公开(公告)号：CN107868975A

公开(公告)日：2018-04-03

申请号：CN201710763259.5

申请日：2017-08-30

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 谷泽昭寻 ,  小林贤一 ,  宫泽康之 ,  相马刚

IPC: C25D17/00 ,  C25D17/06 ,  C25D7/12

CPC classification number: C25D17/06 ,  C25D17/00 ,  C25D17/001 ,  C25D7/12

Abstract: 提供一种镀覆装置，能够一边继续运转，一边进行基板保持架的维护。镀覆装置包括：处理部(170C)，对基板W进行镀覆；保管容器(20)，对用于保持基板W的基板保持架(11)进行保管；搬运机(140)，在处理部(170C)与保管容器(20)之间搬运基板保持架(11)；维护区域(21)，与保管容器(20)邻接；以及基板保持架载体(25)，支承于保管容器(20)。基板保持架载体(25)构成为：能够以支承有基板保持架(11)的状态而在保管容器(20)与维护区域(21)之间移动。

公开(公告)号：CN116438632A

公开(公告)日：2023-07-14

申请号：CN202180076294.4

申请日：2021-10-25

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 真继阿沙葵 ,  谷泽昭寻 ,  古泽磨奈人 ,  青山英治 ,  斋藤步 ,  笹谷祐介 ,  小林贤一 ,  宫泽康之 ,  相马刚 ,  能条启一

IPC: H01L21/304

Abstract: 实现能够以简单的构造使基板的清洗力提高的清洗组件及基板处理装置。清洗组件包含：第一搬送机构(210‑1)，该第一搬送机构用于将被研磨面朝向下方的状态的基板(WF)沿着搬送路径(405)搬送至下游侧的基板交接位置(418)；超声波清洗槽(440)，该超声波清洗槽配置于从搬送路径(405)离开的位置，并用于清洗被研磨面朝向下方的状态的基板(WF)；移载机(420)，该移载机用于在搬送路径(405)的基板交接位置(418)与超声波清洗槽(440)之间移载基板(WF)；及第二搬送机构(210‑2)，该第二搬送机构用于将通过移载机(420)而从超声波清洗槽(440)移载至基板交接位置(418)的基板(WF)沿着搬送路径(405)进一步向下游侧搬送。

公开(公告)号：CN107868975B

公开(公告)日：2021-04-06

申请号：CN201710763259.5

申请日：2017-08-30

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 谷泽昭寻 ,  小林贤一 ,  宫泽康之 ,  相马刚

IPC: C25D17/00 ,  C25D17/06 ,  C25D7/12

Abstract: 提供一种镀覆装置，能够一边继续运转，一边进行基板保持架的维护。镀覆装置包括：处理部(170C)，对基板W进行镀覆；保管容器(20)，对用于保持基板W的基板保持架(11)进行保管；搬运机(140)，在处理部(170C)与保管容器(20)之间搬运基板保持架(11)；维护区域(21)，与保管容器(20)邻接；以及基板保持架载体(25)，支承于保管容器(20)。基板保持架载体(25)构成为：能够以支承有基板保持架(11)的状态而在保管容器(20)与维护区域(21)之间移动。