一种超低损耗抗弯光纤及其制备方法

    公开(公告)号:CN117950108A

    公开(公告)日:2024-04-30

    申请号:CN202410160565.X

    申请日:2024-02-05

    摘要: 本发明公开了一种超低损耗抗弯光纤及其制备方法,所述光纤包括从内到外依次设置的纤芯层、第一内包层、第二内包层和外包层,所述纤芯层的相对折射率差Δn1为0.28%~0.36%,第一内包层的相对折射率差Δn2为‑0.03%~‑0.09%,第二内包层的相对折射率差Δn3为‑0.04%~‑0.1%,外包层的相对折射率差Δn4为‑0.01%~‑0.06%。本发明的纤芯层相对折射率差径向由Δn1线性降低为Δn2,可以降低弯曲状态下折射率剖面的畸变程度;优化了第一内包层和第二内包层的相对折射率差,可以提高产品的宏弯性能;优化了芯包层的掺杂浓度,可以减少芯/包层的界面上缺陷和断键,从而可以大大降低光纤的衰减系数;优化了芯包层的直径,可以减少外包层中的羟基扩散至纤芯层,从而可以进一步降低光纤的衰减系数。