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公开(公告)号：CN110176379B
公开(公告)日：2024-04-30
申请号：CN201910126745.5
申请日：2019-02-20
Applicant: 日本株式会社日立高新技术科学
IPC: H01J37/305 , H01J37/244
Abstract: 提供带电粒子束装置和试样加工观察方法。提供如下的带电粒子束装置和使用该带电粒子束装置的试样加工观察方法，该带电粒子束装置具备镓离子束镜筒、具有半浸没透镜型的物镜的电子束镜筒和气体离子束镜筒，能够在短时间内高效地进行试样的精加工和试样加工面的高精度的SEM像取得。带电粒子束装置的特征在于，所述带电粒子束装置至少具有：镓离子束镜筒，其朝向试样照射镓离子束，形成所述试样的截面；电子束镜筒，其具有半浸没透镜型的物镜，朝向试样照射电子束；以及气体离子束镜筒，其朝向所述试样的截面照射气体离子束，进行所述试样的截面的精加工，所述气体离子束具有比所述试样的截面的最大直径大的波束直径。
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公开(公告)号：CN111081515B
公开(公告)日：2024-01-30
申请号：CN201910898398.8
申请日：2019-09-23
Applicant: 日本株式会社日立高新技术科学
IPC: H01J37/26 , H01J37/28 , G01N23/2251 , G01N23/2202
Abstract: 提供带电粒子束装置和试样加工观察方法，不用变更载台的尺寸便能够缩小电子束镜筒与试样之间的距离，从而得到高分辨率的SEM图像，并且能够得到正对试样的观察面的SEM图像。具有如下的工序：试样片形成工序，对所述试样照射聚焦离子束而从试样切出试样片；截面加工工序，利用试样片支承体对试样片进行支承，对试样片的截面照射聚焦离子束而进行截面的加工；试样片接近移动工序，利用试样片支承体对试样片进行支承，使试样片移动到比聚焦离子束的束光轴与电子束的束光轴的交点更接近电子束镜筒的位置；以及SEM图像取得工序，朝向试样片的所述截面照射电子束，从而取得截面的SEM图像。
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公开(公告)号：CN110176379A
公开(公告)日：2019-08-27
申请号：CN201910126745.5
申请日：2019-02-20
Applicant: 日本株式会社日立高新技术科学
IPC: H01J37/305 , H01J37/244
Abstract: 提供带电粒子束装置和试样加工观察方法。提供如下的带电粒子束装置和使用该带电粒子束装置的试样加工观察方法，该带电粒子束装置具备镓离子束镜筒、具有半浸没透镜型的物镜的电子束镜筒和气体离子束镜筒，能够在短时间内高效地进行试样的精加工和试样加工面的高精度的SEM像取得。带电粒子束装置的特征在于，所述带电粒子束装置至少具有：镓离子束镜筒，其朝向试样照射镓离子束，形成所述试样的截面；电子束镜筒，其具有半浸没透镜型的物镜，朝向试样照射电子束；以及气体离子束镜筒，其朝向所述试样的截面照射气体离子束，进行所述试样的截面的精加工，所述气体离子束具有比所述试样的截面的最大直径大的波束直径。
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公开(公告)号：CN103257067A
公开(公告)日：2013-08-21
申请号：CN201310054653.3
申请日：2013-02-20
Applicant: 日本株式会社日立高新技术科学
Inventor： 铃木秀和
CPC classification number: H01J37/3053 , G01N1/32 , H01J2237/30455 , H01J2237/30488 , H01J2237/31745
Abstract: 本发明提供了一种样本制备方法和装置。样本制备方法包括：在显示屏幕上显示样本的第一截面的SEM图像的同时，通过扫描并照射聚焦离子束对第一截面进行蚀刻处理，从而暴露第二截面；以及在显示屏幕上显示另一截面的SEM图像的同时，在执行聚焦离子束的扫描和照射的同时改变聚焦离子束的扫描方向并对第二截面进行蚀刻处理，从而暴露样本的期望的截面。
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公开(公告)号：CN103245548B
公开(公告)日：2017-06-06
申请号：CN201310050889.X
申请日：2013-02-08
Applicant: 日本株式会社日立高新技术科学
IPC: G01N1/32
CPC classification number: C23C16/486 , G01N1/28 , G01N1/32 , H01J2237/31745
Abstract: 本发明提供了一种TEM样本制备方法。TEM样本制备方法包括：将薄片样本放置在样本支架上从而该薄片样本的第一侧面与聚焦离子束镜筒相对，其中该第一侧面比该薄片样本的第二侧面离薄片样本内的所期望的观察对象更近；为了形成薄膜部，对于第一侧面的与该薄膜部相邻的区域设置将利用聚焦离子束对其进行蚀刻处理的处理区域，该薄膜部包括观察对象并且具有基本上平行于薄片样本的厚度方向的厚度方向；以及对于薄片样本的从其第一侧面延伸到其前表面的部分通过利用来自聚焦离子束镜筒的聚焦离子束照射处理区域执行蚀刻处理。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103245537A
