公开(公告)号：CN106513375A

公开(公告)日：2017-03-22

申请号：CN201510681637.6

申请日：2015-10-20

Applicant: 日月光半导体制造股份有限公司

Inventor： 钟旻华 ,  杨秉丰 ,  邱咏达 ,  王建仁 ,  李秋雯 ,  魏致高

IPC: B08B3/12 ,  B08B3/02 ,  B08B3/08 ,  C11D7/60 ,  C11D7/18 ,  C11D7/08

CPC classification number: B08B3/12 ,  B08B3/02 ,  B08B3/08 ,  C11D7/02 ,  C11D7/08

Abstract: 本发明有关于一种清洗装置、清洗待清洗工件的方法以及清洗IC衬底传送滚轮的清洗液及方法。所述清洗装置包含第一槽、第二槽、第三槽及第四槽，其中所述第一槽包含第一槽体及至少一个第一超声波震荡器，所述第二槽包含第二槽体及至少一个高压喷洗设备，所述第三槽包含第三槽体及至少一个第三超声波震荡器，所述第四槽包含第四槽体及至少一个第四超声波震荡器。