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公开(公告)号：CN107459726B
公开(公告)日：2020-07-14
申请号：CN201710264644.5
申请日：2014-06-24
Applicant: 陶氏环球技术有限公司 , 罗门哈斯电子材料有限公司
IPC: C08L25/08 , C08L53/00 , C08F293/00 , C08F220/22 , C08F212/08 , C08F226/06 , C09D125/08 , C09D153/00
Abstract: 本发明公开了一种嵌段共聚物，该嵌段共聚物包含第一段和第二段，所述第一段和第二段互相共价结合，而且在化学上互不相同；其中所述第一段具有第一表面自由能，所述第二段具有第二表面自由能；以及附加共聚物；所述附加共聚物包含表面自由能降低的部分，所述表面自由能降低的部分的表面自由能小于第一段和第二段的表面自由能；所述附加共聚物还包含一种或多种与嵌段共聚物有亲合性的部分；所述表面自由能降低的部分在化学上不同于所述第一段和第二段；所述附加共聚物不能与水混溶；所述附加共聚物未与所述嵌段共聚物共价结合。
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公开(公告)号：CN103941547B
公开(公告)日：2018-07-27
申请号：CN201410153574.2
申请日：2014-01-20
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
IPC: G03F7/11 , H01L21/027 , C08F220/18 , C08G79/00
CPC classification number: H01L21/0332 , C08G77/58 , C08K5/0091 , C08K5/56 , C08L33/064 , C08L33/066 , C09D133/064 , C09D133/066 , C09D183/14 , G03F1/00
Abstract: 硬掩模表面处理。提供了种组合物,所述组合物包括:有机金属化合物;表面能为20‑49erg/cm的表面处理聚合物,所述表面处理聚合物包含选自羟基、被保护的羟基、被保护的羧基及其混合的表面处理基团;和溶剂。
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公开(公告)号：CN105732884A
公开(公告)日：2016-07-06
申请号：CN201610120335.6
申请日：2013-09-23
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
IPC: C08F220/18 , C08F230/04 , C08F220/10 , C08F30/04 , C08F20/06 , H01L21/027 , G03F7/16 , G03F1/00 , G03F7/004 , G03F7/038
CPC classification number: C08F220/10 , C08F220/18 , G03F7/091 , G03F7/094 , C08F230/04 , C08F20/06 , C08F30/04 , G03F1/00 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/16 , H01L21/0271 , C08F2220/1825 , C08F2220/1808
Abstract: 提供了适用于旋涂金属硬掩模的包含某些有机金属低聚物的组合物，其中该组合物可以被改变组成以提供具有一系列刻蚀选择性的金属氧化物硬掩模。还提供了使用本发明的组合物沉积金属氧化物硬掩模的方法。
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公开(公告)号：CN103353707B
公开(公告)日：2016-06-29
申请号：CN201310269922.8
申请日：2007-01-08
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
CPC classification number: G03F7/11 , G03F7/0392 , G03F7/2041
Abstract: 一方面，本发明涉及包含树脂组分的涂料组合物，所述树脂组分的主导性部分包含一种或多种至少基本不含氟的树脂。本发明的涂料组合物可用作光致抗蚀剂的覆盖涂层，包括可用在浸渍平版印刷工艺中。
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公开(公告)号：CN103681253B
公开(公告)日：2016-06-15
申请号：CN201310571344.3
申请日：2013-09-23
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
IPC: H01L21/027 , C08F220/10 , C08F220/18
CPC classification number: C08F220/10 , C08F220/18 , G03F7/091 , G03F7/094
Abstract: 提供了适用于旋涂金属硬掩模的包含某些有机金属低聚物的组合物，其中该组合物可以被改变组成以提供具有一系列刻蚀选择性的金属氧化物硬掩模。还提供了使用本发明的组合物沉积金属氧化物硬掩模的方法。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105255246A
公开(公告)日：2016-01-20
申请号：CN201410858474.X
申请日：2014-12-29
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
CPC classification number: C09D201/00 , C08F220/10 , C08K5/05 , C08K5/101 , C08L101/12 , C09D7/20 , C09D133/14 , C09D133/16 , C09D201/02 , G03F7/11 , G03F7/16 , G03F7/20 , G03F7/2041 , G03F7/32 , H01L21/0271
Abstract: 本发明提供的面漆组合物可以用于沉浸式光刻中以形成光抗蚀剂图形。所述面漆组合物包括溶剂系统，该溶剂系统包含1)由化学式(I)表示的第一有机溶剂，其中R1和R2为3-8个碳的烷基并且R1和R2的碳的总数目大于6；以及2)第二有机溶剂，所述第二有机溶剂是C4至C10一羟基醇。
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公开(公告)号：CN102566323B
公开(公告)日：2015-04-29
申请号：CN201210053600.5
申请日：2006-05-08
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
Inventor： D·王
CPC classification number: G03F7/0392 , G03F7/0046 , G03F7/0047 , G03F7/0382 , G03F7/0757 , G03F7/0758 , G03F7/2041
Abstract: 本发明提供了一种可用于浸没式光刻的新颖的光刻胶组合物。本发明优选的光刻胶组合物包含一种或多种基本不能与该光刻胶的树脂组分混合的材料。本发明进一步优选的光刻胶组合物包含1)Si取代基，2)氟取代基，3)超支化的聚合物和/或4)聚合物颗粒。在浸没式光刻过程中，使用本发明特别优选的光刻胶，可以减少光刻胶材料向与该光刻胶层接触的浸没液中的浸出。
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公开(公告)号：CN103941538A
公开(公告)日：2014-07-23
申请号：CN201410153572.3
申请日：2014-01-20
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
IPC: G03F1/00
CPC classification number: H01L21/0271 , B05D1/005 , B05D1/02 , B05D1/18 , B05D1/26 , B05D1/28 , B05D1/30 , B05D3/02 , B05D7/16 , H01L21/0332 , H01L21/3105
Abstract: 硬掩模表面处理。提供了一种处理硬掩模层表面的方法，所述硬掩模层包括具有(-M-O-)n键的无机域，其中M为第3族至第14族的金属，且n＞1，所述方法包括：将硬掩模表面与表面处理组合物接触，以涂布硬掩模表面，其中所述表面处理组合物包括有机溶剂和含表面活性基团的表面处理剂。
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公开(公告)号：CN103681253A
公开(公告)日：2014-03-26
申请号：CN201310571344.3
申请日：2013-09-23
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
IPC: H01L21/027 , C08F220/10 , C08F220/18
CPC classification number: C08F220/10 , C08F220/18 , G03F7/091 , G03F7/094
Abstract: 提供了适用于旋涂金属硬掩模的包含某些有机金属低聚物的组合物，其中该组合物可以被改变组成以提供具有一系列刻蚀选择性的金属氧化物硬掩模。还提供了使用本发明的组合物沉积金属氧化物硬掩模的方法。
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公开(公告)号：CN102844707A
公开(公告)日：2012-12-26
申请号：CN201080063288.7
申请日：2010-12-13
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
IPC: G03F7/00 , G03F7/004 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/2041 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/322
Abstract: 本发明提供一种用于浸没光刻的新的光致抗蚀剂组合物。本发明优选的光致抗蚀剂组合物包含一种或多种具有碱反应活性基团的材料。本发明具体优选的光致抗蚀剂组合物可以在浸没光刻工艺过程中降低抗蚀剂材料向与所述抗蚀剂层接触的浸没流体的浸出。
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