真空处理装置
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1702024B

    公开(公告)日:2011-08-17

    申请号:CN200510073790.7

    申请日:2005-05-24

    CPC classification number: Y02P40/57

    Abstract: 本发明提供一种真空处理装置,是具备真空处理室(20)、(22)、(24)和基板搬运器(40)、和预备室(14)的立式真空处理装置(10),其特征是,在预备室(14)内以及真空处理室(20)、(22)、(24)内设置往去路(16)和返回路(18)这两个搬送路径的同时,在真空处理室(24)内具备将基板搬运器从往去路(16)转移至返回路(18)的转移机构。

    真空处理装置
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101916716A

    公开(公告)日:2010-12-15

    申请号:CN201010246804.1

    申请日:2005-05-24

    Abstract: 本发明提供一种真空处理装置,是具备真空处理室(20、22、24)和基板搬运器(40)、和预备室(14)的立式真空处理装置(10),其特征是,在预备室(14)内以及真空处理室(20、22、24)内设置往去路(16)和返回路(18)这两个搬送路径的同时,在真空处理室(24)内具备将基板搬运器从往去路(16)转移至返回路(18)的转移机构。

    真空处理装置
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1702024A

    公开(公告)日:2005-11-30

    申请号:CN200510073790.7

    申请日:2005-05-24

    CPC classification number: Y02P40/57

    Abstract: 本发明提供一种真空处理装置,是具备真空处理室(20)、(22)、(24)和基板搬运器(40)、和预备室(14)的立式真空处理装置(10),其特征是,在预备室(14)内以及真空处理室(20)、(22)、(24)内设置往去路(16)和返回路(18)这两个搬送路径的同时,在真空处理室(24)内具备将基板搬运器从往去路(16)转移至返回路(18)的转移机构。

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