-
公开(公告)号：CN101063831A
公开(公告)日：2007-10-31
申请号：CN200710104445.4
申请日：2007-04-20
Applicant: 株式会社ORC制作所
Abstract: 本发明提供一种搬运装置，其是一种不对带状的工件施加负荷、以稳定的状态进行搬运的搬运机构。搬运机构(A)的供给卷筒旋转部(1)配置于比供给侧第一导引滚子(2)高的位置，供给侧第二导引滚子(3)配置于与供给侧第一导引滚子(2)相同或较低的位置，并且该供给侧第二导引滚子(3)配置于比第一搬运滚子(4)高的位置，卷绕卷筒旋转部(9)配置于比卷绕侧第二导引滚子(8)高的位置。卷绕侧第二导引滚子(8)配置于与卷绕侧第一导引滚子(7)相同或较高的位置，并且该卷绕侧第二导引滚子(8)配置于比卷绕卷筒旋转部(9)低的位置。在第一搬运滚子(4)和第二搬运滚子(6)上具有使工件吸附于滚子表面(41a)的吸附单元(42)。
-
公开(公告)号：CN100529970C
公开(公告)日：2009-08-19
申请号：CN200710092240.9
申请日：2007-04-02
Applicant: 株式会社ORC制作所
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种投影曝光装置，抑制了装置的水平方向及垂直方向的大小而使其设置容积比现有的装置的设置容积小。投影曝光装置(20)使用配置于铅直方向的曝光台(24)，将掩模(M)的图案利用照射光投影在膜带状的工件(F)上而进行曝光，该投影曝光装置包括：搬运机构(25)，其将工件于铅直方向朝曝光台移动；以及投影光学机构，其具有戴森光学系统(23)，该戴森光学系统(23)配置在与该搬运机构以曝光台为边界的相邻位置上，戴森光学系统配置成使得入射到该戴森光学系统的照射光的光轴以及从该戴森光学系统射出的照射光的光轴与曝光台上的工件成正交。
-
公开(公告)号：CN100504619C
公开(公告)日：2009-06-24
申请号：CN200710091393.1
申请日：2007-03-30
Applicant: 株式会社ORC制作所
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供曝光装置和曝光方法。该曝光装置可将带子(6)的中央区域(17)与侧边区域(19)固定在曝光台(2)上。上述曝光装置每次将两侧形成有穿孔(20)的薄膜状的带子(6)的一块(21)输送至曝光台(2)，同时在曝光台(2)上按照每一块(21)对带子(6)进行曝光，曝光台(2)具有：设有中央吸引口(13)的中央部(22)，该中央吸引口作用第一吸气力吸引以穿孔(20)为边界而配置于内侧的带子(6)的中央区域(17)，吸引并吸附中央区域(17)；设有侧边吸引口(3)的侧边部(23)，该侧边吸引口作用比第一吸气力大的第二吸气力吸引以穿孔(20)为边界而配置于外侧的带子(6)的侧边区域(19)，吸引并吸附侧边区域(19)。
-
公开(公告)号：CN106483773B
公开(公告)日：2020-02-28
申请号：CN201610709282.1
申请日：2016-08-23
Applicant: 株式会社ORC制作所
Inventor： 中泽朗
IPC: G03F7/20 , G03F7/22 , H01L21/027
Abstract: 投影曝光装置、投影曝光方法以及掩模版，该投影曝光装置使用掩模版形成图案，在提升生产量的同时，将掩模图案精度良好地转印到基板上。投影曝光装置(10)使用形成有图案排列数分别不同的多个掩模域(F1～F4)的掩模版(R)，针对形成于基板(W)的投射区域(CP)确定运算区域(OA)，在位置对准误差量在允许误差以下时，选择最大尺寸的掩模域。
-
公开(公告)号：CN103403624A
公开(公告)日：2013-11-20
申请号：CN201280010916.4
申请日：2012-03-05
Applicant: 株式会社ORC制作所
IPC: G03F9/00 , H01L21/027 , H05K3/00
CPC classification number: G03F9/00 , H05K1/0269 , H05K3/0008 , H05K2201/09918
Abstract: 本发明提供一种对位装置，其在电子电路用的多层印刷基板中能够保持与下层的对位精度，并能整合安装在表面上的电子部件之间的对位。该对位装置具有：存储部（82），其存储对准标记（AM）应当形成在基板（PB）上的设计坐标位置（MC）；测定部（70），其测定转印到基板的对准标记的坐标位置；以及计算部（84），其计算将测定部测定出的对准标记的坐标位置向设计坐标位置移动了预定距离的目标坐标位置（TG）。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105388708A
