薄膜试样片制作方法和带电粒子束装置

    公开(公告)号:CN111562149A

    公开(公告)日:2020-08-21

    申请号:CN202010064575.5

    申请日:2020-01-20

    Abstract: 提供薄膜试样片制作方法和带电粒子束装置,能够抑制薄膜试样片的缺损。具有如下工序:从与试样(S)的表面的法线方向(z)交叉的第2方向照射会聚离子束(FIB2)而对试样(S)进行加工,从而制作出薄膜试样片(1),并且制作出配置于试样(S)薄膜试样片(1)的厚度方向(x)的一侧并使薄膜试样片(1)连接于试样(S)的连结部(3)的工序;使试样(S)绕法线方向(z)旋转的工序;使对薄膜试样片(1)进行保持的探针连接于薄膜试样片(1)的工序;以及从与法线方向(z)交叉的第3方向向连结部(3)照射会聚离子束(FIB3)从而使薄膜试样片(1)从试样(S)分离出来的工序。

    截面加工观察装置及其方法、程序以及形状测定方法

    公开(公告)号:CN110243318A

    公开(公告)日:2019-09-17

    申请号:CN201910163613.X

    申请日:2019-03-05

    Abstract: 提供截面加工观察装置及其方法、程序以及形状测定方法,提高试样的形状的测定精度。具有:保持试样的试样台;向试样照射聚焦离子束的聚焦离子束镜筒;在与照射聚焦离子束的方向垂直的方向上向试样照射电子束的电子束镜筒;检测二次电子或反射电子的电子检测器;照射位置控制部,根据作为示出针对试样的波束的照射目标位置的信息的照射目标位置信息来控制聚焦离子束和电子束的照射位置;工序控制部,按照照射位置控制部控制的每个照射位置,对朝向试样照射聚焦离子束以使试样的截面露出的截面露出工序和向截面照射电子束而取得截面的截面像的截面像取得工序进行控制;画质校正部,对在照射位置取得的所述截面像的画质进行校正。

    截面加工观察装置及其方法、记录介质以及形状测定方法

    公开(公告)号:CN110243318B

    公开(公告)日:2023-02-28

    申请号:CN201910163613.X

    申请日:2019-03-05

    Abstract: 提供截面加工观察装置及其方法、程序以及形状测定方法,提高试样的形状的测定精度。具有:保持试样的试样台;向试样照射聚焦离子束的聚焦离子束镜筒;在与照射聚焦离子束的方向垂直的方向上向试样照射电子束的电子束镜筒;检测二次电子或反射电子的电子检测器;照射位置控制部,根据作为示出针对试样的波束的照射目标位置的信息的照射目标位置信息来控制聚焦离子束和电子束的照射位置;工序控制部,按照照射位置控制部控制的每个照射位置,对朝向试样照射聚焦离子束以使试样的截面露出的截面露出工序和向截面照射电子束而取得截面的截面像的截面像取得工序进行控制;画质校正部,对在照射位置取得的所述截面像的画质进行校正。

    断面加工观察方法以及装置

    公开(公告)号:CN102013379B

    公开(公告)日:2016-02-03

    申请号:CN201010272016.X

    申请日:2010-09-02

    CPC classification number: G01N23/2255 H01J2237/221

    Abstract: 本发明提供能够用不具有SEM装置的聚焦离子束装置高效率地连续实施断面加工观察的断面加工观察方法以及装置。作为解决手段,提供一种断面加工观察方法,通过基于聚焦离子束的蚀刻加工在试样上形成断面,通过基于聚焦离子束的断面观察而取得断面观察图像,对包含所述断面的区域进行蚀刻加工,形成新断面,取得新断面的断面观察图像,其特征在于,向试样上的包含标记和断面的区域照射聚焦离子束,取得表面观察图像,在表面观察图像上识别标记的位置,以标记的位置为基准,设定用于形成新断面的聚焦离子束的照射区域,进行试样断面的蚀刻加工。

    粒子束照射装置
    10.
    发明授权

    公开(公告)号:CN112635278B

    公开(公告)日:2025-05-09

    申请号:CN202010993810.7

    申请日:2020-09-21

    Abstract: 提供粒子束照射装置,进行基于多个检测器的观察时,能缩短多个检测器的亮度调整的时间。粒子束照射装置具有照射粒子束的照射部、检测第1粒子的第1检测部、检测第2粒子的第2检测部、像形成部和控制部,像形成部进行如下处理:形成基于第1检测部检测到第1粒子的第1信号的观察像;形成基于第2检测部检测到第2粒子的第2信号的观察像,控制部进行如下处理:计算形成的第1观察像的第1区域的亮度,第1区域的亮度与第1目标亮度不同时,根据第1目标亮度进行第1检测部的亮度调整作为第1亮度调整;计算形成的第2观察像的第2区域的亮度,第2区域的亮度与第2目标亮度不同时,根据第2目标亮度进行第2检测部的亮度调整作为第2亮度调整。

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