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公开(公告)号：CN110993544B
公开(公告)日：2022-10-21
申请号：CN201911089186.1
申请日：2019-11-08
申请人： 上海至纯洁净系统科技股份有限公司 , 至微半导体(上海)有限公司
IPC分类号： H01L21/673
摘要： 本发明公开了一种避免晶圆晃动与偏移的晶圆安装座及晶圆升降装置，所述晶圆安装座包括基座和夹持板，所述夹持板扣合在基座的两侧并通过紧固件与基座锁紧固定，所述夹持板的上端部设置有齿沟结构，齿沟结构上的每个齿均具有齿背、齿前、以及齿背与齿前相交处形成的齿尖。本发明结构简单、使用方便，通过在夹持板上设置特殊的齿沟结构，能够避免移动晶圆过程中晶圆发生晃动或偏移，大大地降低了晶圆的破损率，避免破损晶圆污染其他未破损的晶圆或污染生产线设备，降低了企业生产成本。
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公开(公告)号：CN111312626B
公开(公告)日：2022-03-18
申请号：CN202010125632.6
申请日：2020-02-27
申请人： 至微半导体(上海)有限公司 , 江苏启微半导体设备有限公司
IPC分类号： H01L21/67
摘要： 本发明公开了一种图案化晶圆干燥方法，所述晶圆干燥方法包括在晶圆容纳室的底部设置一用于汇聚热氮气流至晶圆片底部的顶片模块并在洗涤槽之间开设有与晶圆容纳室内外侧相连通的排气缝，以及在第一入口处设置气体喷流模组以使热氮气具有提供足够的动能，所述顶片模块与晶圆片之间留有第一间隔，所述气体喷流模组包括若干可调节喷气流量的喷嘴，热氮气经由排气缝以及晶圆容纳室和顶片模块之间的空隙排出晶圆容纳室。本发明通过在在晶圆容纳室的底部设置一用于汇聚热氮气流至晶圆片底部的顶片模块，能够将晶圆片底部边缘部分充分干燥，使热氮气在气体喷流模组、晶圆容纳室和顶片模块之间形成循环气流场提高了干燥效率。
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公开(公告)号：CN112768377A
公开(公告)日：2021-05-07
申请号：CN202011631866.4
申请日：2020-12-31
申请人： 上海至纯洁净系统科技股份有限公司 , 至微半导体(上海)有限公司
IPC分类号： H01L21/67
摘要： 本发明涉及晶圆干燥领域，公开了一种有效解决晶圆干燥颗粒数干燥后二次污染的结构，其技术方案要点是包括外槽体和内槽体，外槽体内侧壁与内槽体外侧壁之间设置有集液槽体，通过在集液槽体内设置的防溅区能够阻挡液体在导向集液槽体内时产生的飞溅，通过设置的导流部能够将液体导向集液槽体内，通过设置的集流部能够将液体集中导向集液槽体底壁面上，通过设置的动力组件能够带动第二防溅板与第三防溅板向相反方向翻转，此时操作能够清洗集液槽体，通过设置的排液部能够将出水孔内的液体排出，从而实现收集并排出机械臂上溢流出来的液体，避免溢流造成干燥后的晶圆被二次污染。
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公开(公告)号：CN112691532A
公开(公告)日：2021-04-23
申请号：CN202011607962.5
申请日：2020-12-30
申请人： 上海至纯洁净系统科技股份有限公司 , 至微半导体(上海)有限公司
摘要： 本发明公开了一种用于湿法设备的高速排气机构，涉及一种排气机构，包括设备壳体，还包括抽气装置、导流板、分流板、挡片和排气盒，其中，设备壳体内设有一工艺区，设备壳体的上端设有第一进气口和第二进气口，第一进气口的一侧以及第二进气口的一侧分别设有一导流板，两导流板相正对，工艺区的一侧的上端设有分流板，工艺区的另一侧设有排气盒，抽气装置连接排气盒，工艺区的上侧设有一挡片，挡片与工艺区的另一侧之间形成一缓冲区，且缓冲区连通排气盒，工艺区的上表面开设有一吸入槽，且挡片的一端伸入吸入槽内。本发明中，能够有效的将工艺区散出的不纯净的气体排出，可以避免工艺区散出的气体扩散污染纯净的空气。
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公开(公告)号：CN111081616A
公开(公告)日：2020-04-28
申请号：CN201911088268.4
申请日：2019-11-08
申请人： 至微半导体(上海)有限公司
IPC分类号： H01L21/677 , H01L21/687 , H01L21/67
摘要： 本发明公开了一种晶圆导片机构及应用该晶圆导片机构的湿法设备，所述晶圆导片机构包括安装壳体、夹持组件、以及用以调整夹持组件使夹持组件进行弧形对开运动的联杆调节模组，所述联杆调节模组包括固定在安装壳体上的气缸、与气缸的活塞杆相连的联动组件、以及转动曲柄，所述转动曲柄的一端固定在联动组件上、另一端与夹持组件的从安装壳体内伸出的端部相连。本发明通过联动调节模组带动夹持组件进行弧形对开运动，以实现夹持晶圆片的目的，可以避免晶圆片在垂直升降后因夹持晶圆片的动作所带来的各方向的冲击与撞击而使晶圆破裂的问题，避免晶圆片表面出现磨损，保持工艺环境的洁净度。
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公开(公告)号：CN112768391B
公开(公告)日：2022-12-20
申请号：CN202011636137.8
申请日：2020-12-31
