二 ,  碓田真也 ,  中山和洋

IPC: C01B33/12 ,  B24B37/00 ,  C01F17/235 ,  C01F17/10 ,  C09G1/02 ,  C09K3/14 ,  H01L21/304

Abstract: 本发明的课题在于提供即使对于二氧化硅膜、Si晶片、难加工材料也能够高速地进行研磨、同时能够实现高面精度的氧化铈系复合粒子分散液。通过氧化铈系复合微粒分散液，从而解决了上述课题，所述氧化铈系复合微粒分散液包含具备下述特征的平均粒径为50～350nm的氧化铈系复合微粒。氧化铈系复合微粒具有母粒、含有铈的二氧化硅层、子粒和包含易溶解性二氧化硅的层，母粒以非晶质二氧化硅作为主成分，子粒以结晶性氧化铈作为主成分。包含易溶解性二氧化硅的层的质量相对于氧化铈系复合微粒的质量而言的比例在特定范围内。就氧化铈系复合微粒而言，二氧化硅与氧化铈的质量比在特定范围内。氧化铈系复合微粒供于X射线衍射时，仅检测到氧化铈的结晶相。氧化铈系复合微粒供于X射线衍射而测得的结晶性氧化铈的平均微晶直径为10～25nm。

公开(公告)号：CN110177852A

公开(公告)日：2019-08-27

申请号：CN201780083133.1

申请日：2017-12-28

Applicant: 日挥触媒化成株式会社

Inventor： 小松通郎 ,  岩崎幸博 ,  西田广泰 ,  俵迫祐二 ,  中山和洋

IPC: C09K3/14 ,  B24B37/00 ,  C01B33/18 ,  C01F17/00 ,  C08B15/04 ,  C08J5/14 ,  C09G1/02 ,  H01L21/304

Abstract: 本发明的课题为提供研磨组合物，通过针对形成有二氧化硅等覆膜的衬底使用不产生缺陷的磨粒而增加机械性摩擦效果，从而能够以高速进行研磨，同时能够实现低擦伤等高面精度。解决手段为研磨组合物，其包含磨粒、纤维素单元的C6位的羟基的至少一部分被氧化为羧基而得到的改性微纤维纤维素、以及分散介质，并且Na及K的各含量相对于固态成分重量而言为100ppm以下。