使用反向电子束电流的具有自清洁提取器的冷场发射器电子枪

    公开(公告)号:CN117378029B

    公开(公告)日:2024-10-18

    申请号:CN202280036973.3

    申请日:2022-07-05

    IPC分类号: H01J37/073 H01J37/28

    摘要: 一种电子束装置包含用于发射电子的冷场发射源及相对于所述冷场发射源正偏置以从所述冷场发射源中提取所述电子的提取器电极。所述提取器电极具有用于所述电子的第一开口。所述电子束装置还包含具有用于所述电子的第二开口的镜电极。所述镜电极能够配置为在第一操作期间相对于所述提取器电极正偏置且在第二操作模式期间相对于所述提取器电极负偏置。所述提取器电极安置于所述冷场发射源与所述镜电极之间。所述电子束装置进一步包含相对于所述提取器电极及冷场发射源正偏置的阳极。所述镜电极安置于所述提取器电极与所述阳极之间。

    空间电荷不敏感的电子枪设计

    公开(公告)号:CN112074926B

    公开(公告)日:2024-05-07

    申请号:CN201980029661.8

    申请日:2019-05-27

    IPC分类号: H01J37/063 H01J37/073

    摘要: 本发明揭示具有特定内部宽度尺寸、扫掠电极或特定内部宽度尺寸与扫掠电极的组合的电子枪系统。所述内部宽度尺寸可小于在束限制孔径下游的通道中的次级电子的拉莫尔半径的值的两倍,且所述次级电子的拉莫尔时间可大于1ns。所述扫掠电极可在漂移区中产生电场,所述电场可增大所述通道中的次级电子的动能。

    用于在非导电衬底上成像浮动金属结构的充电控制的方法及系统

    公开(公告)号:CN109075001A

    公开(公告)日:2018-12-21

    申请号:CN201780021327.9

    申请日:2017-03-31

    IPC分类号: H01J37/147 H01J37/28

    摘要: 本发明揭示一种扫描电子显微镜系统。所述系统包含样本台,所述样本台经配置以固定具有安置在绝缘衬底上的导电结构的样本。所述系统包含电子光学柱,所述电子光学柱包含:电子源,其经配置以生成初级电子束;及一组电子光学元件,其经配置以将所述初级电子束的至少一部分引导到所述样本的一部分上。所述系统包含检测器组合件,所述检测器组合件经配置以检测从所述样本的表面射出的电子。所述系统包含控制器,所述控制器通信地耦合到所述检测器组合件。所述控制器经配置以引导所述电子光学柱及所述台使用所述初级电子束来执行所述样本的所述部分的图像扫描及泛射扫描的交替系列,其中在所述成像扫描中的一或多者之后执行所述泛射扫描中的每一者。

    用于具有多重电子束的系统的电荷控制装置

    公开(公告)号:CN112074925B

    公开(公告)日:2022-06-07

    申请号:CN201980029660.3

    申请日:2019-05-26

    IPC分类号: H01J37/02 H01J37/14

    摘要: 本发明揭示聚焦及对准多重电子束的系统及方法。相机产生投射在具有多个目标的光纤阵列处的来自电子束的光的图像数据。图像处理模块基于所述图像数据确定对施加到中继透镜、场透镜或多极阵列的电压的调整。所述调整最小化所述电子束中的一者的位移、散焦或像差中的至少一者。使用控制模块,将所述电压施加到所述中继透镜、所述场透镜或所述多极阵列。

    空间电荷不敏感的电子枪设计

    公开(公告)号:CN112074926A

    公开(公告)日:2020-12-11

    申请号:CN201980029661.8

    申请日:2019-05-27

    IPC分类号: H01J37/063 H01J37/073

    摘要: 本发明揭示具有特定内部宽度尺寸、扫掠电极或特定内部宽度尺寸与扫掠电极的组合的电子枪系统。所述内部宽度尺寸可小于在束限制孔径下游的通道中的次级电子的拉莫尔半径的值的两倍,且所述次级电子的拉莫尔时间可大于1ns。所述扫掠电极可在漂移区中产生电场,所述电场可增大所述通道中的次级电子的动能。

    用于具有多重电子束的系统的电荷控制装置

    公开(公告)号:CN112074925A

    公开(公告)日:2020-12-11

    申请号:CN201980029660.3

    申请日:2019-05-26

    IPC分类号: H01J37/02 H01J37/14

    摘要: 本发明揭示聚焦及对准多重电子束的系统及方法。相机产生投射在具有多个目标的光纤阵列处的来自电子束的光的图像数据。图像处理模块基于所述图像数据确定对施加到中继透镜、场透镜或多极阵列的电压的调整。所述调整最小化所述电子束中的一者的位移、散焦或像差中的至少一者。使用控制模块,将所述电压施加到所述中继透镜、所述场透镜或所述多极阵列。

    产生多个电子束的系统及方法
    10.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117396995A

    公开(公告)日:2024-01-12

    申请号:CN202280037976.9

    申请日:2022-09-15

    IPC分类号: H01J37/09

    摘要: 一种电子束装置包含上柱电子光学器件及下柱电子光学器件。所述上柱电子光学器件包含孔隙阵列以将电子束划分成多个电子子束。所述上柱电子光学器件还包含具有多个透镜的透镜阵列以调整所述多个电子子束的焦点。所述多个透镜的相应透镜用以调整所述多个电子子束的相应电子子束的所述焦点。所述上柱电子光学器件进一步包含第一全局透镜以依与所述透镜阵列相反的方式调整所述多个电子子束的所述焦点。