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公开(公告)号：CN116641028A
公开(公告)日：2023-08-25
申请号：CN202310386885.2
申请日：2023-04-12
申请人： 核工业西南物理研究院 , 中核同创(成都)科技有限公司
摘要： 本发明公开了一种用于管状工件的内壁镀膜装置、镀膜方法，包括真空室；柱状阴极弧源，置于管状工件内部，与管状工件一起固定连接于真空室顶部；加热系统，装配于真空室上，用于对管状工件进行加热；阴极弧电源，连接于柱状阴极弧源以形成回路；电抗器，串联接入柱状阴极弧源与阴极弧电源、真空室形成的回路中；非对称双极性脉冲偏压电源，作为工件偏压具有输出电极A和输出电极B，输出电极A、B分别连接管状工件、真空室。采用电抗器的稳弧作用，再结合非对称双极性脉冲偏压电源的正、负脉冲周期性输出特性，解决半封闭环境中阴极弧源放电的“阳极消失”问题，实现内置式柱状阴极弧源长期稳定工作，工艺简单稳定，设备结构简单，镀膜效率高。
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公开(公告)号：CN114351087B
公开(公告)日：2023-03-17
申请号：CN202111536148.3
申请日：2021-12-15
申请人： 核工业西南物理研究院 , 中核同创(成都)科技有限公司
摘要： 本发明属于表面工程技术领域，具体涉及一种CrAlVSiN涂层的制备方法，该CrAlVSiN涂层包括过渡层、中间层和功能层，过渡层沉积于基材表面，中间层沉积于过渡层上，功能层沉积于中间层上；过渡层为TiAlN，中间层为CrAlTiN；功能层为CrAlTiN。本发明通过引入射频、脉冲等辉光放电，或霍尔放电模式引入高能离子束进行活化处理，优化过程参数，实现了CrAlVSiN硬质涂层膜基结合力的提升，制备获得的CrAlVSiN涂层硬度高、耐磨性强并且抗高温氧化，在作为刀具、模具和轴承的表面功能涂层时能够表现出良好的切削寿命、抗粘附性和强化保护作用。
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公开(公告)号：CN112701436A
公开(公告)日：2021-04-23
申请号：CN202011407860.9
申请日：2020-12-04
申请人： 核工业西南物理研究院
IPC分类号： H01P11/00
摘要： 本发明属于非金属表面金属化领域，具体涉及一种带有盲孔和通孔的陶瓷介质滤波器的均匀电镀增厚方法，包括：制备种子层、包裹介质导流膜、电镀增厚金属层和取出陶瓷介质滤波器。本发明方法采用真空离子镀制备种子层再用电镀增厚金属层的组合方式进行表面金属化，在确保结合力的前提下，提高了生产效率；通过设置介质导流膜，有效解决了现有技术中盲孔和通孔结构件一次性电镀方法，无法满足陶瓷介质滤波器对表面金属层厚度一致性的要求问题。
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公开(公告)号：CN108611590B
公开(公告)日：2021-02-09
申请号：CN201611145210.5
申请日：2016-12-13
申请人： 核工业西南物理研究院 , 成都同创材料表面新技术工程中心
摘要： 本发明属于低温等离子体材料表面处理技术领域，具体涉及一种Ti合金工件防咬死的方法。本方法包括九个步骤，本方法实现Ti合金工件烘烤除气、离子束溅射清洗和原位离子束辅助磁控溅射沉积Ti‑TiN周期复合涂层的制备工艺，以得到均匀致密、结合性能良好的Ti‑TiN周期复合涂层。提高工件耐磨、抗疲劳和微动磨损等性能，达到防咬死和耐磨的要求。在Ti合金紧固件内螺纹表面制备的Ti‑TiN周期复合涂层，纯度高、膜基结合性能好、膜层均匀致密、界面处无孔隙，处理后的Ti合金紧固件达到耐磨、防咬死、抗微动磨损等要求，防咬死性能较未处理工件至少提高了2倍，满足某型号装备使用要求，大大降低了成本，提高了装备的整体使用稳定性和使用寿命。
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公开(公告)号：CN102094173A
公开(公告)日：2011-06-15
申请号：CN200910250282.X
申请日：2009-12-11
申请人： 核工业西南物理研究院
摘要： 本发明所提供的原位等离子体涂镀Ti/Cu复合涂层工艺属于低温等离子体材料表面处理技术领域。通过原位等离子体沉积技术在基体表面制备符合技术要求的Ti/Cu复合膜层。本工艺主要包括：待处理工件化学清洗；工件烘烤除气；辉光清洗；复合涂层制备等处理步骤。通过本发明，在工件表面沉积的复合涂层纯度高，表面光洁度好(Ra＜1.6μm)，涂层均匀致密，界面处无孔隙，膜/基结合牢固，符合相关工艺要求。本发明可用于包括聚变堆面对等离子体第一壁材料的复合涂层制备。
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公开(公告)号：CN117783415A
