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公开(公告)号：CN102037348A
公开(公告)日：2011-04-27
申请号：CN200980118003.2
申请日：2009-05-22
申请人： 独立行政法人产业技术综合研究所
IPC分类号： G01N21/956 , H01L21/66
CPC分类号： G01N21/9505 , G01N21/94 , G01N21/9501 , G01N29/2418 , G01N2021/4792 , G01N2021/8848 , G01N2021/8896 , G06T7/001 , G06T2207/30148 , H01L22/12
摘要： 本发明提供检查缺陷的方法和缺陷检查装置。经由偏光镜(5)使来自光源装置(4)的光成为偏光，并对被检查体(W)从倾斜方向入射，以具有配置在暗视野的偏光分离元件(9)的CCD摄像装置(7)对其散射光(SB)进行摄像，对于得到的P偏光成分图像和S偏光成分图像得到成分光强度，求得作为它们的比的偏光方向。根据对被检查体不施加应力的状态和施加了应力的状态下的光散射体的由摄像得到的图像求取成分光强度、偏光方向，与规定的阈值进行对比，由此能够高精度地检测被检查体的内部析出物、空洞缺陷、表面的异物或划痕、表层的裂纹的缺陷，确定缺陷的种类，进行缺陷的分类。
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公开(公告)号：CN100580435C
公开(公告)日：2010-01-13
申请号：CN03817635.1
申请日：2003-05-22
申请人： 应用材料股份有限公司 , 应用材料以色列公司
CPC分类号： G06T7/001 , G01N21/9501 , G01N21/956 , G01N21/95607 , G01N2021/8896 , G06T2207/30148 , Y10S430/146
摘要： 一种扩大半导体晶圆光学监测系统的制程监控能力的方法，其比现行的方法能更灵敏地检测晶圆表面上制程变异的微小影响。该方法实质上利用几何区块将监测表面上感测过的小点分组，并使每个区块与同一晶圆的另一晶粒上对应位置的区块相比较，以及与另一晶圆的一晶粒上对应位置区块的存储模型影像相比较。在本发明一实施例中，直接比较小点值，并在缺陷检测程序中将差异进行阈值控制在可接受的低水平内。另一实施例中，根据测得的光强度值来计算每个区块的信号，并与其对应的信号相比较。
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公开(公告)号：CN104904194A
公开(公告)日：2015-09-09
申请号：CN201380069796.X
申请日：2013-12-10
申请人： 科磊股份有限公司
发明人： 戴维·L·布朗 , 勇-霍·亚历克斯·庄 , 尤里·尤迪特斯凯
IPC分类号： H04N5/225
CPC分类号： H04N5/3742 , G01N21/8851 , G01N2021/8896 , G01N2021/95676 , H04N5/2256 , H04N5/3743
摘要： 本发明描述一种随着连续移动的对象操作图像传感器的方法。在此方法中，可在延长时间照明脉冲期间执行定时延迟积分模式TDI模式操作。在此TDI模式操作期间，仅在第一方向中移位通过所述图像传感器的像素存储的电荷且其跟踪图像运动。值得注意的是，仅在非照明期间执行分裂读出操作。在此分裂读出操作期间，在所述第一方向中移位通过所述图像传感器的第一像素存储的第一电荷，且同时在第二方向中移位通过所述图像传感器的第二像素存储的第二电荷，所述第二方向与所述第一方向相反。
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公开(公告)号：CN101297192B
公开(公告)日：2012-05-30
申请号：CN200580051960.X
申请日：2005-09-09
申请人： 萨克米伊莫拉机械合作社合作公司
IPC分类号： G01N21/90
CPC分类号： G06T7/0004 , G01B11/25 , G01N21/8851 , G01N21/9036 , G01N21/9081 , G01N2021/8832 , G01N2021/8896 , G06T7/42
摘要： 一种方法，包括通过主体(3)投射由预设的光学参数(P，S)限定的光影图案，检测通过所述主体(3)的所述光影图案的图像以得到被检测图像(12；18)，处理所述被检测图像(12；18)以在所述被检测图像(12；18)中突显所述光影图案的任何不规则部分(19；24)；一种设备，包括用于通过主体投射由预设的光学参数限定的光影图案的光源装置，用于检测通过所述主体的所述光影图案的图像以得到被检测图像的图像检测装置，用于以在所述被检测图像中突显所述光影图案的任何不规则部分的方式处理所述被检测图像的装置。
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公开(公告)号：CN102362171A
公开(公告)日：2012-02-22
申请号：CN201080012974.1
申请日：2010-03-10
申请人： 丰田自动车株式会社
IPC分类号： G01N21/95 , G01N21/896
CPC分类号： G01N21/9501 , G01B11/22 , G01N21/9505 , G01N2021/8864 , G01N2021/8874 , G01N2021/8896 , G02B21/0056 , H01L22/24
摘要： 一种测量存在于单晶中的各种类型缺陷的多个缺陷的密度的方法，包括：蚀刻作为单晶表面的观察表面，以在各缺陷处形成蚀刻凹陷；计算在观察表面上预定区域内存在的多个缺陷处形成的各蚀刻凹陷的最大深度、平均深度和深度曲率；和将测量的最大深度、平均深度和深度曲率与参考值比较，以确定预定区域内部各缺陷的类型。
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公开(公告)号：CN101707180A
公开(公告)日：2010-05-12
申请号：CN200910226393.7
