一种铋基2-氨基-4-甲基吡啶有机-无机杂化材料及制备方法

    公开(公告)号:CN112941613B

    公开(公告)日:2023-06-23

    申请号:CN201911259673.8

    申请日:2019-12-10

    Abstract: 本发明公开了一种铋基2‑氨基‑4‑甲基吡啶有机‑无机杂化材料,是分子式为(C6H8N2)aBibXc的单晶;其制备方法包括以下具体步骤:(1)向Bi2O3中滴加氢卤酸,混匀后,得到澄清溶液;所述氢卤酸为HX的水溶液,X为Cl、Br、I中的一种或多种;(2)将2‑氨基‑4‑甲基吡啶加入到步骤(1)所得澄清溶液中,超声处理后,得到浑浊溶液;(3)将步骤(2)所得浑浊溶液在90~250℃条件下保温5~30 h,冷却至室温,得到(C6H8N2)aBibXc晶体,即为铋基2‑氨基‑4‑甲基吡啶有机‑无机杂化材料。该(C6H8N2)aBibXc单晶的光学带隙在1.60 eV~3.20 eV之间连续可调,能够吸收可见光谱中更宽的波长范围,其温度稳定性最高可达400℃,在空气中可稳定存放两个月左右,稳定性较高。

    一种铋基2-氨基-4-甲基吡啶有机-无机杂化材料及制备方法

    公开(公告)号:CN112941613A

    公开(公告)日:2021-06-11

    申请号:CN201911259673.8

    申请日:2019-12-10

    Abstract: 本发明公开了一种铋基2‑氨基‑4‑甲基吡啶有机‑无机杂化材料,是分子式为(C6H8N2)aBibXc的单晶;其制备方法包括以下具体步骤:(1)向Bi2O3中滴加氢卤酸,混匀后,得到澄清溶液;所述氢卤酸为HX的水溶液,X为Cl、Br、I中的一种或多种;(2)将2‑氨基‑4‑甲基吡啶加入到步骤(1)所得澄清溶液中,超声处理后,得到浑浊溶液;(3)将步骤(2)所得浑浊溶液在90~250℃条件下保温5~30 h,冷却至室温,得到(C6H8N2)aBibXc晶体,即为铋基2‑氨基‑4‑甲基吡啶有机‑无机杂化材料。该(C6H8N2)aBibXc单晶的光学带隙在1.60 eV~3.20 eV之间连续可调,能够吸收可见光谱中更宽的波长范围,其温度稳定性最高可达400℃,在空气中可稳定存放两个月左右,稳定性较高。

    一种窄带隙有机-无机低维杂化材料及其合成方法

    公开(公告)号:CN109371470A

    公开(公告)日:2019-02-22

    申请号:CN201811281294.4

    申请日:2018-10-30

    Abstract: 本发明公开了一种窄带隙有机-无机低维杂化材料及其合成方法。具体实验步骤如下:量取10.00~15.00mL乙二胺溶液于三口烧瓶中,在冰水浴条件下边搅拌边缓慢滴加45.00~60.00mL的浓度为45%氢碘酸溶液,磁力搅拌2~5小时,将混合溶液放入培养皿中60~80℃干燥20~30小时,得到白色晶体,将此白色晶体用30.00~60.00mL乙醚洗涤2~4次,然后60~80℃条件下真空干燥20~30小时,得到白色粉末A。称取5.0~5.5mmol Bi2O3加入样品瓶中,加入5~10mL的浓度为45%氢碘酸溶液得到澄清溶液,随后加入10.0~11.00mmol上述白色粉末A,将得到的反应液放入水热反应釜中,在90℃条件下保温10h;冷却至室温,在反应釜底部会生成晶体,即为(NH3CH2CH2NH3)Bi2I10晶体。其带隙约为1.89eV,并且其稳定性可达310℃,可以在空气中稳定存放15天左右。

    荧光材料(CH2NH3)2ZnI4
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN109336771A

    公开(公告)日:2019-02-15

    申请号:CN201811334971.4

    申请日:2018-11-10

    Abstract: 本发明公开了一种荧光材料(CH2NH3)2ZnI4。该荧光材料(CH2NH3)2ZnI4的分子式为:C2H10N2ZnI4,分子量为635.09。量取6.00~9.00mL的浓度为99.9%乙二胺于三口烧瓶中,在冰水浴条件下边搅拌边缓慢滴加34.00~51.00mL的浓度为45%氢碘酸溶液,接着搅拌2~10小时,将混合溶液放入培养皿中50~70℃干燥20~40小时,得到淡黄色晶体,将此淡黄色晶体先用用乙醚洗涤1~2次,然后用体积比为2~4:1的乙醚-乙醇混合溶液搅拌洗涤3~4次,得到白色粉末。称取3.190~6.380g白色粉末和3.190~6.380g ZnI2于样品瓶,随后加入10~20mL γ-丁内酯,60~90℃搅拌6~12小时得到澄清溶液,将溶液放入鼓风干燥箱,80~90℃挥发4~6天,得到底部透明晶粒即为荧光材料(CH2NH3)2ZnI4。荧光材料(CH2NH3)2ZnI4在380nm的入射光照射下产生强度为930a.u.的518nm荧光。本发明工艺简单、成本低廉、化学组分易于控制、重复性好。

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