公开(公告)号：CN101911256A

公开(公告)日：2010-12-08

申请号：CN200880124168.6

申请日：2008-05-30

Applicant: 株式会社IHI

Inventor： 河口纪仁 ,  川上隆介 ,  西田健一郎 ,  M·正木 ,  森田胜

IPC: H01L21/268 ,  H01L21/20

CPC classification number: B23K26/0608 ,  B23K26/0676 ,  B23K26/0738 ,  B23K26/082 ,  H01L21/02532 ,  H01L21/02678 ,  H01L21/02686 ,  H01L21/02691 ,  H01L21/268

Abstract: 本发明涉及激光退火方法以及装置。在透镜阵列方式的均化器光学系统的情况下，一边使长轴用透镜阵列(20a、20b)在与线状光束的长轴方向对应的方向(X方向)往复移动，一边进行激光照射，由此，入射到在后级设置的构成长轴用聚光光学系统的大型透镜(长轴用聚光透镜22)的激光(1)的入射角以及强度按照每次发射而变化，所以，纵向条纹被大幅度降低。另外，一边使短轴用透镜阵列(26a、26b)在与线状光束的长轴方向对应的方向(Y方向)往复移动，一边进行激光照射，由此，入射到在后级设置的构成长轴用聚光光学系统的大型透镜(投影透镜30)的激光(1)的入射角以及强度按照每次发射而变化，所以，横向条纹被大幅度降低。

公开(公告)号：CN102077318B

公开(公告)日：2013-03-27

申请号：CN200980124021.1

申请日：2009-06-19

Applicant: 株式会社IHI

Inventor： 河口纪仁 ,  川上隆介 ,  西田健一郎 ,  M.正木 ,  森田胜

IPC: H01L21/20 ,  H01L21/268

CPC classification number: H01L21/02678 ,  B23K26/066 ,  B23K26/0738 ,  C30B1/023 ,  C30B29/06

Abstract: 本发明提供一种在激光的长轴方向的接缝部不会损害结晶性的均匀性，能够在基板整个面形成不能以目视确认接缝部的程度的良好的、均匀性高的结晶性半导体薄膜的激光退火方法及装置。在线状光束的照射中，通过配置在激光（2）的光路上的遮挡体（10），遮蔽与线状光束的端部对应的部分，以遮蔽量周期地增减的方式使遮挡体（10）工作。

公开(公告)号：CN101405841A

公开(公告)日：2009-04-08

申请号：CN200780009343.2

申请日：2007-03-15

Applicant: 株式会社IHI

Inventor： 石原照正 ,  桥本孝治 ,  水野昌幸 ,  森田胜

IPC: H01L21/26

CPC classification number: H01L21/324 ,  H01L21/67103

Abstract: 一种基板退火装置用的遮热板，具有：被水平地支承的平板状的基板(1)，位于基板的上方、通过辐射热而加热基板上表面的加热器(5)，能够在遮蔽基板和加热器之间的遮蔽位置和从遮蔽位置离开的开放位置之间水平移动的遮热板(10)。遮热板(10)，包括：由在遮蔽位置的温度差下几乎不变形的低热膨胀材料(碳复合材料)构成的构造部件(12)，和覆盖构造部件的上表面、将该构造部件保持在其容许温度以下的隔热部件(14)。

公开(公告)号：CN104882371A

公开(公告)日：2015-09-02

申请号：CN201510199238.6

申请日：2008-05-30

Applicant: 株式会社IHI

Inventor： 河口纪仁 ,  川上隆介 ,  西田健一郎 ,  M.正木 ,  森田胜

IPC: H01L21/268 ,  B23K26/073 ,  B23K26/04

CPC classification number: B23K26/0608 ,  B23K26/0676 ,  B23K26/0738 ,  B23K26/082 ,  H01L21/02532 ,  H01L21/02678 ,  H01L21/02686 ,  H01L21/02691 ,  H01L21/268