公开(公告)日：2013-08-14
申请号：CN201310050887.0
申请日：2013-02-08
Applicant: 日本株式会社日立高新技术科学
Inventor： 铃木秀和
IPC: G01N1/28
CPC classification number: C23C16/486 , C23C16/047 , C23C16/26
Abstract: 本发明提供了一种制备TEM观察样本的方法，该方法包括：将沉积气体提供到具有暴露的凹陷的薄片部的截面；利用电子束照射截面的包括凹陷的区域，从而形成沉积膜；利用离子束照射沉积膜，从而移除形成在截面上的沉积膜；以及利用离子束照射薄片样本，从而对薄片样本进行薄化。
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公开(公告)号：CN111081515A
公开(公告)日：2020-04-28
申请号：CN201910898398.8
申请日：2019-09-23
Applicant: 日本株式会社日立高新技术科学
IPC: H01J37/26 , H01J37/28 , G01N23/2251 , G01N23/2202
Abstract: 提供带电粒子束装置和试样加工观察方法，不用变更载台的尺寸便能够缩小电子束镜筒与试样之间的距离，从而得到高分辨率的SEM图像，并且能够得到正对试样的观察面的SEM图像。具有如下的工序：试样片形成工序，对所述试样照射聚焦离子束而从试样切出试样片；截面加工工序，利用试样片支承体对试样片进行支承，对试样片的截面照射聚焦离子束而进行截面的加工；试样片接近移动工序，利用试样片支承体对试样片进行支承，使试样片移动到比聚焦离子束的束光轴与电子束的束光轴的交点更接近电子束镜筒的位置；以及SEM图像取得工序，朝向试样片的所述截面照射电子束，从而取得截面的SEM图像。
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公开(公告)号：CN108231512A
公开(公告)日：2018-06-29
申请号：CN201711391373.6
申请日：2017-12-21
Applicant: 日本株式会社日立高新技术科学
Inventor： 铃木秀和
IPC: H01J37/26
Abstract: 提供带电粒子束装置和控制方法。本发明的带电粒子束装置能够提高通过向试样照射带电粒子束进行的、与试样对应的作业的效率。该带电粒子束装置具有：照射部，其向试样照射带电粒子束；像形成部，其检测通过带电粒子束的照射而从试样产生的带电粒子，并形成基于该带电粒子的检测信号的图像；输入接受部，其接受观察条件；导出部，其根据所接受的观察条件和存储在存储部中的第一观察参数导出适于该观察条件的第二观察参数；以及控制部，其根据第二观察参数控制照射部。
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公开(公告)号：CN103257067B
公开(公告)日：2016-12-28
申请号：CN201310054653.3
申请日：2013-02-20
Applicant: 日本株式会社日立高新技术科学
Inventor： 铃木秀和
CPC classification number: H01J37/3053 , G01N1/32 , H01J2237/30455 , H01J2237/30488 , H01J2237/31745
Abstract: 本发明提供了一种样本制备方法和装置。样本制备方法包括：在显示屏幕上显示样本的第一截面的SEM图像的同时，通过扫描并照射聚焦离子束对第一截面进行蚀刻处理，从而暴露第二截面；以及在显示屏幕上显示另一截面的SEM图像的同时，在执行聚焦离子束的扫描和照射的同时改变聚焦离子束的扫描方向并对第二截面进行蚀刻处理，从而暴露样本的期望的截面。
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公开(公告)号：CN103323475A
公开(公告)日：2013-09-25
申请号：CN201310093481.0
申请日：2013-03-22
Applicant: 日本株式会社日立高新技术科学
IPC: G01N23/22
CPC classification number: H01J37/261 , H01J37/304 , H01J37/3056 , H01J2237/221 , H01J2237/30466
Abstract: 本发明提供了一种截面加工和观察装置。该截面加工和观察装置包括控制部，用于重复地执行处理，该处理包括利用离子束的切割处理和利用从通过切割处理形成的截面发射的二次电子的SIM图像的获取处理，其中，控制部将观察图像划分为多个区域，并且当在多个区域中的一个区域中的图像与通过处理获取的另一截面的观察图像的与所述一个区域对应的区域中的图像之间出现了变化时，结束处理。
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