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公开(公告)号：CN103459476B
公开(公告)日：2014-11-26
申请号：CN201280015839.1
申请日：2012-03-23
申请人： 积水化学工业株式会社
CPC分类号： C08J7/18 , C08J2333/10 , C08J2433/06
摘要： 本发明提供一种提高PMMA膜的胶粘强度的膜表面处理方法。在该膜表面处理方法中，将含有丙烯酸的第一反应气体从第一反应气体喷嘴(23)中吹出而与PMMA膜接触(第一接触工序)。然后，在第一辊电极(11)与第二辊电极(12)之间的间隙(14)中，向PMMA膜照射氩等离子体(第一照射工序)。然后，将含有丙烯酸的第二反应气体从第二反应气体喷嘴(43)中吹出而与PMMA膜接触(第二接触工序)。然后，在第二辊电极(12)与第三辊电极(13)之间的间隙(15)中，向PMMA膜照射氩等离子体(第二照射工序)。
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公开(公告)号：CN103619926A
公开(公告)日：2014-03-05
申请号：CN201280030972.4
申请日：2012-08-27
申请人： 积水化学工业株式会社
摘要： 本发明在提高用于偏振板的保护膜等的树脂制的被处理膜的粘接性的同时，提高通过粘接而形成的偏振板等膜层叠体的耐热水性。第一处理部(91)中，使含有聚合性单体及交联性添加成分的第一气体与被处理膜(9)接触(第一处理工序)。在第一处理工序后或与第一处理工序并行地，使氮气等放电生成气体进行等离子体化，而与被处理膜(9)接触(第二处理工序)。将交联性添加成分相对于聚合性单体的含有率设定在规定范围内，优选将上述含有率设定在0.5wt％～10wt％。上述交联性添加成分优选为二烯丙基化合物、炔化合物、或硅醇盐化合物。可以向上述放电生成气体中加入0.5vol％以下的氧气。
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公开(公告)号：CN101124663B
公开(公告)日：2010-12-01
申请号：CN200580023196.5
申请日：2005-07-08
申请人： 积水化学工业株式会社
IPC分类号： H01L21/3065 , H01L21/304 , H01L21/306 , C23F4/00
摘要： 一种用于处理基板的外周的方法和装置，在用于从基板的外周部去除不需要的膜时能够避免对基板中心部分的损坏。作为吸热装置的冷却介质室(4)形成在台(10)内，且诸如水的冷却介质填充到其中。晶片(90)被支撑在台(10)的支撑表面(10a)上。晶片(90)的外周部通过加热器(20)被加热，且用于去除不需要的膜的反应性气体从反应性气体出口(30b)供到晶片的被加热部分。另一方面，晶片(90)的在所述外周部的内侧的部分内的热量通过吸热装置吸收。
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公开(公告)号：CN103459476A
公开(公告)日：2013-12-18
申请号：CN201280015839.1
申请日：2012-03-23
申请人： 积水化学工业株式会社
CPC分类号： C08J7/18 , C08J2333/10 , C08J2433/06
摘要： 本发明提供一种提高PMMA膜的胶粘强度的膜表面处理方法。在该膜表面处理方法中，将含有丙烯酸的第一反应气体从第一反应气体喷嘴(23)中吹出而与PMMA膜接触(第一接触工序)。然后，在第一辊电极(11)与第二辊电极(12)之间的间隙(14)中，向PMMA膜照射氩等离子体(第一照射工序)。然后，将含有丙烯酸的第二反应气体从第二反应气体喷嘴(43)中吹出而与PMMA膜接触(第二接触工序)。然后，在第二辊电极(12)与第三辊电极(13)之间的间隙(15)中，向PMMA膜照射氩等离子体(第二照射工序)。
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公开(公告)号：CN102459353A
公开(公告)日：2012-05-16
申请号：CN201080028415.X
申请日：2010-06-25
申请人： 积水化学工业株式会社
CPC分类号： C08J7/18 , G02B5/3033
摘要： 本发明提供一种膜表面处理方法及装置以及偏振片的制造方法。可靠地提高难胶粘性树脂膜的胶粘性。将应与易胶粘性树脂膜(12)胶粘的难胶粘性树脂膜(11)配置于大气压附近的处理空间(22)。将含有丙烯酸等第1聚合性单体蒸气的气体通过第1供给路(36)，引导至难胶粘性树脂膜(11)的附近。将含有HEMA等第2聚合性单体蒸气的气体不与上述第1聚合性单体混合地通过第2供给路(46)，引导至难胶粘性树脂膜(11)的附近。通过大气压附近的等离子使上述第1及第2聚合性单体活化，与难胶粘性树脂膜11反应。
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公开(公告)号：CN101124663A
公开(公告)日：2008-02-13
申请号：CN200580023196.5