申请日：2003-05-22
申请人： 应用材料股份有限公司 , 应用材料以色列公司
CPC分类号： G06T7/001 , G01N21/9501 , G01N21/956 , G01N21/95607 , G01N2021/8896 , G06T2207/30148 , Y10S430/146
摘要： 一种扩大半导体晶圆光学监测系统的制程监控能力的方法，其比现行的方法能更灵敏地检测晶圆表面上制程变异的微小影响。该方法实质上利用几何区块将监测表面上感测过的小点分组，并使每个区块与同一晶圆的另一晶粒上对应位置的区块相比较，以及与另一晶圆的一晶粒上对应位置区块的存储模型影像相比较。在本发明一实施例中，直接比较小点值，并在缺陷检测程序中将差异进行阈值控制在可接受的低水平内。另一实施例中，根据测得的光强度值来计算每个区块的信号，并与其对应的信号相比较。
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公开(公告)号：CN107110792A
公开(公告)日：2017-08-29
申请号：CN201580053726.4
申请日：2015-10-02
申请人： 科磊股份有限公司
发明人： 吉贞·凡萨帕朗比尔 , 国衡·赵 , 丹尼尔·伊万诺夫·卡瓦德杰夫 , 阿纳托利·罗曼诺夫斯基 , 伊万·马列夫 , 克里斯堤安·渥特斯 , 乔治·可兰 , 斯蒂芬·比耶拉克 , 布雷特·怀特塞德 , 唐纳德·佩蒂伯恩
IPC分类号： G01N21/956
CPC分类号： G01N21/8851 , G01N21/9501 , G01N21/956 , G01N2021/8887 , G01N2021/8896 , G01N2201/06113 , G01N2201/103 , G01N2201/12 , G06T7/0004 , G06T2207/10004 , G06T2207/30148
摘要： 本发明涉及一种晶片扫描系统，其包含用来减小有效光点大小的成像收集光学器件。较小光点大小使由表面散射的光子的数目与所述光点的面积成比例地减小。空气散射也减少。TDI用来基于在晶片的线运动的方向上积分的多个图像信号产生晶片图像。照明系统用光泛射所述晶片，且产生所述光点的任务被指派给所述成像收集光学器件。
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公开(公告)号：CN105557082A
公开(公告)日：2016-05-04
申请号：CN201480050260.8
申请日：2014-09-11
申请人： 株式会社高永科技
IPC分类号： H05K13/08
CPC分类号： G01N21/8851 , G01N21/956 , G01N21/95607 , G01N21/95684 , G01N2021/8896 , G01N2021/95638 , G01N2201/121 , G06T5/006 , G06T2207/20076 , G06T2207/30141
摘要： 本发明涉及基板检查时的补偿矩阵生成方法。所述方法包括：在基板上的测量区域(FOV)内，任意选择预先设置的N1(N1≥2)个特征客体的信息的步骤；以所述基板上的提取的特征客体的信息为基础，生成第一补偿矩阵的步骤；把所述测量区域内的所有特征客体应用于所述补偿矩阵，并比较所述所有特征客体的各个偏移值与预先设置的基准值，从而对所述所有特征客体的各个偏移值不足于所述预先设置的基准值的特征客体的数量进行计数的步骤；把所述步骤反复执行N2次(N2≥1)，在所述计数的特征客体的数量为最大的情况下，利用具有不足于所述预先设置的基准值的偏移值的特征客体的信息，生成第二补偿矩阵的步骤。
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公开(公告)号：CN101673784A
公开(公告)日：2010-03-17
申请号：CN200910173726.4
申请日：2009-09-10
申请人： 史考特公司
发明人： 米夏埃多·斯特尔兹利
IPC分类号： H01L31/18 , G01N21/892
CPC分类号： G01N21/9501 , G01N21/9505 , G01N2021/845 , G01N2021/8896
摘要： 本发明提出一种用于在生产过程中产生晶片形元件的数字静止图片(EB)的方法及装置，所述元件可以是在生产过程期间在传送带(BD)上连续输送的晶片或太阳能电池(SZ)。所述装置包括相机，所述相机从所述晶片形元件(SZ)的截面拍摄图片，特定来说跨越输送方向逐行地连续拍摄数字图片(线性扫描)且接着对图像数据进行取样。所述装置进一步包括硬件设计的图像数据处理单元(例如FPGA)，所述图像数据处理单元用于检测作为特定晶片形元件的开始(A)的指示或末尾(E)的指示的边缘(KA)，其中所述边缘检测是用于控制待拍摄以用于视觉检验以找出所述太阳能电池的缺陷区域的数字静止图片(EZ)的产生。
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公开(公告)号：CN101297192A
公开(公告)日：2008-10-29
申请号：CN200580051960.X
申请日：2005-09-09
申请人： 萨克米伊莫拉机械合作社合作公司
IPC分类号： G01N21/90
CPC分类号： G06T7/0004 , G01B11/25 , G01N21/8851 , G01N21/9036 , G01N21/9081 , G01N2021/8832 , G01N2021/8896 , G06T7/42
摘要： 一种方法，包括通过主体(3)投射由预设的光学参数(P，S)限定的光影图案，检测通过所述主体(3)的所述光影图案的图像以得到被检测图像(12；18)，处理所述被检测图像(12；18)以在所述被检测图像(12；18)中突显所述光影图案的任何不规则部分(19；24)；一种设备，包括用于通过主体投射由预设的光学参数限定的光影图案的光源装置，用于检测通过所述主体的所述光影图案的图像以得到被检测图像的图像检测装置，用于以在所述被检测图像中突显所述光影图案的任何不规则部分的方式处理所述被检测图像的装置。
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