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公开(公告)号：CN100385535C
公开(公告)日：2008-04-30
申请号：CN200380107122.0
申请日：2003-11-20
申请人： 皇家飞利浦电子股份有限公司
CPC分类号： G03F7/70341 , G11B7/122 , G11B7/1374 , G11B7/261
摘要： 为照射一个光敏层的方法和装置，照射束引导并聚焦到该层上的斑点，使该层相对于光学元件作相对运动，使得层各不同部分相继被照射，并保持该层和最接近该层的光学元件的表面之间的间隙。另外，照射束通过并照射该层上斑点的至少一部分间隙被液体充满，液体由一供应管道提供，并经过平行于该层的平面内一总的投影横截面的通道区域以沟槽形式从流出口流出。该流出口的位置选成使当从垂直该层的方向看过去时，总的横截面区域的中心处在照射束通过并照射该斑点的那部分间隙内。
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公开(公告)号：CN1961225A
公开(公告)日：2007-05-09
申请号：CN200580017798.X
申请日：2005-05-27
申请人： 皇家飞利浦电子股份有限公司
发明人： S·凯帕 , B·H·W·亨德里克斯 , M·J·M·范德阿 , J·J·H·B·施莱彭 , H·范桑坦
CPC分类号： G02B3/14 , G02B26/005
摘要： 本发明涉及一种光学元件，其包括一个流体腔，该流体腔具有侧壁和端壁，并包含第一流体(20)和第二流体(22)，这些流体是不可混溶的并且第二流体能够被磁场所影响。提供一个向流体腔的至少一部分提供磁场的设备(19)，磁场能够移动第二流体从而使第一流体和第二流体在流体腔中的位置发生改变。第二流体可以是铁磁流体。
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公开(公告)号：CN1723499A
公开(公告)日：2006-01-18
申请号：CN200380105642.8
申请日：2003-11-14
申请人： 皇家飞利浦电子股份有限公司
发明人： H·范桑坦
CPC分类号： G11B7/1374 , G03F7/70341 , G11B7/122 , G11B7/261
摘要： 为了照射层(3)，辐射束(7)被导向并聚焦到层(3)上的斑点(11)，引起层(3)相对光学元件(59)的相对移动，使得层(3)的不同部分被接连照射且保持了最靠近层(3)的光学元件(59)的表面之间的间隙(53)。此外，辐射照射层(3)上的斑点(11)所经过的间隙(53)的至少一部分保持被液体(91)填充。通过将气流(71－73)导向层(3)的表面区域(74)，可靠地防止液体(91)穿过表面区域(74)，且不损伤层(3)。在表面区域(74)附近抽离层(3)上的液体(91)。
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公开(公告)号：CN1729521A
公开(公告)日：2006-02-01
申请号：CN200380106815.8
申请日：2003-11-20
申请人： 皇家飞利浦电子股份有限公司
CPC分类号： G03F7/70341 , G11B7/122 , G11B7/1374 , G11B7/261
摘要： 为照射一个层，照射束被引导并聚焦到该层上的一斑点，令该层相对于光学元件作相对运动，使得层各不同部分相继被照射，并保持该层和最接近该层的光学元件的表面之间的间隙。另外，照射该层上斑点的照射束通过的至少一部分间隙被液体充满，液体由一供应管道提供，并经过平行于该层的平面内总的投影横截面通道区从流出口流出。该流出口或许多流出口的位置选成使当从垂直该层的方向看过去时，总的横截面区域的中心处在照射该斑点的照射束通过的那部分间隙内。至少一部分液体充满一凹坑，照射束通过此凹坑照射该斑点。
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公开(公告)号：CN100520450C
公开(公告)日：2009-07-29
申请号：CN200580017798.X
申请日：2005-05-27
申请人： 皇家飞利浦电子股份有限公司
发明人： S·凯帕 , B·H·W·亨德里克斯 , M·J·M·范德阿 , J·J·H·B·施莱彭 , H·范桑坦
CPC分类号： G02B3/14 , G02B26/005
摘要： 本发明涉及一种光学元件，其包括一个流体腔，该流体腔具有侧壁和端壁，并包含第一流体(20)和第二流体(22)，这些流体是不可混溶的并且第二流体能够被磁场所影响。提供一个向流体腔的至少一部分提供磁场的设备(19)，磁场能够移动第二流体从而使第一流体和第二流体在流体腔中的位置发生改变。第二流体可以是铁磁流体。
