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公开(公告)号：CN118345341A
公开(公告)日：2024-07-16
申请号：CN202410558232.2
申请日：2024-05-08
申请人： 有研亿金新材料有限公司 , 有研亿金新材料(山东)有限公司
摘要： 本发明属于磁控溅射靶材制造技术领域，公开了一种钨靶材及其制备方法。以高纯的钨粉为原料，先通过真空热压烧结过程，或通过冷等静压后进行氢气氛烧结过程，获得相对密度为75％～85％的一次成型钨坯料；然后在一次成型钨坯料上下表面进行喷丸处理或化学气相沉积镀膜处理，在坯料表层厚度为0.1～0.5mm的范围内形成相对密度为95％～99％的致密层，且不改变内部大部分区域的微观组织和致密化程度；再对坯料进行无包套热等静压处理，获得相对密度≥99％的二次致密化钨靶坯；最后磨床去除钨靶坯上下表面深度为0.1～1mm的区域，获得致密度≥99.5％，平均晶粒尺寸≤10μm的高纯钨靶材。该方法既节约成本，同时也兼顾了靶材对密度和晶粒的要求。
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公开(公告)号：CN117758088A
公开(公告)日：2024-03-26
申请号：CN202311745746.0
申请日：2023-12-18
申请人： 有研亿金新材料有限公司 , 有研亿金新材料(山东)有限公司
摘要： 本发明属于磁控溅射靶材制造技术领域，公开了一种高纯高均匀低氧钼硅合金靶材及其制备方法。所述钼硅合金靶材，以钼块和硅块为原料，先通过熔炼的方式获得高纯度无偏析低氧的Mo3Si合金铸锭，经酸洗后使用无坩埚雾化制粉的方式，筛分制备高纯低氧的球形Mo3Si合金粉末。最后与Mo粉进行混合进行真空热压烧结，获得Si含量≤25wt％，尺寸≥300mm，纯度≥4N，致密度≥99.5％，平均晶粒尺寸≤20μm，整体靶面Si含量成分波动≤±0.5wt％，氧含量≤100ppm的高纯钼硅合金靶材。
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公开(公告)号：CN115029674B
公开(公告)日：2024-05-17
申请号：CN202210514946.4
申请日：2022-05-12
申请人： 有研亿金新材料有限公司 , 有研亿金新材料(山东)有限公司
摘要： 一种低偏析铝钪合金靶材是采用Al包覆Sc的核壳结构，其Sc含量为20～50at％，成分波动在±0.2％之内，氧含量小于200ppm，相对密度不小于99.5％的AlSc合金靶材；其制备方法，包括：加入粘结剂的Sc粉与Al粉混粉，热处理烧结粉末，获得核壳结构AlSc合金粉末，热压烧结及获得低偏析铝钪合金靶材；本发明形成的合金粉后，不存在后期传输过程由于两种粉末性质不同造成的二次偏析现象，经过后期热压烧结后可获得低偏析的AlSc合金靶材。
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公开(公告)号：CN110983264B
公开(公告)日：2022-11-15
申请号：CN201911336274.7
申请日：2019-12-23
申请人： 有研亿金新材料(山东)有限公司 , 有研亿金新材料有限公司
摘要： 本发明公开了属于磁控溅射靶材制造技术领域的一种高密度细晶粒易成型的W靶材的制备方法。所述W靶材，采用冷压的方式进行预成型，获得预成型W靶坯，预成型W靶坯的相对密度为60％～70％；然后将预成型的W靶坯进行热等静压烧结致密化，获得致密化W靶坯，所述致密化W靶坯的相对密度为93％～96％；最后将其进行无包套二次热等静压烧结致密化，制得的W靶材的致密度>99％，平均晶粒尺寸 95％。所述W靶材易成型开裂的概率低，成品率高，工艺简单易操作，二次热等静压烧结致密化，可降低热等静压过程中的烧结温度，获得晶粒细小的钨靶材。
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公开(公告)号：CN116356265A
公开(公告)日：2023-06-30
申请号：CN202310303875.8
申请日：2023-03-27
申请人： 有研亿金新材料(山东)有限公司 , 有研亿金新材料有限公司 , 有研新材料股份有限公司
摘要： 一种大尺寸细晶钨硅靶材的制备方法，包括如下步骤：1、将高纯钨粉和硅粉进行混合，得到混合粉体；2.将混合粉体置于热压炉中多工艺段热压烧结，得到钨硅预制靶坯；3.采用热等静压设备将钨硅预制靶坯热等静压处理，得到大尺寸细晶钨硅靶材。该制备方法采用多工艺段热压和热等静压联合工艺，制备得到直径≥460mm、致密度≥99％、无缺陷、晶粒细小且均匀的大尺寸细晶钨硅靶坯。