Abstract: 本发明涉及激光退火方法以及装置。在透镜阵列方式的均化器光学系统的情况下，一边使长轴用透镜阵列（20a、20b）在与线状光束的长轴方向对应的方向（X方向）往复移动，一边进行激光照射，由此，入射到在后级设置的构成长轴用聚光光学系统的大型透镜（长轴用聚光透镜22）的激光（1）的入射角以及强度按照每次发射而变化，所以，纵向条纹被大幅度降低。另外，一边使短轴用透镜阵列（26a、26b）在与线状光束的长轴方向对应的方向（Y方向）往复移动，一边进行激光照射，由此，入射到在后级设置的构成长轴用聚光光学系统的大型透镜（投影透镜30）的激光（1）的入射角以及强度按照每次发射而变化，所以，横向条纹被大幅度降低。

公开(公告)号：CN102077322B

公开(公告)日：2012-10-10

申请号：CN200980125234.6

申请日：2009-06-17

Applicant: 株式会社IHI

Inventor： 河口纪仁 ,  川上隆介 ,  西田健一郎 ,  伊泽淳 ,  M.正木 ,  森田胜

IPC: H01L21/268 ,  H01L21/20

CPC classification number: H01L21/268 ,  B23K26/0853 ,  B23K26/127 ,  B23K26/128 ,  B23K26/147 ,  B23K26/702 ,  B23K2103/56 ,  H01L21/02532 ,  H01L21/02675 ,  H01L21/67115

Abstract: 提供一种激光退火装置，能够减少惰性气体的温度的波动引起的激光的折射现象导致的激光的照射不均。激光退火装置（1）具备：气体供给装置（10），至少对被处理体（7）中的激光照射区域供给惰性气体（G）；以及气体温度调整装置（15），调整惰性气体（G）的温度。气体温度调整装置（15）对被供给到激光照射区域的惰性气体（G）的温度进行调整，使得惰性气体（G）的温度与惰性气体供给区域的外侧的包围激光的光路的空间（房间R）的气氛温度的温度差变小。

公开(公告)号：CN102077318A

公开(公告)日：2011-05-25

申请号：CN200980124021.1

申请日：2009-06-19

Applicant: 株式会社IHI

Inventor： 河口纪仁 ,  川上隆介 ,  西田健一郎 ,  M正木 ,  森田胜

IPC: H01L21/20 ,  H01L21/268

CPC classification number: H01L21/02678 ,  B23K26/066 ,  B23K26/0738 ,  C30B1/023 ,  C30B29/06

Abstract: 提供一种在激光的长轴方向的接缝部不会损害结晶性的均匀性，能够在基板整个面形成不能以目视确认接缝部的程度的良好的、均匀性高的结晶性半导体薄膜的激光退火方法及装置。在线状光束的照射中，通过配置在激光（2）的光路上的遮挡体（10），遮蔽与线状光束的端部对应的部分，以遮蔽量周期地增减的方式使遮挡体（10）工作。

公开(公告)号：CN102057467A

公开(公告)日：2011-05-11

申请号：CN200880129715.X

申请日：2008-06-12

Applicant: 株式会社IHI

Inventor： 河口纪仁 ,  川上隆介 ,  西田健一郎 ,  M正木 ,  森田胜 ,  芳之内淳

IPC: H01L21/268

CPC classification number: B23K26/0732 ,  B23K26/046 ,  B23K26/0665 ,  G02B27/0905 ,  G02B27/0966 ,  G02B27/48 ,  H01L21/02678

Abstract: 在使用了固体激光的激光退火中，能够容易地对应于半导体膜的激光照射部分的位置变动，对矩形光束的短轴方向的焦点位置进行补正。使用将入射光在短轴方向聚光的短轴用聚光透镜（29）、和将来自该短轴用聚光透镜（29）的出射光投影到上述半导体膜（3）的表面的投影透镜（30），使激光（1）在半导体膜（3）的表面在矩形光束的短轴方向聚光。以位置变动检测器（31）检测出半导体膜（3）的激光照射部分在该半导体膜的垂直方向的位置变动，基于该检测值使短轴用聚光透镜（29）在光轴方向移动。

