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公开(公告)号：CN115841937B
公开(公告)日：2025-05-06
申请号：CN202210870323.0
申请日：2022-07-18
Applicant: 株式会社国际电气
Abstract: 本发明提供一种炉口部结构、基板处理装置以及半导体装置的制造方法，能够抑制以构成炉口部的部件为发生源的基板的金属污染。根据本公开的一方式，具备：上侧入口部，其经由第一密封部件与设置于反应管的下部的第一突部连接，并对所述反应管进行支撑；下侧入口部，其经由第二密封部件与该上侧入口部连接；以及固定环，其与该上侧入口部连结，并固定所述第一突部，并且构成为：所述上侧入口部配置在设置于所述反应管的下部的排气管的下方，使冷却介质在设置于所述上侧入口部和所述固定环各自的内部的流路中流通，从而能够对所述第一突部进行冷却。
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公开(公告)号：CN111725092A
公开(公告)日：2020-09-29
申请号：CN202010077095.2
申请日：2020-01-23
Applicant: 株式会社国际电气
IPC: H01L21/67 , H01L21/324
Abstract: 本发明提供基板处理装置、半导体装置的制造方法以及存储介质，能够自动远程控制排气挡板阀的开度。该基板处理装置具备：处理容器；堵塞处理容器的盖体；与处理容器连通并搬送基板的移载室；加热处理容器内的基板的加热器；收纳机器的气箱；以包围向处理容器的气体的导入部的周边的方式设置的清除室；排出对设有加热器的空间进行了冷却的空气的加热室排气管；气箱排气管；清除室排气管；与设于移载室内的预定部位的局部排气口连通的局部排气管；设于连接于工厂排气管的加热室排气管、气箱排气管、清除室排气管以及局部排气管中的至少一个的排气挡板阀；以及设于从设置面可操作的高度且可根据操作远程控制排气挡板阀的开度的控制器。
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公开(公告)号：CN111725092B
公开(公告)日：2024-09-13
申请号：CN202010077095.2
申请日：2020-01-23
Applicant: 株式会社国际电气
IPC: H01L21/67 , H01L21/324
Abstract: 本发明提供基板处理装置、半导体装置的制造方法以及存储介质，能够自动远程控制排气挡板阀的开度。该基板处理装置具备：处理容器；堵塞处理容器的盖体；与处理容器连通并搬送基板的移载室；加热处理容器内的基板的加热器；收纳机器的气箱；以包围向处理容器的气体的导入部的周边的方式设置的清除室；排出对设有加热器的空间进行了冷却的空气的加热室排气管；气箱排气管；清除室排气管；与设于移载室内的预定部位的局部排气口连通的局部排气管；设于连接于工厂排气管的加热室排气管、气箱排气管、清除室排气管以及局部排气管中的至少一个的排气挡板阀；以及设于从设置面可操作的高度且可根据操作远程控制排气挡板阀的开度的控制器。
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公开(公告)号：CN116635568A
公开(公告)日：2023-08-22
申请号：CN202080107985.1
申请日：2020-12-21
Applicant: 株式会社国际电气
IPC: C23C16/455
Abstract: 本发明一边维持或提高面内均匀性，一边提高处理气体的供给效率。本发明具备：基板保持件，其保持多个基板；反应管，其收纳基板保持件；气体供给机构，其具有与多个基板分别对应的多个供给孔，且对多个基板分别供给气体；以及多个板材，其至少一部分配置于气体供给机构与基板保持件之间，且与多个基板分别大致平行地设置。
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公开(公告)号：CN115841937A
公开(公告)日：2023-03-24
申请号：CN202210870323.0
申请日：2022-07-18
Applicant: 株式会社国际电气
Abstract: 本发明提供一种炉口部结构、基板处理装置以及半导体装置的制造方法，能够抑制以构成炉口部的部件为发生源的基板的金属汚染。根据本公开的一方式，具备：上侧入口部，其经由第一密封部件与设置于反应管的下部的第一突部连接，并对所述反应管进行支撑；下侧入口部，其经由第二密封部件与该上侧入口部连接；以及固定环，其与该上侧入口部连结，并固定所述第一突部，并且构成为：所述上侧入口部配置在设置于所述反应管的下部的排气管的下方，使冷却介质在设置于所述上侧入口部和所述固定环各自的内部的流路中流通，从而能够对所述第一突部进行冷却。
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