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公开(公告)号:CN104485336A
公开(公告)日:2015-04-01
申请号:CN201410635394.8
申请日:2010-10-05
Applicant: 株式会社半导体能源研究所
IPC: H01L27/108 , H01L27/11
CPC classification number: H01L29/7869 , G06F15/76 , H01L27/10805 , H01L27/10873 , H01L27/11 , H01L27/1108 , H01L27/1112 , H01L27/1225 , H01L27/124 , H01L27/1255 , H01L28/60 , H01L29/24 , H01L29/41733 , H01L29/42384 , H01L29/78696
Abstract: 一个目的是提供一种存储器装置,其中包括能够由具有低截止态电流的薄膜晶体管没有问题地来操作的存储器元件。所提供的是一种存储器装置,其中包括包含氧化物半导体层的至少一个薄膜晶体管的存储器元件配置成矩阵。包括氧化物半导体层的薄膜晶体管具有高场效应迁移率和低截止态电流,并且因而能够有利地没有问题地来操作。另外,功率消耗能够降低。在包括氧化物半导体层的薄膜晶体管设置在显示装置的像素中的情况下,这种存储器装置特别有效,因为存储器装置和像素能够在一个衬底之上形成。
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公开(公告)号:CN102723364B
公开(公告)日:2015-02-25
申请号:CN201210173533.0
申请日:2010-10-05
Applicant: 株式会社半导体能源研究所
IPC: H01L29/78 , H01L21/336 , H01L27/105 , G06F15/78
CPC classification number: H01L29/7869 , G06F15/76 , H01L27/10805 , H01L27/10873 , H01L27/11 , H01L27/1108 , H01L27/1112 , H01L27/1225 , H01L27/124 , H01L27/1255 , H01L28/60 , H01L29/24 , H01L29/41733 , H01L29/42384 , H01L29/78696
Abstract: 一个目的是提供一种存储器装置,其中包括能够由具有低截止态电流的薄膜晶体管没有问题地来操作的存储器元件。所提供的是一种存储器装置,其中包括包含氧化物半导体层的至少一个薄膜晶体管的存储器元件配置成矩阵。包括氧化物半导体层的薄膜晶体管具有高场效应迁移率和低截止态电流,并且因而能够有利地没有问题地来操作。另外,功率消耗能够降低。在包括氧化物半导体层的薄膜晶体管设置在显示装置的像素中的情况下,这种存储器装置特别有效,因为存储器装置和像素能够在一个衬底之上形成。
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公开(公告)号:CN102668062A
公开(公告)日:2012-09-12
申请号:CN201080047983.4
申请日:2010-10-05
Applicant: 株式会社半导体能源研究所
IPC: H01L21/8242 , H01L21/336 , H01L21/8244 , H01L27/108 , H01L27/11 , H01L29/786
CPC classification number: H01L29/7869 , G06F15/76 , H01L27/10805 , H01L27/10873 , H01L27/11 , H01L27/1108 , H01L27/1112 , H01L27/1225 , H01L27/124 , H01L27/1255 , H01L28/60 , H01L29/24 , H01L29/41733 , H01L29/42384 , H01L29/78696
Abstract: 一个目的是提供一种存储器装置,其中包括能够由具有低截止态电流的薄膜晶体管没有问题地来操作的存储器元件。所提供的是一种存储器装置,其中包括包含氧化物半导体层的至少一个薄膜晶体管的存储器元件配置成矩阵。包括氧化物半导体层的薄膜晶体管具有高场效应迁移率和低截止态电流,并且因而能够有利地没有问题地来操作。另外,功率消耗能够降低。在包括氧化物半导体层的薄膜晶体管设置在显示装置的像素中的情况下,这种存储器装置特别有效,因为存储器装置和像素能够在一个衬底之上形成。
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公开(公告)号:CN102668062B
公开(公告)日:2014-12-10
申请号:CN201080047983.4
申请日:2010-10-05
Applicant: 株式会社半导体能源研究所
IPC: H01L21/8242 , H01L21/336 , H01L21/8244 , H01L27/108 , H01L27/11 , H01L29/786
CPC classification number: H01L29/7869 , G06F15/76 , H01L27/10805 , H01L27/10873 , H01L27/11 , H01L27/1108 , H01L27/1112 , H01L27/1225 , H01L27/124 , H01L27/1255 , H01L28/60 , H01L29/24 , H01L29/41733 , H01L29/42384 , H01L29/78696
Abstract: 一个目的是提供一种存储器装置,其中包括能够由具有低截止态电流的薄膜晶体管没有问题地来操作的存储器元件。所提供的是一种存储器装置,其中包括包含氧化物半导体层的至少一个薄膜晶体管的存储器元件配置成矩阵。包括氧化物半导体层的薄膜晶体管具有高场效应迁移率和低截止态电流,并且因而能够有利地没有问题地来操作。另外,功率消耗能够降低。在包括氧化物半导体层的薄膜晶体管设置在显示装置的像素中的情况下,这种存储器装置特别有效,因为存储器装置和像素能够在一个衬底之上形成。
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公开(公告)号:CN104485336B
公开(公告)日:2018-01-02
申请号:CN201410635394.8
申请日:2010-10-05
Applicant: 株式会社半导体能源研究所
IPC: H01L27/108 , H01L27/11
CPC classification number: H01L29/7869 , G06F15/76 , H01L27/10805 , H01L27/10873 , H01L27/11 , H01L27/1108 , H01L27/1112 , H01L27/1225 , H01L27/124 , H01L27/1255 , H01L28/60 , H01L29/24 , H01L29/41733 , H01L29/42384 , H01L29/78696
Abstract: 一个目的是提供一种存储器装置,其中包括能够由具有低截止态电流的薄膜晶体管没有问题地来操作的存储器元件。所提供的是一种存储器装置,其中包括包含氧化物半导体层的至少一个薄膜晶体管的存储器元件配置成矩阵。包括氧化物半导体层的薄膜晶体管具有高场效应迁移率和低截止态电流,并且因而能够有利地没有问题地来操作。另外,功率消耗能够降低。在包括氧化物半导体层的薄膜晶体管设置在显示装置的像素中的情况下,这种存储器装置特别有效,因为存储器装置和像素能够在一个衬底之上形成。
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公开(公告)号:CN102723364A
公开(公告)日:2012-10-10
申请号:CN201210173533.0
申请日:2010-10-05
Applicant: 株式会社半导体能源研究所
IPC: H01L29/78 , H01L21/336 , H01L27/105 , G06F15/78
CPC classification number: H01L29/7869 , G06F15/76 , H01L27/10805 , H01L27/10873 , H01L27/11 , H01L27/1108 , H01L27/1112 , H01L27/1225 , H01L27/124 , H01L27/1255 , H01L28/60 , H01L29/24 , H01L29/41733 , H01L29/42384 , H01L29/78696
Abstract: 一个目的是提供一种存储器装置,其中包括能够由具有低截止态电流的薄膜晶体管没有问题地来操作的存储器元件。所提供的是一种存储器装置,其中包括包含氧化物半导体层的至少一个薄膜晶体管的存储器元件配置成矩阵。包括氧化物半导体层的薄膜晶体管具有高场效应迁移率和低截止态电流,并且因而能够有利地没有问题地来操作。另外,功率消耗能够降低。在包括氧化物半导体层的薄膜晶体管设置在显示装置的像素中的情况下,这种存储器装置特别有效,因为存储器装置和像素能够在一个衬底之上形成。
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