公开(公告)号：CN101063826A

公开(公告)日：2007-10-31

申请号：CN200710092240.9

申请日：2007-04-02

Applicant: 株式会社ORC制作所

Inventor： 佐藤仁 ,  中泽朗 ,  百濑克己

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明提供一种投影曝光装置，抑制了装置的水平方向及垂直方向的大小而使其设置容积比现有的装置的设置容积小。投影曝光装置(20)使用配置于铅直方向的曝光台(24)，将掩模(M)的图案利用照射光投影在膜带状的工件(F)上而进行曝光，该投影曝光装置包括：搬运机构(25)，其将工件于铅直方向朝曝光台移动；以及投影光学机构，其具有戴森光学系统(23)，该戴森光学系统(23)配置在与该搬运机构以曝光台为边界的相邻位置上，戴森光学系统配置成使得入射到该戴森光学系统的照射光的光轴以及从该戴森光学系统射出的照射光的光轴与曝光台上的工件成正交。

公开(公告)号：CN100529970C

公开(公告)日：2009-08-19

申请号：CN200710092240.9

申请日：2007-04-02

Applicant: 株式会社ORC制作所

Inventor： 佐藤仁 ,  中泽朗 ,  百濑克己

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明提供一种投影曝光装置，抑制了装置的水平方向及垂直方向的大小而使其设置容积比现有的装置的设置容积小。投影曝光装置(20)使用配置于铅直方向的曝光台(24)，将掩模(M)的图案利用照射光投影在膜带状的工件(F)上而进行曝光，该投影曝光装置包括：搬运机构(25)，其将工件于铅直方向朝曝光台移动；以及投影光学机构，其具有戴森光学系统(23)，该戴森光学系统(23)配置在与该搬运机构以曝光台为边界的相邻位置上，戴森光学系统配置成使得入射到该戴森光学系统的照射光的光轴以及从该戴森光学系统射出的照射光的光轴与曝光台上的工件成正交。

公开(公告)号：CN1299145C

公开(公告)日：2007-02-07

申请号：CN200410045552.0

申请日：2004-05-28

Applicant: 株式会社ORC制作所

Inventor： 百濑克己 ,  山贺胜 ,  松永真一

IPC: G02B15/16 ,  G02B13/22 ,  G02B17/08 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70716 ,  G03F7/2002 ,  G03F7/70258

Abstract: 本发明提供了一种将掩模图形投影到工件上的投影曝光装置。该装置有基座、光源、光学系统、掩模支承机构、工件支承机构以及对准机构。光学系统使光线形成为载有掩模的图像信息的投影光线，并引导该投影光线通过预定光路，从而使投影光线能够投影到工件的曝光表面上。光学系统包括投影光学系统和照明光学系统。该投影光学系统垂直于基座布置。掩模和工件支承机构分别相对于基座垂直支承掩模和工件。这样，工件的曝光表面能够与在光路中的成像平面重合。