公开(公告)号：CN120035880A

公开(公告)日：2025-05-23

申请号：CN202380072258.X

申请日：2023-12-01

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 奥野武志 ,  木下理裕 ,  桥爪瑞葵 ,  杨映保 ,  针谷香织 ,  后藤顺

IPC: H01L21/268 ,  B23K26/064 ,  G02B6/42 ,  H01L21/20

Abstract: 激光退火装置具备射出激光的光源以及供所述激光从一端部入射并传输所述激光而将激光从另一端部射出的多模的光纤，其中，激光退火装置具备具有振动头部的振动源，所述光纤配置于所述振动头部的安装面，激光退火装置具备支承部，该支承部覆盖配置于所述安装面的所述光纤的区域且将所述光纤支承并按压于所述安装面，所述光纤与和该光纤接触的所述支承部的振动传递率设定为比所述安装面与所述光纤的振动传递率小。

公开(公告)号：CN112447506A

公开(公告)日：2021-03-05

申请号：CN202010871334.1

申请日：2020-08-26

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 小杉纯一 ,  杨映保

IPC: H01L21/268 ,  H01L21/324 ,  H01L21/02 ,  H01L21/84

Abstract: 本发明涉及激光退火装置及激光退火方法。激光退火装置具备：光源，其射出连续振荡的激光；以及光学头，其将从光源射出的各个激光加工成为收敛的激光束，激光束能够对应地投影到位于栅极线的上方的改质预定区域内，光学头在激光束中最收敛的点部位于改质预定区域的非晶硅膜的膜内部的状态下，在改质预定区域内沿着栅极线延伸的方向相对性地扫描激光束。

公开(公告)号：CN113330538A

公开(公告)日：2021-08-31

申请号：CN202080010817.0

申请日：2020-01-16

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 后藤顺 ,  杨映保 ,  水村通伸 ,  盐饱义大

IPC: H01L21/20

Abstract: 进行照射第一激光束来使非晶硅膜变化为微晶硅膜的第一激光束照射和使第二激光束以该微晶硅膜为起点沿着所述规定方向移动而在基板面上横向结晶生长出晶化硅膜的第二激光束照射，在基板面上沿着规定方向交替地形成微晶硅膜和晶化硅膜。

公开(公告)号：CN213366530U

公开(公告)日：2021-06-04

申请号：CN202021814163.0

申请日：2020-08-26

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 小杉纯一 ,  杨映保

IPC: H01L21/268 ,  H01L21/324 ,  H01L21/02 ,  H01L21/84

Abstract: 本实用新型涉及激光退火装置。激光退火装置具备：光源，其射出连续振荡的激光；以及光学头，其将从光源射出的各个激光加工成为收敛的激光束，激光束能够对应地投影到位于栅极线的上方的改质预定区域内，光学头在激光束中最收敛的点部位于改质预定区域的非晶硅膜的膜内部的状态下，在改质预定区域内沿着栅极线延伸的方向相对性地扫描激光束。

公开(公告)号：CN118742994A

公开(公告)日：2024-10-01

申请号：CN202380023503.8

申请日：2023-01-26

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 木下理裕 ,  杨映保 ,  鸟山诚也 ,  小杉纯一 ,  后藤顺 ,  泽井卓哉

IPC: H01L21/20 ,  H01L21/268

Abstract: 激光退火装置具备射出激光束的多个光束出射部，所述激光束由连续振荡激光构成且相对于被照射面具有长方形的光束点，所述激光退火装置使所述激光束相对于在基板上成膜的非晶硅膜沿着扫描方向相对地进行扫描，而将所述非晶硅膜的带状的改性预定区域晶化，其中，所述光束点的长边与正交于所述扫描方向的方向平行，所述光束点的长边的长度设定为比由于内部应力而使所述基板破损的长度短，其中，所述内部应力是伴随着基于所述激光束的照射引起的加热而产生的对所述基板来说固有的应力。