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公开(公告)号：CN102603579A
公开(公告)日：2012-07-25
申请号：CN201110463334.9
申请日：2011-12-31
申请人： 罗门哈斯电子材料有限公司 , 陶氏环球技术有限公司
IPC分类号： C07C309/42 , C07C309/12 , C07C303/32 , C07C381/12 , C07C25/02 , C07D333/76 , C08F220/38 , C08F220/18 , C08F220/30 , C08F220/28 , C08F212/32 , G03F7/004
CPC分类号： G03F7/0045 , C07C309/12 , C07C309/42 , C07C381/12 , C07D333/76 , C08F220/38 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/20 , Y10S430/122 , Y10S430/123 , Y10S430/126
摘要： 可聚合光产酸剂。一种化合物，具有结构式(I)：Q-O-(A)-Z-G+ (I)，其中Q是卤代或非卤代的含C2-30烯烃基团，A是氟代C1-30亚烷基、氟代C3-30亚环烷基、氟代C6-30亚芳基或氟代C7-30亚烷基-亚芳基，Z是包含磺酸盐、磺酰胺或磺酰亚胺的阴离子基团，以及G+具有结构式(II)：其中X是S或I，每个R0是卤代或非卤代的并独立地为C1-30烷基、多环或单环C3-30环烷基、多环或单环C4-30芳基或包含前述至少一种的组合，其中当X是S时，所述R0基团中的一个任选地通过单键与一个相邻的R0基团连接，并且a是2或3，其中当X是I时，a是2，或者当X是S时，a是3。公开了共聚物、光致抗蚀剂、涂覆的基材和图案化方法。
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公开(公告)号：CN102603579B
公开(公告)日：2014-12-31
申请号：CN201110463334.9
申请日：2011-12-31
申请人： 罗门哈斯电子材料有限公司 , 陶氏环球技术有限公司
IPC分类号： C07C309/42 , C07C309/12 , C07C303/32 , C07C381/12 , C07C25/02 , C07D333/76 , C08F220/38 , C08F220/18 , C08F220/30 , C08F220/28 , C08F212/32 , G03F7/004
CPC分类号： G03F7/0045 , C07C309/12 , C07C309/42 , C07C381/12 , C07D333/76 , C08F220/38 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/20 , Y10S430/122 , Y10S430/123 , Y10S430/126
摘要： 可聚合光产酸剂。一种化合物，具有结构式(I)：Q-O-(A)-Z-G+ (I)，其中Q是卤代或非卤代的含C2-30烯烃基团，A是氟代C1-30亚烷基、氟代C3-30亚环烷基、氟代C6-30亚芳基或氟代C7-30亚烷基-亚芳基，Z是包含磺酸盐、磺酰胺或磺酰亚胺的阴离子基团，以及G+具有结构式(II)：其中X是S或I，每个R0是卤代或非卤代的并独立地为C1-30烷基、多环或单环C3-30环烷基、多环或单环C4-30芳基或包含前述至少一种的组合，其中当X是S时，所述R0基团中的一个任选地通过单键与一个相邻的R0基团连接，并且a是2或3，其中当X是I时，a是2，或者当X是S时，a是3。公开了共聚物、光致抗蚀剂、涂覆的基材和图案化方法。
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公开(公告)号：CN105859593A
公开(公告)日：2016-08-17
申请号：CN201610236339.0
申请日：2011-12-31
申请人： 罗门哈斯电子材料有限公司 , 陶氏环球技术有限公司
IPC分类号： C07C303/32 , C07C309/12
CPC分类号： G03F7/0045 , C07C303/32 , C07C381/12 , C08F220/38 , C08F228/00 , G03F7/0046 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , C07C309/12
摘要： 制备光致产酸单体的方法。一种制备单体的方法，包括：使得如通式(I)所示的磺内酯与含有可聚合的基团的亲核体进行反应，其中，每个R独立地为F，C1?10烷基，氟?取代的C1?10烷基，C1?10环烷基，或氟?取代的C1?10环烷基，条件是至少一个R为F；n为0?10的整数，和m为1?(4+2n)的整数，其中所述反应在由水、氨、醚、乙腈、酰胺、二甲亚砜、环丁砜或其组合组成的溶剂中进行，所述亲核体是C8?20乙烯基芳族羧酸、含有羟基的C5?20乙烯基羧酸盐，或C7?20乙烯基羟基芳族化合物的氧离子。可以通过上述方法制备单体，包括光致产酸单体。
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公开(公告)号：CN102675159A
公开(公告)日：2012-09-19
申请号：CN201110463329.8
申请日：2011-12-31
申请人： 罗门哈斯电子材料有限公司 , 陶氏环球技术有限公司
IPC分类号： C07C309/12 , C07C309/11 , C07C303/32 , C07C381/12 , C07D333/76 , C07D327/04 , C07D327/06 , C07D327/02 , C08F222/14 , C08F220/18 , C08F220/28 , C08F220/38 , G03F7/004
