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公开(公告)号：CN101943856A
公开(公告)日：2011-01-12
申请号：CN200910249079.0
申请日：2009-11-19
申请人： 罗门哈斯电子材料有限公司
CPC分类号： G03F7/0048 , G03F7/0046 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/2041
摘要： 本发明涉及用于光刻的包含杂取代的碳环芳基组分的组合物和方法，提供了用于浸没式光刻方法的新的光刻胶组合物。本发明还提供了一种处理光刻胶组合物的方法，包括：(a)在基材上施涂光刻胶组合物，所述组合物包括：(i)一种或多种树脂，(ii)光活性组分，和(iii)一种或多种包含杂取代的碳环芳基的材料；以及(b)使光刻胶层浸没式曝光于使该光刻胶组合物活化的辐射下。本发明优选的光刻胶组合物包含一种或多种含杂取代的碳环芳基的材料。在浸没式光刻过程中，使用本发明特别优选的光刻胶，表现出减少光刻胶材料向与光刻胶层接触的浸没液中的滤出。
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公开(公告)号：CN101943857B
公开(公告)日：2016-05-11
申请号：CN200910249084.1
申请日：2009-11-19
申请人： 罗门哈斯电子材料有限公司
CPC分类号： G03F7/0046 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/0757 , G03F7/11 , G03F7/2041
摘要： 本发明提供适用于浸没平版印刷的新型光刻胶组合物。在一优选的方面，提供的光刻胶组合物含有：(i)含有光酸不稳定基团的一种或多种树脂，(ii)光活性组分，和(iii)含有光酸不稳定基团并与所述一种或多种树脂不同的一种或多种材料；其中，所述一种或多种材料的光酸不稳定基团的去保护活化能与所述一种或多种树脂的光酸不稳定基团的去保护活化能基本相同或低于后者。在另一优选的方面，提供的光刻胶组合物含有：(i)一种或多种树脂，(ii)光活性组分，和(iii)包含足够量的酸性基团以提供至少一埃每秒的暗场溶解速率的一种或多种材料。
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公开(公告)号：CN101943858B
公开(公告)日：2014-10-29
申请号：CN200910249085.6
申请日：2009-11-19
申请人： 罗门哈斯电子材料有限公司
CPC分类号： G03F7/2041 , G03F7/0046 , G03F7/0048 , G03F7/0382 , G03F7/039 , G03F7/0392 , G03F7/0757
摘要： 本发明提供适用于浸没平版印刷的新型光刻胶组合物。本发明优选的光刻胶组合物包含一种或多种含磺酰胺取代基的材料。在浸没平版印刷方法中，特别优选的本发明的光刻胶组合物可以显示出降低的光刻胶材料向接触光刻胶层的浸没液的沥滤。
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公开(公告)号：CN101943858A
公开(公告)日：2011-01-12
申请号：CN200910249085.6
申请日：2009-11-19
申请人： 罗门哈斯电子材料有限公司
CPC分类号： G03F7/2041 , G03F7/0046 , G03F7/0048 , G03F7/0382 , G03F7/039 , G03F7/0392 , G03F7/0757
摘要： 本发明提供适用于浸没平版印刷的新型光刻胶组合物。本发明优选的光刻胶组合物包含一种或多种含磺酰胺取代基的材料。在浸没平版印刷方法中，特别优选的本发明的光刻胶组合物可以显示出降低的光刻胶材料向接触光刻胶层的浸没液的沥滤。
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公开(公告)号：CN101526737A
公开(公告)日：2009-09-09
申请号：CN200810176143.2
申请日：2008-11-05
申请人： 罗门哈斯电子材料有限公司
CPC分类号： G03F7/2041 , C08F220/22 , C08F220/24 , C08F220/26 , G03F7/0046 , G03F7/038 , G03F7/0392 , G03F7/0757 , H01L21/0274
摘要： 提供了一种新的光刻胶组合物，它可用于浸渍平版印刷。本发明优选的光刻胶组合物包括两种或多种基本上不能与光刻胶的树脂组分混合的不同材料。本发明特别优选的光刻胶能够在浸渍平版印刷加工过程中显示低的光刻胶材料浸析到与光刻胶层接触的浸液中的量。