公开(公告)日：2024-03-29
申请号：CN202311815942.0
申请日：2023-12-27
申请人： 核工业西南物理研究院 , 中核同创(成都)科技有限公司
摘要： 本发明公开了一种高频燃气流烧蚀试验装置，涉及机械装备制造领域，包括高频转动系统和点火推进系统；所述高频转动系统包括第一驱动电机以及试样架，所述试样架上带有转动连接的固定盘，所述固定盘平放设置，所述第一驱动电机和所述固定盘一端连接，并用于驱动所述固定盘绕自身中线旋转；所述固定盘另一端的偏心位置处带有样品夹持区；所述点火推进系统包括移动组件和点火装置，所述点火装置设置于所述移动组件上，所述移动组件用于带动所述点火装置移动；所述点火装置的火焰喷嘴用于对准所述样品夹持区进行烧蚀，采用本方案，通过旋转过程中的周期性高频次冲刷，为炮筒等需经受高频燃气流烧蚀的部件展开环境模拟试验。
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公开(公告)号：CN117344269A
公开(公告)日：2024-01-05
申请号：CN202210742086.X
申请日：2022-06-27
申请人： 核工业西南物理研究院 , 中核同创(成都)科技有限公司
摘要： 本发明属于非晶合金涂层技术领域，具体涉及一种铁基非晶、纳米晶带材表面绝缘涂层制备方法，包括如下步骤：步骤一：对待涂覆非晶、纳米晶带材表面进行化学清洗；步骤二：将待涂覆非晶、纳米晶带材装炉后进行抽真空，真空室加热烘烤除气；步骤三：对步骤二中真空室内的非晶、纳米晶带材通入一定体积比的氩气和反应气体，在带材表面沉积绝缘层；步骤四：真空室放气，取出涂覆完成的非晶、纳米晶带材。采用本发明方法制备的致密绝缘涂层膜绝缘特性良好，膜层厚度小，均匀性好，不损伤基体产品的总厚度及色泽，具有广泛的应用价值，应用范围不仅限于非晶、纳米晶带材及块材，还可作为片式高性能薄膜电阻的电阻膜。
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公开(公告)号：CN114351087A
公开(公告)日：2022-04-15
申请号：CN202111536148.3
申请日：2021-12-15
申请人： 核工业西南物理研究院 , 中核同创(成都)科技有限公司
摘要： 本发明属于表面工程技术领域，具体涉及一种CrAlVSiN涂层的制备方法，该CrAlVSiN涂层包括过渡层、中间层和功能层，过渡层沉积于基材表面，中间层沉积于过渡层上，功能层沉积于中间层上；过渡层为TiAlN，中间层为CrAlTiN；功能层为CrAlTiN。本发明通过引入射频、脉冲等辉光放电，或霍尔放电模式引入高能离子束进行活化处理，优化过程参数，实现了CrAlVSiN硬质涂层膜基结合力的提升，制备获得的CrAlVSiN涂层硬度高、耐磨性强并且抗高温氧化，在作为刀具、模具和轴承的表面功能涂层时能够表现出良好的切削寿命、抗粘附性和强化保护作用。
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公开(公告)号：CN112701436B
公开(公告)日：2021-10-22
申请号：CN202011407860.9
申请日：2020-12-04
申请人： 核工业西南物理研究院
IPC分类号： H01P11/00
摘要： 本发明属于非金属表面金属化领域，具体涉及一种带有盲孔和通孔的陶瓷介质滤波器的均匀电镀增厚方法，包括：制备种子层、包裹介质导流膜、电镀增厚金属层和取出陶瓷介质滤波器。本发明方法采用真空离子镀制备种子层再用电镀增厚金属层的组合方式进行表面金属化，在确保结合力的前提下，提高了生产效率；通过设置介质导流膜，有效解决了现有技术中盲孔和通孔结构件一次性电镀方法，无法满足陶瓷介质滤波器对表面金属层厚度一致性的要求问题。
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公开(公告)号：CN117779161A
公开(公告)日：2024-03-29
申请号：CN202311832459.3
申请日：2023-12-28
申请人： 核工业西南物理研究院 , 中核同创(成都)科技有限公司
IPC分类号： C25F3/16
摘要： 本发明公开了一种绝缘耐腐蚀的碳基涂层的退镀方法，包括去除绝缘耐腐蚀的碳基涂层的绝缘性以使其具有导电性；对具有导电性的碳基涂层进行电解抛光处理以退镀；所述碳基涂层的厚度为1‑50μm。本发明使碳基涂层具有导电性，为后续的电解抛光的方法退镀提供必备条件，可以获得均匀的电流分布；在碳基涂层表面导电后，电解抛光方法提供了膜层脱落的动力学条件，实现涂层剥落；同时在电解过程中产生的气泡、氢化物的涌出也对碳基涂层提供了机械的剥离作用。退镀方法温和、快速且有效，不会损害金属基体，克服了现有的退镀方法对绝缘耐腐蚀碳基涂层退镀效果差的弊端，不再受限于工件的形状结构与尺寸大小，适用范围更广。
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