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公开(公告)号：CN100370533C
公开(公告)日：2008-02-20
申请号：CN200380105642.8
申请日：2003-11-14
申请人： 皇家飞利浦电子股份有限公司
发明人： H·范桑坦
CPC分类号： G11B7/1374 , G03F7/70341 , G11B7/122 , G11B7/261
摘要： 为了照射层(3)，辐射束(7)被导向并聚焦到层(3)上的斑点(11)，引起层(3)相对光学元件(59)的相对移动，使得层(3)的不同部分被接连照射且保持了最靠近层(3)的光学元件(59)的表面之间的间隙(53)。此外，辐射照射层(3)上的斑点(11)所经过的间隙(53)的至少一部分保持被液体(91)填充。通过将气流(71-73)导向层(3)的表面区域(74)，可靠地防止液体(91)穿过表面区域(74)，且不损伤层(3)。在表面区域(74)附近抽离层(3)上的液体(91)。
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公开(公告)号：CN1961226A
公开(公告)日：2007-05-09
申请号：CN200580017799.4
申请日：2005-05-27
申请人： 皇家飞利浦电子股份有限公司
CPC分类号： G02B3/14 , G02B26/005
摘要： 一种光学元件包括流体箱和用于在该流体箱的至少一部分上提供磁场的装置。该流体箱具有侧面部分和末端部分，并容纳有第一流体和第二流体。这些流体互不混溶，并且第二流体可以受磁场影响。该流体箱的末端部分仅通过该侧面部分连接在一起。
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公开(公告)号：CN1723106A
公开(公告)日：2006-01-18
申请号：CN200380105672.9
申请日：2003-11-26
申请人： 皇家飞利浦电子股份有限公司
发明人： H·范桑坦 , H·R·斯塔佩特 , J·G·克鲁斯特博尔
CPC分类号： B29C39/026 , B29C35/02 , B29C39/003 , B29C2035/0827 , B29K2083/00 , C08L83/04 , Y10T428/21
摘要： 本发明涉及一种生产复制品的方法，该方法包括在模具和基材或空白物之间提供一种可固化的树脂组合物，对其进行紫外光引发或热固化处理，并将由此方法生产的复制品从模具移出，所述复制品含有基材和提供在其上的模具的复制品。本发明也涉及由对反应性化合物进行紫外光引发或热固化处理而获得的复制品，特别是对短波长(即190－400nm)具有高透光性的复制品。
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公开(公告)号：CN100528517C
公开(公告)日：2009-08-19
申请号：CN200380105672.9
申请日：2003-11-26
申请人： 皇家飞利浦电子股份有限公司
发明人： H·范桑坦 , H·R·斯塔佩特 , J·G·克鲁斯特博尔
CPC分类号： B29C39/026 , B29C35/02 , B29C39/003 , B29C2035/0827 , B29K2083/00 , C08L83/04 , Y10T428/21
摘要： 本发明涉及一种生产复制品光学元件的方法，该方法包括在模具和基材或空白物之间提供一种可固化的树脂组合物，对其进行紫外光引发或热固化处理，并将由此方法生产的复制品光学元件从模具移出，所述复制品光学元件含有基材和提供在其上的模具的复制品。本发明也涉及由对反应性化合物进行紫外光引发或热固化处理而获得的复制品光学元件，特别是对短波长(即190-400nm)具有高透光性的复制品光学元件。
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公开(公告)号：CN100504610C
公开(公告)日：2009-06-24
申请号：CN200510054227.5
申请日：2005-02-08
申请人： 皇家飞利浦电子股份有限公司 , ASML荷兰有限公司
发明人： P·C·杜恩埃维德 , P·迪克森 , A·Y·科勒斯恩臣科 , H·范桑坦
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70341
摘要： 本发明公开一种湿浸光刻装置，其中电压发生器将势差施加到与浸液接触的一物件上，使得由于浸液中气泡表面的动电电势的原因，浸液中的气泡和/或粒子被物件吸引或被物件排斥。
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