申请人： 上海至纯洁净系统科技股份有限公司 , 至微半导体(上海)有限公司
IPC分类号： H01L21/677 , H01L21/687 , H01L21/67 , B25J9/00 , B25J15/00
摘要： 本发明公开了一种晶圆盒联动侦测机械夹持装置，包括横向移动机构、升降机构、夹持机构及机架，所述横向移动机构与所述升降机构均安装于机架上；所述横向移动机构包括旋转气缸、驱动齿轮、从动齿轮，所述旋转气缸安装于所述机架上，所述旋转气缸的输出端连接所述驱动齿轮，所述驱动齿轮与所述从动齿轮通过传送带连接，晶圆清洗设备的各个工艺区通过一齿条连接，所述从动齿轮与所述齿条啮合连接；所述升降机构包括升降气缸，所述升降气缸安装于所述机架上，所述升降机构的输出端连接所述夹持机构。本发明配备对称的U型夹持手，在驱动机构的驱动下做开合动作，针对不同的晶圆盒的尺寸对应调整夹持手的开合间距，保证了夹持动作的完整性与稳定性。
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公开(公告)号：CN110957251B
公开(公告)日：2022-11-18
申请号：CN201911142936.7
申请日：2019-11-20
申请人： 上海至纯洁净系统科技股份有限公司 , 至微半导体(上海)有限公司
IPC分类号： H01L21/677 , H01L21/66
摘要： 本发明公开了一种计量晶圆片数的短行程升降装置，包括：支撑结构，计数机构，所述计数机构放置于支撑结构的腔室内，所述计数机构包括第一固定板，所述第一固定板上固定有至少两个对称设置的U型固定夹板，所述U型固定夹板上固定有计数传感器盒，所述计数传感器盒内固定有计数传感器组；升降机构，所述升降机构的一端固定于支撑结构腔室内，另一端固定于计数机构上，以使所述计数机构在支撑结构腔室内进行上下运动。根据本发明，而且通过设置升降的晶圆计数器进行随时对批量式的晶圆计数，计数的结果更准确，而且该装置可固定在水平移动机构或者垂直运动上来实现多方位的运动，可以和晶圆片与托篮装载、卸载更紧密的配合。
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公开(公告)号：CN112768391A
公开(公告)日：2021-05-07
申请号：CN202011636137.8
申请日：2020-12-31
申请人： 上海至纯洁净系统科技股份有限公司 , 至微半导体(上海)有限公司
IPC分类号： H01L21/677 , H01L21/687 , H01L21/67 , B25J9/00 , B25J15/00
摘要： 本发明公开了一种晶圆盒联动侦测机械夹持装置，包括横向移动机构、升降机构、夹持机构及机架，所述横向移动机构与所述升降机构均安装于机架上；所述横向移动机构包括旋转气缸、驱动齿轮、从动齿轮，所述旋转气缸安装于所述机架上，所述旋转气缸的输出端连接所述驱动齿轮，所述驱动齿轮与所述从动齿轮通过传送带连接，晶圆清洗设备的各个工艺区通过一齿条连接，所述从动齿轮与所述齿条啮合连接；所述升降机构包括升降气缸，所述升降气缸安装于所述机架上，所述升降机构的输出端连接所述夹持机构。本发明配备对称的U型夹持手，在驱动机构的驱动下做开合动作，针对不同的晶圆盒的尺寸对应调整夹持手的开合间距，保证了夹持动作的完整性与稳定性。
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公开(公告)号：CN112717478A
公开(公告)日：2021-04-30
申请号：CN202011611009.8
申请日：2020-12-30
申请人： 上海至纯洁净系统科技股份有限公司 , 至微半导体(上海)有限公司
摘要： 本发明公开了一种酸洗槽去除气泡装置，涉及到去气泡技术领域，包括帮浦、酸液过滤器、分流管路、导流结构和破气泡结构，其中，酸液过滤器位于帮浦的上侧，且帮浦连接酸液过滤器，酸液过滤器的出液口连接分流管路；分流管路包括第一管路和第二管路，第一管路的一端与出液口连接，第一管路的另一端与第二管路的一端连接，其中，第二管路的一端内壁上设有一液体回流面和设于液体回流面下侧的破气泡结构，第二管路的一端内壁上还设有一导流结构，导流结构与破气泡结构相正对。其利用简易的分流管路与帮浦的推动力作用，即可产生将液泡分离的作用，达成在输送各种溶剂或是混合溶液至晶圆湿法工艺区移除气泡的具体作用。
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公开(公告)号：CN111312580A
公开(公告)日：2020-06-19
申请号：CN202010125636.4
申请日：2020-02-27
申请人： 至微半导体(上海)有限公司 , 江苏启微半导体设备有限公司
摘要： 本发明公开了一种用于高深宽比图形晶圆的微幅震动方法，提供一晶圆干燥装置和若干图形晶圆片，所述晶圆干燥装置包括干燥腔室、用于放置晶圆的晶圆容纳室以及恒温恒压气体供应器，所述干燥腔室被设置为用于保留一种气体，所述干燥腔室包括第一入口和第一出口以及从所述第一入口延伸至第一出口的内壁结构，所述晶圆容纳室设置于干燥腔室内部，且包括若干与晶圆片相匹配的洗涤槽。本发明通过在晶圆容纳室底部设置一能够使晶圆容纳室围绕一支撑进行微幅摆动的振动结构，并使其在步骤S3的过程中进行微幅摆动以使其孔隙结构内的水分子被析出，能够移除具有高深宽比图形的晶圆内空乏区的水分。
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