公开(公告)号：CN112956026A

公开(公告)日：2021-06-11

申请号：CN201980073253.2

申请日：2019-09-10

申请人： 朗姆研究公司

发明人： 吴惠荣 ,  巴特·J·范施拉芬迪克 ,  马克·直司·川口 ,  格伦·古纳万 ,  杰伊·E·厄格洛 ,  纳格拉杰·尚卡尔 ,  高里·钱纳·卡玛蒂 ,  凯文·M·麦克劳克林 ,  阿南达·K·巴纳基 ,  杨家岭 ,  约翰·霍昂 ,  亚伦·林恩·罗赞 ,  南森·马塞尔怀特 ,  沈美华 ,  索斯藤·贝恩德·莱尔 ,  迟昊 ,  尼古拉斯·多米尼克·阿尔铁里

IPC分类号： H01L27/11551 ,  H01L27/11524 ,  H01L21/768 ,  H01L21/02 ,  H01L21/311

摘要： 本文提供用于形成包括含金属层的图案化多层堆叠件的方法。方法涉及在包括待稍后移除并用金属代替的一牺牲层的多层堆叠件中使用含硅的非金属材料，同时维持蚀刻对比度以图案化多层堆叠件并在沉积金属之前选择性移除牺牲层。方法涉及使用硅碳氧化物代替硅氮化物、以及使用牺牲非金属材料代替含金属层，以制造多层堆叠件、图案化该多层堆叠件、选择性移除牺牲非金属材料以在堆叠件中留下空间、并将含金属材料沉积至空间中。牺牲非金属材料包括硅氮化物和掺杂的多晶硅、例如掺杂硼的硅。