申请日：2005-07-08
申请人： 积水化学工业株式会社
IPC分类号： H01L21/3065 , H01L21/304 , H01L21/306 , C23F4/00
摘要： 一种用于处理基板的外周的方法和装置，在用于从基板的外周部去除不需要的膜时能够避免对基板中心部分的损坏。作为吸热装置的冷却介质室(4)形成在台(10)内，且诸如水的冷却介质填充到其中。晶片(90)被支撑在台(10)的支撑表面(10a)上。晶片(90)的外周部通过加热器(20)被加热，且用于去除不需要的膜的反应性气体从反应性气体出口(30b)供到晶片的被加热部分。另一方面，晶片(90)的在所述外周部的内侧的部分内的热量通过吸热装置吸收。
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公开(公告)号：CN103619926B
公开(公告)日：2016-03-02
申请号：CN201280030972.4
申请日：2012-08-27
申请人： 积水化学工业株式会社
摘要： 本发明在提高用于偏振板的保护膜等的树脂制的被处理膜的粘接性的同时，提高通过粘接而形成的偏振板等膜层叠体的耐热水性。第一处理部(91)中，使含有聚合性单体及交联性添加成分的第一气体与被处理膜(9)接触(第一处理工序)。在第一处理工序后或与第一处理工序并行地，使氮气等放电生成气体进行等离子体化，而与被处理膜(9)接触(第二处理工序)。将交联性添加成分相对于聚合性单体的含有率设定在规定范围内，优选将上述含有率设定在0.5wt％～10wt％。上述交联性添加成分优选为二烯丙基化合物、炔化合物、或硅醇盐化合物。可以向上述放电生成气体中加入0.5vol％以下的氧气。
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公开(公告)号：CN1748265B
公开(公告)日：2012-04-11
申请号：CN200480003726.5
申请日：2004-02-05
申请人： 积水化学工业株式会社
CPC分类号： C08J5/2287 , C08G77/28 , C08G77/392 , C08J2383/00 , H01B1/122 , H01M8/0289 , H01M8/1007 , H01M8/1009 , H01M8/12 , H01M2300/0082 , Y02P70/56
摘要： 制备质子导电膜的方法、由该方法生产的质子导电膜以及使用该质子导电膜的固体聚合物类型燃料电池。所述质子导电膜具有带硅氧共价键的交联结构并在膜中具有下列式(1)表示的含磺酸交联结构，所述方法特征在于它包括第一步，制备包括含巯基低聚物(A)的混合物，所述巯基低聚物(A)具有多个巯基和能够通过缩合反应形成Si-O-Si键的反应性基团；第二步，所述混合物形成膜；第三步，所述膜形式的混合物在催化剂的参与下进行缩合反应形成交联凝胶；和，第四步，通过氧化使膜中巯基转变成磺酸基。所述质子导电膜表现出高的离子导电性、它在高温时具有优异尺寸稳定性，而且即使在高温它也能够稳定工作。
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公开(公告)号：CN102257045A
公开(公告)日：2011-11-23
申请号：CN200980151252.1
申请日：2009-12-22
申请人： 积水化学工业株式会社
CPC分类号： B32B27/16 , B32B7/12 , B32B27/08 , B32B27/308 , B32B2307/412 , B32B2307/42 , B32B2457/202 , C08J7/18 , G02B1/105 , G02B1/14
摘要： 本发明提供一种膜的表面处理方法及装置以及偏振片的制造方法。将与易粘接性树脂膜(12)粘接的难粘接性树脂膜(11)配置在接近大气压的处理空间(22)内。通过工艺气体供给系统(3)，将含有丙烯酸(聚合性单体)蒸气的工艺气体供给到处理空间(22)。在等离子体处理部(2)，将工艺气体等离子体化并使其与难粘接性树脂膜(11)接触。设定工艺气体的供给流量，以使处理空间(22)内的氧浓度达到3000ppm以下。由此，可以提高难粘接性树脂膜的粘接性，进而能够进行高速处理。
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公开(公告)号：CN101097849B
公开(公告)日：2010-08-25
申请号：CN200710143726.0
申请日：2005-07-08
申请人： 积水化学工业株式会社
IPC分类号： H01L21/00 , H01L21/67 , G02F1/13 , G02F1/1333
摘要： 为了提高移除例如晶片的基板(90)的外周部上的不需要物质的效率，以及为了防止颗粒粘附到所述基板(90)上，提出本发明。反应性气体从喷射喷嘴(75)以如此方式朝向所述基板(90)的所述外周部的目标点(P)喷射出，即当从与所述基板(90)正交的方向上看时，所述反应性气体被使得大致沿所述基板上的目标点处的圆周方向流动。靠近所述目标点(P)的气体在所述目标点(P)的下游侧大致沿所述圆周方向被抽吸喷嘴(76)吸入。
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