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公开(公告)号:CN103465525A
公开(公告)日:2013-12-25
申请号:CN201310317241.4
申请日:2007-12-27
申请人: 日立化成工业株式会社
IPC分类号: B32B3/30 , B41N1/12 , B32B15/00 , B41C1/00 , H05K9/00 , B41N1/06 , H05K3/20 , B32B9/00 , C25D5/02
CPC分类号: B41N1/06 , B41C1/00 , B41N1/12 , C25D1/00 , C25D1/006 , H05K3/205 , H05K9/0096 , H05K2201/09827 , Y10T428/2457 , Y10T428/24612 , Y10T428/2462 , Y10T428/30
摘要: 本发明涉及凹版和使用该凹版的带有导体层图形的基材,还涉及一种图形化金属箔的制造方法,其特征在于,具备在凹版的凹部通过镀覆沉积金属的工序、以及使所述金属沉积后剥离所沉积的金属的工序,所述凹版具有基材和位于该基材表面的绝缘层,在该绝缘层上形成有朝开口方向宽度变宽的凹部,所述绝缘层为含有无机材料的层,所述凹部侧面的角度为30度以上且不到90度。
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公开(公告)号:CN102765218A
公开(公告)日:2012-11-07
申请号:CN201210270651.3
申请日:2007-12-27
申请人: 日立化成工业株式会社
CPC分类号: B41N1/06 , B41C1/00 , B41N1/12 , C25D1/00 , C25D1/006 , H05K3/205 , H05K9/0096 , H05K2201/09827 , Y10T428/2457 , Y10T428/24612 , Y10T428/2462 , Y10T428/30
摘要: 本发明涉及凹版和使用该凹版的带有导体层图形的基材,还涉及一种凹版的制造方法,其特征在于,包括:(i)在基材的表面形成可除去的凸状图形的工序;(ii)在形成有可除去的凸状图形的基材的表面上,形成绝缘层的工序;(iii)除去附着有绝缘层的凸状图形的工序。
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公开(公告)号:CN101557927A
公开(公告)日:2009-10-14
申请号:CN200780045844.6
申请日:2007-12-27
申请人: 日立化成工业株式会社
CPC分类号: B41N1/06 , B41C1/00 , B41N1/12 , C25D1/00 , C25D1/006 , H05K3/205 , H05K9/0096 , H05K2201/09827 , Y10T428/2457 , Y10T428/24612 , Y10T428/2462 , Y10T428/30
摘要: 本发明提供一种凹版,具有基材和位于所述基材的表面上的绝缘层,在所述绝缘层上形成有朝开口方向宽度变宽且露出基材的凹部。本发明提供凹版、带有使用凹版由转印法制造的导体层图形的基材、以及导体层图形。
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