公开(公告)号：CN104761608A

公开(公告)日：2015-07-08

申请号：CN201510090721.0

申请日：2010-12-10

Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司

Inventor： E·阿恰达 ,  李明琦 ,  J·玛蒂亚

IPC: C07J9/00 ,  C07C381/12 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  G03F7/038 ,  G03F7/00

CPC classification number: G03F7/0045 ,  C07C381/12 ,  C07J31/006 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392

Abstract: 胆酸酯光酸发生剂和包含该发生剂的光致抗蚀剂。本发明涉及一种新的包含一个胆酸酯部分的光酸发生剂化合物(“PAGs”)，以及包含这种PAG化合物的光致抗蚀剂组合物。提供了一种光酸发生剂化合物，所述化合物如下式所示。

公开(公告)号：CN102799068A

公开(公告)日：2012-11-28

申请号：CN201210264011.1

申请日：2012-05-28

Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司

Inventor： 李明琦 ,  E·阿恰达 ,  刘骢 ,  陈庆隆 ,  山田晋太郎 ,  C-B·徐 ,  J·玛蒂亚

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/004

CPC classification number: G03F7/004 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0397

Abstract: 一种光刻胶组合物包含酸敏感聚合物，和具有如下通式的环状锍化合物：(Ra)1-(Ar)-S+(-CH2-)m·-O3S-(CRb2)n-(L)p-X其中每个Ra独立地为取代或未取代的C1-30烷基，C6-30芳基，C7-30芳烷基，或包含前述至少一种的组合，Ar是单环，多环，或稠合多环C6-30芳基，每个Rb独立地为H，F，直链或支链的C1-10氟烷基，或直链或支链的含有杂原子的C1-10氟烷基，L是C1-30的连接基团，任选包含杂原子，所述杂原子包含O，S，N，F，或包含至少一种前述杂原子的组合，X是取代或未取代的C5或更大的单环，多环或稠合多环脂环基团，任选包含杂原子，所述杂原子包含O，S，N，F，或包含前述至少一种的组合，并且1是0到4的整数，m是3到20的整数，n是0到4的整数，且p是0到2的整数。

公开(公告)号：CN102799068B

公开(公告)日：2015-10-14

申请号：CN201210264011.1

申请日：2012-05-28

Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司

Inventor： 李明琦 ,  E·阿恰达 ,  刘骢 ,  陈庆隆 ,  山田晋太郎 ,  C-B·徐 ,  J·玛蒂亚

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/004

CPC classification number: G03F7/004 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0397

Abstract: 一种光刻胶组合物包含酸敏感聚合物，和具有如下通式的环状锍化合物：(Ra)1-(Ar)-S+(-CH2-)m·-O3S-(CRb2)n-(L)p-X其中每个Ra独立地为取代或未取代的C1-30烷基，C6-30芳基，C7-30芳烷基，或包含前述至少一种的组合，Ar是单环，多环，或稠合多环C6-30芳基，每个Rb独立地为H，F，直链或支链的C1-10氟烷基，或直链或支链的含有杂原子的C1-10氟烷基，L是C1-30的连接基团，任选包含杂原子，所述杂原子包含O，S，N，F，或包含至少一种前述杂原子的组合，X是取代或未取代的C5或更大的单环，多环或稠合多环脂环基团，任选包含杂原子，所述杂原子包含O，S，N，F，或包含前述至少一种的组合，并且1是0到4的整数，m是3到20的整数，n是0到4的整数，且p是0到2的整数。

公开(公告)号：CN102225924B

公开(公告)日：2015-04-01

申请号：CN201010625286.4

申请日：2010-12-10

Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司

Inventor： 李明琦 ,  E·阿恰达 ,  刘骢 ,  J·玛蒂亚 ,  C-B·徐 ,  G·G·巴克利

IPC: C07D333/46 ,  C07D493/18 ,  C07C309/12 ,  C07C303/32 ,  C07C381/12 ,  C07J31/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/26

CPC classification number: G03F7/0045 ,  C07C303/32 ,  C07C309/06 ,  C07C309/12 ,  C07C321/30 ,  C07C381/12 ,  C07C2603/74 ,  C07D333/46 ,  C07D335/02 ,  C07D337/04 ,  C07D493/20 ,  C07J31/006 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397

Abstract: 光酸发生剂和包含该光酸发生剂的光致抗蚀剂。本发明提供光酸发生剂化合物(“PAGs”)新的合成方法，新的光酸发生剂化合物以及包含这种PAG化合物的光致抗蚀剂组合物。一个特别的方面，提供含锍(S+)光酸发生剂以及锍类光酸发生剂的合成方法。提供了一种含锍化合物的制备方法，所述制备方法包括环合烷基硫代化合物。

公开(公告)号：CN102225924A

公开(公告)日：2011-10-26

申请号：CN201010625286.4

申请日：2010-12-10

Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司

Inventor： 李明琦 ,  E·阿恰达 ,  刘骢 ,  J·玛蒂亚 ,  C-B·徐 ,  G·G·巴克利

IPC: C07D333/46 ,  C07D493/18 ,  C07C309/12 ,  C07C303/32 ,  C07C381/12 ,  C07J31/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/26

CPC classification number: G03F7/0045 ,  C07C303/32 ,  C07C309/06 ,  C07C309/12 ,  C07C321/30 ,  C07C381/12 ,  C07C2603/74 ,  C07D333/46 ,  C07D335/02 ,  C07D337/04 ,  C07D493/20 ,  C07J31/006 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397

Abstract: 光酸发生剂和包含该光酸发生剂的光致抗蚀剂。本发明提供光酸发生剂化合物(“PAGs”)新的合成方法，新的光酸发生剂化合物以及包含这种PAG化合物的光致抗蚀剂组合物。一个特别的方面，提供含锍(S+)光酸发生剂以及锍类光酸发生剂的合成方法。提供了一种含锍化合物的制备方法，所述制备方法包括环合烷基硫代化合物。

公开(公告)号：CN102212100A

公开(公告)日：2011-10-12

申请号：CN201010625251.0

申请日：2010-12-10

Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司

Inventor： E·阿恰达 ,  李明琦 ,  J·玛蒂亚

IPC: C07J9/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  G03F7/038 ,  G03F7/00

CPC classification number: G03F7/0045 ,  C07C381/12 ,  C07J31/006 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382

Abstract: 本发明涉及一种新的包含一个胆酸酯部分的光酸发生剂化合物(“PAGs”)，以及包含这种PAG化合物的光致抗蚀剂组合物。提供了一种光酸发生剂化合物，所述化合物选自下列通式(I)和(II)：在通式(I)和(II)中：M+代表有机鎓基团；R1代表甾体结构；m是0到10的整数；n是正整数。