-
公开(公告)号：CN104034276B
公开(公告)日：2018-08-28
申请号：CN201410084250.8
申请日：2014-03-07
Applicant: 株式会社三丰
IPC: G01B11/24
CPC classification number: G01B11/24 , G01B11/005 , G01B11/25
Abstract: 一种形状测量设备，包括：照射部，用于利用线状的线激光来照射工件，所述照射部包括：光源，用于生成激光；第一光学构件，用于使来自所述光源的激光线状地散开，并且生成所述线激光；以及第二光学构件，其设置在所述光源和所述第一光学构件之间，用于调整所述工件上的线激光的照射面积；第一传感器，用于接收所述工件所反射的线激光，并且拍摄所述工件的图像；透镜，用于在所述第一传感器的摄像面上形成所述工件所反射的线激光的图像；以及控制部，用于通过所述第二光学构件来对所述工件上的线激光的照射面积的调整进行控制。
-
公开(公告)号：CN104833315A
公开(公告)日：2015-08-12
申请号：CN201510065230.0
申请日：2015-02-06
Applicant: 株式会社三丰
IPC: G01B11/24
CPC classification number: G01B11/30 , G01B11/026 , G01B11/24 , G02B1/11 , G02B5/003 , G02B27/0018
Abstract: 本发明涉及一种光学探测器、可装配盖和形状测量设备。该光学探测器包括探测器盖，其中在该探测器盖内，安装了具有照射光学系统和接收光学系统的光学系统。向探测器盖的形成与工件相对的相对区域的底面设置用于使光穿过的出射区域和入射区域。该底面形成了从工件所反射的光中沿着镜面反射方向的光从来自出射区域的出射光照射在工件上的位置起、在远离入射区域的方向上反射的面。因此，可以抑制入射到入射区域的二次反射光的量，因此可以抑制接收光分布中的错误值的发生。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102749039B
公开(公告)日：2015-03-25
申请号：CN201210113003.7
申请日：2012-04-17
Applicant: 株式会社三丰
IPC: G01B11/24
CPC classification number: G01B11/03 , G01B11/2518 , G06T7/521 , G06T2207/30164
Abstract: 本发明公开了一种形状测量设备，包括：光照射单元，其将线状光照射到工件上；成像元件，其使由所述工件反射的反射光成像；以及成像透镜，其将由所述工件反射的反射光的像形成在所述成像元件的成像平面上，并且，所述光照射单元的光照射平面、包括所述成像透镜的主点的主平面、以及所述成像元件的成像平面满足沙姆普弗鲁克原理。所述形状测量设备还包括：像获取区域选择单元，其将所述成像元件的成像平面划分为多个区域，并响应于测量精度和测量范围的大小中的至少一个，从所述多个区域中选择用于在测量中使用的区域作为像获取区域。
-
公开(公告)号：CN104034276A
公开(公告)日：2014-09-10
申请号：CN201410084250.8
申请日：2014-03-07
Applicant: 株式会社三丰
IPC: G01B11/24
CPC classification number: G01B11/24 , G01B11/005 , G01B11/25
Abstract: 一种形状测量设备，包括：照射部，用于利用线状的线激光来照射工件，所述照射部包括：光源，用于生成激光；第一光学构件，用于使来自所述光源的激光线状地散开，并且生成所述线激光；以及第二光学构件，其设置在所述光源和所述第一光学构件之间，用于调整所述工件上的线激光的照射面积；第一传感器，用于接收所述工件所反射的线激光，并且拍摄所述工件的图像；透镜，用于在所述第一传感器的摄像面上形成所述工件所反射的线激光的图像；以及控制部，用于通过所述第二光学构件来对所述工件上的线激光的照射面积的调整进行控制。
-
公开(公告)号：CN104833316A
公开(公告)日：2015-08-12
申请号：CN201510065073.3
申请日：2015-02-06
Applicant: 株式会社三丰
CPC classification number: G01B11/24 , G01B11/026 , G02B1/11 , G02B5/0278
Abstract: 本发明涉及一种光学探测器、可装配盖和形状测量设备。光学探测器包括探测器盖，其中在该探测器盖内，安装了具有照射光学系统和接收光学系统的光学系统。在探测器盖的形成与工件相对的相对区域的底面设置用于使光穿过的出射区域和入射区域。另外，在探测器盖的底面设置光反射防止结构或漫反射结构。利用反射防止结构来防止从工件反射的光反射离开底面，或者利用漫反射结构使反射光发生漫反射。因此，可以抑制由于二次反射光而导致的在接收光分布中发生错误值。
-
公开(公告)号：CN108871186A
公开(公告)日：2018-11-23
申请号：CN201810446746.3
申请日：2018-05-11
Applicant: 株式会社三丰
Abstract: 提供一种三维测量机以及三维测量方法。三维测量机(1)具有：载置部(5)，其用于载置工件(W)；拱状的框架(7)，其跨越载置部(5)；滑块(8)，其能够沿着框架(7)移动；以及探头(9)，其被滑块(8)支承且朝向载置部(5)。载置部(5)和框架(7)能够通过转子(3)来相对地旋转，载置部(5)能够通过XY移动机构(6)向沿着载置部(5)的表面的方向移动。
-
公开(公告)号：CN102749039A
公开(公告)日：2012-10-24
申请号：CN201210113003.7
申请日：2012-04-17
Applicant: 株式会社三丰
IPC: G01B11/24
CPC classification number: G01B11/03 , G01B11/2518 , G06T7/521 , G06T2207/30164
Abstract: 本发明公开了一种形状测量设备，包括：光照射单元，其将线状光照射到工件上；成像元件，其使由所述工件反射的反射光成像；以及成像透镜，其将由所述工件反射的反射光的像形成在所述成像元件的成像平面上，并且，所述光照射单元的光照射平面、包括所述成像透镜的主点的主平面、以及所述成像元件的成像平面满足沙姆普弗鲁克原理。所述形状测量设备还包括：像获取区域选择单元，其将所述成像元件的成像平面划分为多个区域，并响应于测量精度和测量范围的大小中的至少一个，从所述多个区域中选择用于在测量中使用的区域作为像获取区域。
-
-
-
-
-
-
Search Results
7
records
(took 0.013 seconds)
