晶圆电荷监测
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN108878303A

    公开(公告)日:2018-11-23

    申请号:CN201810263323.8

    申请日:2018-03-28

    Abstract: 本发明公开了一种监测晶圆电荷的装置与方法。一导电针、一导电弹簧和一导电线被串联地配置而连接晶圆背表面以及样本导体进而使得晶圆背表面与样本导体表面具有相等的电荷密度。因此,可借用位置靠近样本导体表面的静电传感器来监测晶圆上的电荷。注意出现在晶圆前表面的电荷会在晶圆背表面引发电荷。通常,样本导体是片状导体并且与周围环境被适当地隔离。通常,样本导体和静电传感器皆是位于放置与处理晶圆的反应室的外部,借以简化反应室内部装置以及减少污染危险。

    晶圆电荷监测
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN108878303B

    公开(公告)日:2022-09-13

    申请号:CN201810263323.8

    申请日:2018-03-28

    Abstract: 本发明公开了一种监测晶圆电荷的装置与方法。一导电针、一导电弹簧和一导电线被串联地配置而连接晶圆背表面以及样本导体进而使得晶圆背表面与样本导体表面具有相等的电荷密度。因此,可借用位置靠近样本导体表面的静电传感器来监测晶圆上的电荷。注意出现在晶圆前表面的电荷会在晶圆背表面引发电荷。通常,样本导体是片状导体并且与周围环境被适当地隔离。通常,样本导体和静电传感器皆是位于放置与处理晶圆的反应室的外部,借以简化反应室内部装置以及减少污染危险。

    清洁静电吸盘的方法
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN107030064A

    公开(公告)日:2017-08-11

    申请号:CN201610946708.5

    申请日:2016-10-26

    Abstract: 一种清洁静电吸盘的方法。在静电吸盘并未固持任何工件于其工作表面时,传输离子束至静电吸盘的工作表面,借以通过离子束与工作表面上沉积物的相互作用,像是物理性轰击及/或化学性结合,将沉积物自静电吸盘工作表面移除。借此,在静电吸盘并未固持工件时出现在静电吸盘工作表面的沉积物,不论是自工件脱落的光阻剂或是漂浮于制造过程反应室的颗粒等等,对于静电吸盘与工件之间实际固持力量的影响得以改善。离子束的电流量、能量与离子种类皆可以视沉积物的结构、厚度与材料等而定,像是使用低能量离子束以减少损伤静电吸盘工作表面的可能性,像是使用氧离子或是惰性气体离子等来一面移除沉积物又一面减少对静电吸盘工作表面的电介质层导电性的影响。

Patent Agency Ranking