一种传函仪用长波红外显微镜

    公开(公告)号:CN115808777B

    公开(公告)日:2024-07-09

    申请号:CN202211578699.0

    申请日:2022-12-05

    Abstract: 本发明公开了一种传函仪用长波红外显微镜,涉及红外显微领域。本发明采用无穷远校正的设计形式,这种形式简单可靠,在装调检测阶段便于分别对其前、后组的成像质量进行评估,且降低了装调要求,绝对长度115.81mm。系统包括前组和后组,其中前组包括3片透镜,后组包括2片透镜,透镜材料全为红外镜头常用材料锗和硒化锌,通过不同材料的搭配、常规透镜和非球面及衍射面的搭配,实现对8~12um波段平场复消色差及5倍放大。本发明物镜焦距为15mm,管镜焦距为75mm。显微镜焦距为22mm,物方数值孔径为0.75,本发明显微镜适用于640×512长波非制冷探测器,具有大数值孔径,分辨率高,平场复消色差、简单可靠、易于装调等特点。

    一种基于古典抛光的光学元件光洁度提升方法

    公开(公告)号:CN117961713A

    公开(公告)日:2024-05-03

    申请号:CN202410253334.3

    申请日:2024-03-05

    Abstract: 本发明提供了一种基于古典抛光的光学元件光洁度提升方法,包括如下步骤:S1.粗磨成型;S2.精磨,去除粗磨留下的裂纹层;S3.抛光:采用古典抛光法依次抛光两个镜面,使光洁度达到Ⅶ,除光洁度之外的其他指标均达到设计要求;S4.手修抛光:抛光模上粘有抛光红布,抛光红布上添加抛光液,进行手修抛光,使光洁度优于Ⅳ级,所述抛光液为单晶钻石液;所述光学元件的材料为磷冕玻璃或氟化钙晶体。本发明的方法可以提升磷冕玻璃和氟化钙晶体的表面光洁度,对光洁度提升效果非常好,且花费时间较短,操作简便,提升了加工效率。

    小型化折转式大视场无热化中波红外光学系统

    公开(公告)号:CN117687174A

    公开(公告)日:2024-03-12

    申请号:CN202311712857.1

    申请日:2023-12-13

    Abstract: 本发明公开了一种小型化折转式大视场无热化中波红外光学系统,从物方到像方依次包括透镜一、透镜二、透镜三、反射镜、透镜四和透镜五;其中,透镜一、透镜二、透镜三共光轴,透镜四和透镜五共光轴,物方成像光束依次经过透镜一、透镜二、透镜三后再经反射镜反射到透镜四,最后经透镜五后成像在探测器上;透镜一、透镜二组合为负光焦度,透镜三、透镜四和透镜五组合为正光焦度,整体组合为反摄远结构;整个光学系统的镜头焦距小于12mm,视场大于65°×52°。本发明具有紧凑、小体积、大视场、无热化和高分辨率等特点,全温段范围具有良好的成像质量。

    大尺寸红外光学元件低应力保护增透薄膜的制备方法

    公开(公告)号:CN114774847B

    公开(公告)日:2024-01-23

    申请号:CN202210417379.0

    申请日:2022-04-20

    Abstract: 本发明公开了一种大尺寸红外光学元件低应力保护增透膜系的制备方法,包括以下步骤:1)大尺寸红外光学元件无损清洗;2)采用离子辅助电子束蒸发工艺在清洗后的大尺寸红外光学元件表面依次镀制光学过渡层及应力匹配层,形成张应力层,张应力层厚度不低于400nm,应力值不低于200MPa;3)通过RF‑PECVD法在步骤2)所得张应力层上制备类金刚石薄膜作为压应力层,厚度不高于700nm,压应力不高于350MPa,即得大尺寸红外光学元件低应力薄膜。所得薄膜应力低,满足大尺寸红外光学元件低应力保护增透膜系的工艺需求,解决大尺寸红外光学元件成膜应力高的膜层脱落问题,有效提升了大尺寸红外光学元件的恶劣环境下的适应性及可靠性。

    一种随机结构金属网栅电磁屏蔽薄膜设计及制备方法

    公开(公告)号:CN116056437A

    公开(公告)日:2023-05-02

    申请号:CN202211573651.0

    申请日:2022-12-08

    Abstract: 本发明公开了一种随机结构金属网栅电磁屏蔽薄膜设计及制备方法,其在二维平面生成规则周期点阵;对规则周期点阵中的每个点做随机扰动,得到非规则随机点阵;将随机点阵分割为Delaunay三角网,划分为泰森多边形,得到随机结构金属网栅图案;检查随机结构金属网栅的结构参数是否达到预期标准,包括网孔随机程度、光学透过率、次级衍射分布和电磁屏蔽效能;若没有达到标准,则重复进行规则周期点阵的随机扰动和泰森多边形划分,直至达到预期标准;本发明设计并制备了一种随机结构金属网栅电磁屏蔽薄膜,易于设计和加工,还可根据光学系统对光学性能和电磁屏蔽效能的具体要求对随机结构金属网栅的结构参数进行针对性调整,可应用于不同的工况环境。

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