背照式传感器及制造传感器的方法

    公开(公告)号:CN113169201B

    公开(公告)日:2024-09-24

    申请号:CN201980079474.0

    申请日:2019-12-11

    IPC分类号: H01L27/146

    摘要: 本发明揭示一种图像传感器,其利用纯硼层及具有p型掺杂剂浓度梯度的第二外延层以增强感测DUV、VUV或EUV辐射。在第一外延层的上表面上制造感测(电路)元件及相关联金属互连件,接着在所述第一外延层的下表面上形成所述第二外延层,且接着在所述第二外延层上形成纯硼层。通过系统地增加在所述第二外延层的沉积/生长期间使用的气体中的p型掺杂剂的浓度而产生所述p型掺杂剂浓度梯度,使得所述第二外延层的最低p型掺杂剂浓度紧邻于与所述第一外延层的界面而出现且使得所述第二外延层的最高p型掺杂剂浓度紧邻于与所述纯硼层的界面而出现。

    双列并行CCD传感器及使用传感器的检验系统

    公开(公告)号:CN109076179B

    公开(公告)日:2020-06-16

    申请号:CN201780021422.9

    申请日:2017-04-05

    摘要: 一种双列并行图像CCD传感器利用双列并行读出电路,所述双列并行读出电路包含两对交叉连接的转移门以在高速度下以低噪声将像素数据(电荷)从一对邻近像素列交替地转移到共享输出电路。沿着所述两个邻近像素列以线时钟速率转移的电荷通过所述转移门交替地传递到求和门,所述求和门以所述线时钟速率的两倍的速率操作以将所述图像电荷传递到所述共享输出电路。在一个实施例中,利用对称Y形扩散部来合并来自所述两个像素列的所述图像电荷。本发明也描述一种用线时钟同步来驱动所述双列并行CCD传感器的方法。本发明也描述一种使用所述双列并行CCD传感器来检验样本的方法。

    光倍增管、图像传感器及使用PMT或图像传感器的检验系统

    公开(公告)号:CN105210189A

    公开(公告)日:2015-12-30

    申请号:CN201480028203.X

    申请日:2014-04-01

    IPC分类号: H01L27/146

    摘要: 本发明揭示一种光倍增管,其包含半导体光电阴极及光电二极管。值得注意地,所述光电二极管包含:p掺杂型半导体层;n掺杂型半导体层,其形成于所述p掺杂型半导体层的第一表面上,以形成二极管;及纯硼层,其形成于所述p掺杂型半导体层的第二表面上。在所述半导体光电阴极与所述光电二极管之间的间隙可为小于约1毫米或小于约500微米。所述半导体光电阴极可包含氮化镓,例如一或多个p掺杂型氮化镓层。在其它实施例中,所述半导体光电阴极可包含硅。此半导体光电阴极可进一步包含在至少一个表面上的纯硼涂层。