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公开(公告)号：CN101256355B
公开(公告)日：2013-03-27
申请号：CN200710159692.4
申请日：2007-10-30
申请人： 罗门哈斯电子材料有限公司
CPC分类号： G03F7/2041 , G03F7/0046 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/0397
摘要： 提供新的光刻胶组合物，它可用于浸渍平版印刷中。本发明的优选的光刻胶组合物包括：具有可通过用碱处理而发生变化的水接触角的一种或多种材料；和/或包含氟化的光致酸-不稳定性基团的一种或多种材料；和/或包含从聚合物骨架上悬挂的酸性基团的一种或多种材料。本发明的特别优选的光刻胶在浸渍平版印刷加工中显示出光刻胶材料减少浸析到与光刻胶层接触的浸液中。
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公开(公告)号：CN102253596A
公开(公告)日：2011-11-23
申请号：CN201110096073.1
申请日：2007-10-30
申请人： 罗门哈斯电子材料有限公司
CPC分类号： G03F7/2041 , G03F7/0046 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/0397
摘要： 提供新的光刻胶组合物，它可用于浸渍平版印刷中。本发明的优选的光刻胶组合物包括：具有可通过用碱处理而发生变化的水接触角的一种或多种材料；和/或包含氟化的光致酸-不稳定性基团的一种或多种材料；和/或包含从聚合物骨架上悬挂的酸性基团的一种或多种材料。本发明的特别优选的光刻胶在浸渍平版印刷加工中显示出光刻胶材料减少浸析到与光刻胶层接触的浸液中。
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公开(公告)号：CN101943857A
公开(公告)日：2011-01-12
申请号：CN200910249084.1
申请日：2009-11-19
申请人： 罗门哈斯电子材料有限公司
CPC分类号： G03F7/0046 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/0757 , G03F7/11 , G03F7/2041
摘要： 本发明提供适用于浸没平版印刷的新型光刻胶组合物。在一优选的方面，提供的光刻胶组合物含有：(i)含有光酸不稳定基团的一种或多种树脂，(ii)光活性组分，和(iii)含有光酸不稳定基团并与所述一种或多种树脂不同的一种或多种材料；其中，所述一种或多种材料的光酸不稳定基团的去保护活化能与所述一种或多种树脂的光酸不稳定基团的去保护活化能基本相同或低于后者。在另一优选的方面，提供的光刻胶组合物含有：(i)一种或多种树脂，(ii)光活性组分，和(iii)包含足够量的酸性基团以提供至少一埃每秒的暗场溶解速率的一种或多种材料。
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公开(公告)号：CN101256355A
公开(公告)日：2008-09-03
申请号：CN200710159692.4
申请日：2007-10-30
申请人： 罗门哈斯电子材料有限公司
CPC分类号： G03F7/2041 , G03F7/0046 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/0397
摘要： 提供新的光刻胶组合物，它可用于浸渍平版印刷中。本发明的优选的光刻胶组合物包括：具有可通过用碱处理而发生变化的水接触角的一种或多种材料；和/或包含氟化的光致酸－不稳定性基团的一种或多种材料；和/或包含从聚合物骨架上悬挂的酸性基团的一种或多种材料。本发明的特别优选的光刻胶在浸渍平版印刷加工中显示出光刻胶材料减少浸析到与光刻胶层接触的浸液中。
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公开(公告)号：CN101900953B
公开(公告)日：2015-03-25
申请号：CN200910249083.7
申请日：2009-11-19
申请人： 罗门哈斯电子材料有限公司
CPC分类号： G03F7/038 , G03F7/0046 , G03F7/0048 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/2041
摘要： 本发明提供用于浸没式光刻方法的新的光刻胶组合物。本发明优选的光刻胶组合物包含一种或多种嵌段共聚物。在浸没式光刻过程中使用本发明特别优选的光刻胶，表现出减少光刻胶材料向与光刻胶层接触的浸没液中的浸出。
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