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    面漆组合物和光刻法
    4.
    发明授权
    面漆组合物和光刻法 有权

    公开(公告)号：CN103087606B

    公开(公告)日：2016-01-20

    申请号：CN201210595814.5

    申请日：2012-11-07

    申请人： 罗门哈斯电子材料有限公司

    发明人： D·王

    IPC分类号： C09D133/16 ,  C09D133/14 ,  G03F7/11 ,  G03F7/00

    CPC分类号： G03F7/11 ,  C09D133/16 ,  C09D141/00 ,  G03F7/2041 ,  C08L33/16 ,  C08L2205/025

    摘要： 面漆组合物和光刻法。提供了一种用于浸没式光刻法的面漆组合物，所述面漆组合物包括：聚合物体系，所述聚合物体系包括基质聚合物和表面活性聚合物，其中在所述组合物中，基质聚合物具有与表面活性聚合物的重量比相比较高的重量比，并且其中该表面活性聚合物具有与基质聚合物的表面能相比较低的表面能；和溶剂体系，所述溶剂体系包括选自γ-丁内酯和/或γ-戊内酯的第一有机溶剂和第二有机溶剂，其中该第一有机溶剂具有与该表面活性聚合物的表面能相比较高的表面能，并且该第一有机溶剂具有与第二有机溶剂的沸点相比较高的沸点。

    用于光刻的包含杂取代的碳环芳基组分的组合物和方法
    6.
    发明授权
    用于光刻的包含杂取代的碳环芳基组分的组合物和方法 失效

    公开(公告)号：CN101943856B

    公开(公告)日：2014-12-17

    申请号：CN200910249079.0

    申请日：2009-11-19

    申请人： 罗门哈斯电子材料有限公司

    发明人： D·王 ,  C·-B·徐 ,  G·G·巴克雷

    IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/075

    CPC分类号： G03F7/0048 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/2041

    摘要： 本发明涉及用于光刻的包含杂取代的碳环芳基组分的组合物和方法，提供了用于浸没式光刻方法的新的光刻胶组合物。本发明还提供了一种处理光刻胶组合物的方法，包括：(a)在基材上施涂光刻胶组合物，所述组合物包括：(i)一种或多种树脂，(ii)光活性组分，和(iii)一种或多种包含杂取代的碳环芳基的材料；以及(b)使光刻胶层浸没式曝光于使该光刻胶组合物活化的辐射下。本发明优选的光刻胶组合物包含一种或多种含杂取代的碳环芳基的材料。在浸没式光刻过程中，使用本发明特别优选的光刻胶，表现出减少光刻胶材料向与光刻胶层接触的浸没液中的滤出。

    光刻胶组合物和形成光刻图案的方法
    9.
    发明公开
    光刻胶组合物和形成光刻图案的方法 有权

    公开(公告)号：CN103576458A

    公开(公告)日：2014-02-12

    申请号：CN201310491354.6

    申请日：2013-07-31

    申请人： 罗门哈斯电子材料有限公司

    发明人： 朴钟根 ,  C·N·李 ,  C·安德斯 ,  D·王

    IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/09 ,  G03F7/00

    CPC分类号： G03F7/038 ,  G03F7/004 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/20 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/30

    摘要： 光刻胶组合物和形成光刻图案的方法。一种光刻胶组合物，所述光刻胶组合物包含：包含酸不稳定基团的第一聚合物；第二聚合物，所述第二聚合物包含：由下列通式(I)的第一单体形成的第一单元，其中：P是可聚合的官能团；R1选自取代和未取代的C1-C20线性、支化和环状烃；Z是选自取代和未取代的线性或支化脂肪族和芳族烃及其组合的间隔单元，任选具有一个或多个选自-O-、-S-和-COO-的连接结构部分；和n是0-5的整数；以及由具有碱性结构部分的第二单体形成的第二单元，其中第一单体和第二单体不相同；其中第二聚合物不含酸不稳定基团且其中第二聚合物具有比第一聚合物低的表面能；光酸产生剂；和溶剂。