CPC分类号： G03F7/0046 , C07C309/12 , C07C381/12 , C07D333/76 , C08F220/38 , G03F7/0045 , G03F7/0397
摘要： 光产酸单体及其前体。提供了一种具有式(I)的单体化合物：其中R1，R2和R3各自独立为H，F，C1-10烷基，氟取代C1-10烷基，C1-10环烷基，或氟取代C1-10环烷基，至少一个R1，R2或R3为F；n为1到10的整数；A是卤化或非卤化含C2-30烯烃的可聚合基团，以及G+为有机或无机阳离子。单体是磺内酯前体反应产物和含羧基或羟基卤化或非卤化含C2-30烯烃化合物的反应产物。聚合物包括式(I)的单体。
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公开(公告)号：CN102603578A
公开(公告)日：2012-07-25
申请号：CN201110463235.0
申请日：2011-12-31
申请人： 罗门哈斯电子材料有限公司 , 陶氏环球技术有限公司
IPC分类号： C07C309/12 , C07C303/32 , C07C309/11 , C07C381/12 , C07C211/05 , C07C209/00 , C07D333/76 , C08F222/14 , C08F220/18 , C08F220/28 , C08F220/38 , G03F7/004
CPC分类号： G03F7/0045 , C07C303/32 , C07C381/12 , C08F220/38 , C08F228/00 , G03F7/0046 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , C07C309/12
摘要： 制备光致产酸单体的方法。一种制备单体的方法，包括：使得如通式(I)所示的磺内酯与含有可聚合的基团的亲核体进行反应，其中，每个R独立地为F，C1-10烷基，氟取代的C1-10烷基，C1-10环烷基，或氟-取代的C1-10环烷基，条件是至少一个R为F；n为0-10的整数，和m为1-(4+2n)的整数。可以通过上述方法制备单体，包括光致产酸单体。
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公开(公告)号：CN110531581A
公开(公告)日：2019-12-03
申请号：CN201910842301.1
申请日：2011-11-30
申请人： 罗门哈斯电子材料有限公司 , 陶氏环球技术有限公司
摘要： 光酸发生剂。一种以式(I)所示的光酸发生剂化合物：G+Z-(I)，其中G具有式(II) 其中在式(II)中，X是S或I，每个R0通常连接到X，且独立的为C1-30烷基；多环或单环C3-30环烷基；多环或单环C6-30芳基；或包括前述至少之一的组合，G具有大于263.4g/mol的分子量，或G具有小于263.4g/mol的分子量，且一个或多个R0基团进一步连接到相邻的R0基，a是2或3，其中当X是I时，a是2，或当X是S时，a是2或3，且式(I)中的Z包括磺酸阴离子、磺酰亚胺或磺胺。光致抗蚀剂和涂敷薄膜也包括光酸发生剂和聚合物，以及使用所述光致抗蚀剂的电子设备的形成方法。
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公开(公告)号：CN105693563A
公开(公告)日：2016-06-22
申请号：CN201610177002.7
申请日：2011-12-31
申请人： 罗门哈斯电子材料有限公司 , 陶氏环球技术有限公司
IPC分类号： C07C309/12 , C07C309/11 , C07C303/32 , C07D333/76 , C08F222/14 , C08F220/18 , C08F220/28 , C08F220/38
CPC分类号： G03F7/0046 , C07C309/12 , C07C381/12 , C07D333/76 , C08F220/38 , G03F7/0045 , G03F7/0397 , C07C303/32 , C07C309/11 , C08F222/14 , C08F220/18 , C08F2220/282 , C08F2220/382
摘要： 光产酸单体及其前体。提供了一种具有式(I)的单体化合物：其中R1，R2和R3各自独立为H，F，C1-10烷基，氟取代C1-10烷基，C1-10环烷基，或氟取代C1-10环烷基，至少一个R1，R2或R3为F；n为1到10的整数；A是卤化或非卤化含C2-30烯烃的可聚合基团，以及G+为有机或无机阳离子。单体是磺内酯前体反应产物和含羧基或羟基卤化或非卤化含C2-30烯烃化合物的反应产物。聚合物包括式(I)的单体。
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公开(公告)号：CN102617430A
公开(公告)日：2012-08-01
申请号：CN201110463187.5
申请日：2011-11-30
申请人： 罗门哈斯电子材料有限公司 , 陶氏环球技术有限公司
IPC分类号： C07C381/12 , C07C309/06 , C07C303/32 , G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/00
摘要： 光酸发生剂。一种以式(I)所示的光酸发生剂化合物：G+Z-(I)，其中G具有式(II)(II)，其中在式(II)中，X是S或I，每个R0通常连接到X，且独立的为C1-30烷基；多环或单环C3-30环烷基；多环或单环C6-30芳基；或包括前述至少之一的组合，G具有大于263.4g/mol的分子量，或G具有小于263.4g/mol的分子量，且一个或多个R0基团进一步连接到相邻的R0基，a是2或3，其中当X是I时，a是2，或当X是S时，a是2或3，且式(I)中的Z包括磺酸阴离子、磺酰亚胺或磺胺。光致抗蚀剂和涂敷薄膜也包括光酸发生剂和聚合物，以及使用所述光致抗蚀剂的电子设备的形成方法。
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