公开(公告)号：CN102592978B

公开(公告)日：2015-09-09

申请号：CN201110463160.6

申请日：2011-12-30

Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司

Inventor： G·珀勒斯 ,  S·J·卡波拉勒

IPC: H01L21/266 ,  H01L21/027 ,  G03F7/039 ,  G03F7/00

CPC classification number: H01L21/266 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/09 ,  G03F7/40

Abstract: 光致抗蚀剂及其使用方法。提供了一种新型的光致抗蚀剂，其包含多酮组分，且特别适用于离子注入光刻应用。本发明优选的光致抗蚀剂对位于其下的无机表面例如SiON、氧化硅、氮化硅、硅酸铪、硅酸锆和其它无机表面，能显示出优良的粘性。提供了一种提供离子注入的半导体基材的方法，所述方法包含：提供其上涂敷有化学增幅型的正性光致抗蚀剂组合物浮雕图像的半导体基材，其中光致抗蚀剂包含1)树脂、2)光敏组分和3)多酮组分；和施加离子到基材上。

公开(公告)号：CN102253596B

公开(公告)日：2014-05-14

申请号：CN201110096073.1

申请日：2007-10-30

Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司

Inventor： S·J·卡波拉勒 ,  G·G·巴克雷 ,  D·王 ,  L·贾

IPC: G03F7/00 ,  G03F7/20 ,  G03F7/09 ,  G03F7/04

CPC classification number: G03F7/2041 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397

Abstract: 提供新的光刻胶组合物，它可用于浸渍平版印刷中。本发明的优选的光刻胶组合物包括：具有可通过用碱处理而发生变化的水接触角的一种或多种材料；和/或包含氟化的光致酸-不稳定性基团的一种或多种材料；和/或包含从聚合物骨架上悬挂的酸性基团的一种或多种材料。本发明的特别优选的光刻胶在浸渍平版印刷加工中显示出光刻胶材料减少浸析到与光刻胶层接触的浸液中。

公开(公告)号：CN102592978A

公开(公告)日：2012-07-18

申请号：CN201110463160.6

申请日：2011-12-30

Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司

Inventor： G·珀勒斯 ,  S·J·卡波拉勒

IPC: H01L21/266 ,  H01L21/027 ,  G03F7/039 ,  G03F7/00

CPC classification number: H01L21/266 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/09 ,  G03F7/40

Abstract: 光致抗蚀剂及其使用方法。提供了一种新型的光致抗蚀剂，其包含多酮组分，且特别适用于离子注入光刻应用。本发明优选的光致抗蚀剂对位于其下的无机表面例如SiON、氧化硅、氮化硅、硅酸铪、硅酸锆和其它无机表面，能显示出优良的粘性。提供了一种提供离子注入的半导体基材的方法，所述方法包含：提供其上涂敷有化学增幅型的正性光致抗蚀剂组合物浮雕图像的半导体基材，其中光致抗蚀剂包含1)树脂、2)光敏组分和3)多酮组分；和施加离子到基材上。

公开(公告)号：CN101256355B

公开(公告)日：2013-03-27

申请号：CN200710159692.4

申请日：2007-10-30

Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司

Inventor： S·J·卡波拉勒 ,  G·G·巴克雷 ,  D·王 ,  L·贾

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/00

CPC classification number: G03F7/2041 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397

Abstract: 提供新的光刻胶组合物，它可用于浸渍平版印刷中。本发明的优选的光刻胶组合物包括：具有可通过用碱处理而发生变化的水接触角的一种或多种材料；和/或包含氟化的光致酸-不稳定性基团的一种或多种材料；和/或包含从聚合物骨架上悬挂的酸性基团的一种或多种材料。本发明的特别优选的光刻胶在浸渍平版印刷加工中显示出光刻胶材料减少浸析到与光刻胶层接触的浸液中。

公开(公告)号：CN102253596A

公开(公告)日：2011-11-23

申请号：CN201110096073.1

申请日：2007-10-30

Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司

Inventor： S·J·卡波拉勒 ,  G·G·巴克雷 ,  D·王 ,  L·贾

IPC: G03F7/00 ,  G03F7/20 ,  G03F7/09 ,  G03F7/04

CPC classification number: G03F7/2041 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397

Abstract: 提供新的光刻胶组合物，它可用于浸渍平版印刷中。本发明的优选的光刻胶组合物包括：具有可通过用碱处理而发生变化的水接触角的一种或多种材料；和/或包含氟化的光致酸-不稳定性基团的一种或多种材料；和/或包含从聚合物骨架上悬挂的酸性基团的一种或多种材料。本发明的特别优选的光刻胶在浸渍平版印刷加工中显示出光刻胶材料减少浸析到与光刻胶层接触的浸液中。

公开(公告)号：CN101256355A

公开(公告)日：2008-09-03

申请号：CN200710159692.4

申请日：2007-10-30

Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司

Inventor： S·J·卡波拉勒 ,  G·G·巴克雷 ,  D·王 ,  L·贾

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/00

CPC classification number: G03F7/2041 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397

Abstract: 提供新的光刻胶组合物，它可用于浸渍平版印刷中。本发明的优选的光刻胶组合物包括：具有可通过用碱处理而发生变化的水接触角的一种或多种材料；和/或包含氟化的光致酸－不稳定性基团的一种或多种材料；和/或包含从聚合物骨架上悬挂的酸性基团的一种或多种材料。本发明的特别优选的光刻胶在浸渍平版印刷加工中显示出光刻胶材料减少浸析到与光刻胶层接触的浸液中。