公开(公告)日：2016-03-09
申请号：CN201510526534.2
申请日：2015-08-25
Applicant: 株式会社ORC制作所
Inventor： 中泽朗
IPC: G03F7/20
Abstract: 投影曝光装置和方法、光掩模以及基板的制造方法。在投影曝光装置中，使掩模图案高精度地对准并转印到基板的投射区域上。在中间掩模上形成与多个投射区域变形对应的掩模图案，并按照步进和重复方式，将掩模图案转印到形成有多个投射区域的基板上。按照全局对准方式，计测样本用对准标记的位置坐标，根据全局对准区域的形状误差，检测投射区域的形状误差。进而，选择具有与该形状误差对应的、即变形情况处于相同的趋势的范围形状的掩模图案。
-
公开(公告)号：CN100517080C
公开(公告)日：2009-07-22
申请号：CN200710104445.4
申请日：2007-04-20
Applicant: 株式会社ORC制作所
Abstract: 本发明提供一种搬运装置，其是一种不对带状的工件施加负荷、以稳定的状态进行搬运的搬运机构。搬运机构(A)的供给卷筒旋转部(1)配置于比供给侧第一导引滚子(2)高的位置，供给侧第二导引滚子(3)配置于与供给侧第一导引滚子(2)相同或较低的位置，并且该供给侧第二导引滚子(3)配置于比第一搬运滚子(4)高的位置，卷绕卷筒旋转部(9)配置于比卷绕侧第二导引滚子(8)高的位置。卷绕侧第二导引滚子(8)配置于与卷绕侧第一导引滚子(7)相同或较高的位置，并且该卷绕侧第二导引滚子(8)配置于比卷绕卷筒旋转部(9)低的位置。在第一搬运滚子(4)和第二搬运滚子(6)上具有使工件吸附于滚子表面(41a)的吸附单元(42)。
-
公开(公告)号：CN101286012A
公开(公告)日：2008-10-15
申请号：CN200810086963.2
申请日：2008-03-28
Applicant: 株式会社ORC制作所
Abstract: 本发明涉及一种在基板上形成预定图案的投影曝光装置。用于在基板上形成图案的该投影曝光装置包括：掩模台，该掩模台用于保持其上具有预定图案的光掩模；光源，该光源用于发射包含包括g线、h线、i线及j线在内的光谱线的光线；波长选择器，该波长选择器用于从所述光源发射的光线中选择包含预定光谱线的光线；照明光学系统，该照明光学系统用于用所选光线照射所述光掩模；Offner式投影系统，该Offner式投影系统用于将穿过所述光掩模的光投影至所述基板上；基板台，该基板台包括用于保持所述基板的真空部，该基板台用于定位所述基板；以及遮光体，该遮光体用于部分地阻挡照射到所述基板上的光。
-
公开(公告)号：CN101063826A
公开(公告)日：2007-10-31
申请号：CN200710092240.9
申请日：2007-04-02
Applicant: 株式会社ORC制作所
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种投影曝光装置，抑制了装置的水平方向及垂直方向的大小而使其设置容积比现有的装置的设置容积小。投影曝光装置(20)使用配置于铅直方向的曝光台(24)，将掩模(M)的图案利用照射光投影在膜带状的工件(F)上而进行曝光，该投影曝光装置包括：搬运机构(25)，其将工件于铅直方向朝曝光台移动；以及投影光学机构，其具有戴森光学系统(23)，该戴森光学系统(23)配置在与该搬运机构以曝光台为边界的相邻位置上，戴森光学系统配置成使得入射到该戴森光学系统的照射光的光轴以及从该戴森光学系统射出的照射光的光轴与曝光台上的工件成正交。
-
公开(公告)号：CN105388708B
公开(公告)日：2018-10-09
申请号：CN201510526534.2
申请日：2015-08-25
Applicant: 株式会社ORC制作所
Inventor： 中泽朗
IPC: G03F7/20
Abstract: 投影曝光装置和方法、光掩模以及基板的制造方法。在投影曝光装置中，使掩模图案高精度地对准并转印到基板的投射区域上。在中间掩模上形成与多个投射区域变形对应的掩模图案，并按照步进和重复方式，将掩模图案转印到形成有多个投射区域的基板上。按照全局对准方式，计测样本用对准标记的位置坐标，根据全局对准区域的形状误差，检测投射区域的形状误差。进而，选择具有与该形状误差对应的、即变形情况处于相同的趋势的范围形状的掩模图案。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
13
records
(took 0.024 seconds)