公开(公告)号：CN102057467B

公开(公告)日：2013-02-13

申请号：CN200880129715.X

申请日：2008-06-12

Applicant: 株式会社IHI

Inventor： 河口纪仁 ,  川上隆介 ,  西田健一郎 ,  M.正木 ,  森田胜 ,  芳之内淳

IPC: H01L21/268

CPC classification number: B23K26/0732 ,  B23K26/046 ,  B23K26/0665 ,  G02B27/0905 ,  G02B27/0966 ,  G02B27/48 ,  H01L21/02678

Abstract: 在使用了固体激光的激光退火中，能够容易地对应于半导体膜的激光照射部分的位置变动，对矩形光束的短轴方向的焦点位置进行补正。使用将入射光在短轴方向聚光的短轴用聚光透镜（29）、和将来自该短轴用聚光透镜（29）的出射光投影到上述半导体膜（3）的表面的投影透镜（30），使激光（1）在半导体膜（3）的表面在矩形光束的短轴方向聚光。以位置变动检测器（31）检测出半导体膜（3）的激光照射部分在该半导体膜的垂直方向的位置变动，基于该检测值使短轴用聚光透镜（29）在光轴方向移动。

公开(公告)号：CN101911256B

公开(公告)日：2012-07-18

申请号：CN200880124168.6

申请日：2008-05-30

Applicant: 株式会社IHI

Inventor： 河口纪仁 ,  川上隆介 ,  西田健一郎 ,  M·正木 ,  森田胜

IPC: H01L21/268 ,  H01L21/20

CPC classification number: B23K26/0608 ,  B23K26/0676 ,  B23K26/0738 ,  B23K26/082 ,  H01L21/02532 ,  H01L21/02678 ,  H01L21/02686 ,  H01L21/02691 ,  H01L21/268

Abstract: 本发明涉及激光退火方法以及装置。在透镜阵列方式的均化器光学系统的情况下，一边使长轴用透镜阵列(20a、20b)在与线状光束的长轴方向对应的方向(X方向)往复移动，一边进行激光照射，由此，入射到在后级设置的构成长轴用聚光光学系统的大型透镜(长轴用聚光透镜22)的激光(1)的入射角以及强度按照每次发射而变化，所以，纵向条纹被大幅度降低。另外，一边使短轴用透镜阵列(26a、26b)在与线状光束的长轴方向对应的方向(Y方向)往复移动，一边进行激光照射，由此，入射到在后级设置的构成长轴用聚光光学系统的大型透镜(投影透镜30)的激光(1)的入射角以及强度按照每次发射而变化，所以，横向条纹被大幅度降低。

公开(公告)号：CN102513701B

公开(公告)日：2015-08-19

申请号：CN201210017054.X

申请日：2008-05-30

Applicant: 株式会社IHI

Inventor： 河口纪仁 ,  川上隆介 ,  西田健一郎 ,  M.正木 ,  森田胜

IPC: H01L21/268

CPC classification number: B23K26/0608 ,  B23K26/0676 ,  B23K26/0738 ,  B23K26/082 ,  H01L21/02532 ,  H01L21/02678 ,  H01L21/02686 ,  H01L21/02691 ,  H01L21/268

Abstract: 本发明涉及激光退火方法以及装置。在透镜阵列方式的均化器光学系统的情况下，一边使长轴用透镜阵列（20a、20b）在与线状光束的长轴方向对应的方向（X方向）往复移动，一边进行激光照射，由此，入射到在后级设置的构成长轴用聚光光学系统的大型透镜（长轴用聚光透镜22）的激光（1）的入射角以及强度按照每次发射而变化，所以，纵向条纹被大幅度降低。另外，一边使短轴用透镜阵列（26a、26b）在与线状光束的长轴方向对应的方向（Y方向）往复移动，一边进行激光照射，由此，入射到在后级设置的构成长轴用聚光光学系统的大型透镜（投影透镜30）的激光（1）的入射角以及强度按照每次发射而变化，所以，横向条纹被大幅度降低。