图案测量装置以及测量方法

    公开(公告)号:CN109765254B

    公开(公告)日:2022-06-17

    申请号:CN201811177849.0

    申请日:2018-10-10

    Abstract: 本发明的目的在于提供一种图案测量装置以及测量方法,不管深槽、深孔的形成精度如何,均能够高精度地测量深度以及测量立体形状。因此,在本发明的测量装置中,检测通过照射产生的来自图案的反射电子,将来自上述图案的上表面、底面和侧壁的反射电子信号强度进行比较,根据上述上表面和下表面的高度差,计算上述侧壁的立体形状(或高度信息)。将上述计算出的上述侧壁的立体形状与根据初级电子束的强度分布(开口角度)推定出的侧壁的立体形状进行比较,根据上述比较差,校正推定出的侧壁的立体形状,进行上述校正直到比较差达到允许值为止。

    图案测量装置以及测量方法

    公开(公告)号:CN109765254A

    公开(公告)日:2019-05-17

    申请号:CN201811177849.0

    申请日:2018-10-10

    Abstract: 本发明的目的在于提供一种图案测量装置以及测量方法,不管深槽、深孔的形成精度如何,均能够高精度地测量深度以及测量立体形状。因此,在本发明的测量装置中,检测通过照射产生的来自图案的反射电子,将来自上述图案的上表面、底面和侧壁的反射电子信号强度进行比较,根据上述上表面和下表面的高度差,计算上述侧壁的立体形状(或高度信息)。将上述计算出的上述侧壁的立体形状与根据初级电子束的强度分布(开口角度)推定出的侧壁的立体形状进行比较,根据上述比较差,校正推定出的侧壁的立体形状,进行上述校正直到比较差达到允许值为止。

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