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公开(公告)号：CN115740452A
公开(公告)日：2023-03-07
申请号：CN202211399556.3
申请日：2022-11-09
申请人： 有研亿金新材料(山东)有限公司 , 有研亿金新材料有限公司
摘要： 本发明属于磁控溅射靶材制造技术领域，公开了一种高纯高致密细晶低氧钨靶材的制备方法。以纯度大于5N的W粉为原料，先通过真空热压烧结的方式获得相对密度为80％～90％的预成型钨靶坯。然后通过多道次小变形热轧的方式在预成型钨靶坯表面0.5～2mm厚度的范围内形成相对密度为95％～99％的致密化表层，心部密度及组织状态仍保持不变。最后将多道次小变形轧制后的钨靶坯进行无包套热等静压烧结致密化处理，处理后将表层0.5～2mm厚度的轧制态组织去除，获得致密度≥99.5％，平均晶粒尺寸≤10μm，氧含量≤10ppm的高纯W靶坯。
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公开(公告)号：CN115213512B
公开(公告)日：2023-12-12
申请号：CN202210896054.5
申请日：2022-07-27
申请人： 有研亿金新材料(山东)有限公司 , 有研亿金新材料有限公司
摘要： 本发明公开了属于材料焊接技术领域的一种脆性靶材的高性能焊接方法；所述方法包括在背板焊接面加工焊接槽，内径与靶材外径配合，清洗去油，对靶材进行背金处理，对靶材和背板焊接面进行超声浸润In焊料；对靶材和背板进行配合焊接，将靶材焊接至背板焊接槽中，控制靶材及背板的升温、降温制度，同时加压配重，冷却后得到高焊接质量靶材；本发明提供的方法，靶材焊合率高，焊合率≥98％，脆性靶材焊接不开裂，焊后靶材变形小，平面度≤0.5mm。
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公开(公告)号：CN112894111B
公开(公告)日：2023-02-17
申请号：CN202110062328.6
申请日：2021-01-18
申请人： 有研亿金新材料有限公司 , 有研亿金新材料(山东)有限公司
摘要： 本发明提供了一种高钪含量铝钪合金靶材扩散焊接的方法及制备的焊接组件。所述方法是指在高钪含量(Sc含量≧20at％)铝钪合金靶材表面喷涂Al合金或Cu合金背板，然后在300～400℃的温度下进行热处理，促进AlSc合金靶坯与背板间的扩散，最终获得焊接强度大于70MPa，焊合率大于98％，无裂纹的高Sc含量AlSc合金靶材扩散焊接组件。
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公开(公告)号：CN115369365A
公开(公告)日：2022-11-22
申请号：CN202211299706.3
申请日：2022-10-24
申请人： 有研亿金新材料有限公司 , 有研亿金新材料(山东)有限公司
摘要： 本发明公开了一种长寿命溅射靶材及其制备方法，长寿命靶材包括一体成型的溅射层和强化层，靶材的正面是溅射层，靶材的背面是强化层，强化层位于溅射层的背面，强化层的硬度大于溅射层的硬度，强化层的厚度大于3mm，强化层的厚度不超过长寿命溅射靶材总厚度的1/2。制备方法包括锻造、轧制变形加工和再结晶退火处理、切削加工、固定安装、搅拌摩擦强塑性变形加工、精加工等。本发明公开的靶材不需要增加背板，避免了高成本和流程复杂的扩散焊接工艺；且工艺简单灵活，搅拌摩擦加工可以实现10mm甚至更大深度的强烈塑性变形强化，远高于表面强化技术，并且能够精准控制强化层的厚度和区域，工艺简单，成本低，制备的靶材较常规靶材寿命显著提升。
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公开(公告)号：CN112708864B
公开(公告)日：2022-07-15
申请号：CN202011535127.5
申请日：2020-12-23
申请人： 有研亿金新材料有限公司 , 有研亿金新材料(山东)有限公司
摘要： 本发明公开了属于磁控溅射靶材制造技术领域的一种铝钪合金靶材的制造方法。所述铝钪合金靶材制造方法为：以铝块、粒度为5～50微米的1～4种铝钪中间化合物球形粉为原料，置于氧化铝或氧化锆熔炼坩埚内，经过700～900℃的中频感应熔炼及电磁搅拌，使得铝块完全熔化，而铝钪中间化合物粉体不熔化，最终形成铝钪中间化合物粉体均匀分散其间的高温铝浆料；然后将高温铝浆料快速浇铸到模具内，冷却凝固一次成型得到近成品尺寸靶坯；然后对该靶坯进行机加工得到铝钪合金靶材。
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