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公开(公告)号:CN116169002A
公开(公告)日:2023-05-26
申请号:CN202310223276.5
申请日:2023-03-09
Applicant: 西安工业大学
IPC: H01J37/32
Abstract: 本发明提供了一种磁场增强耦合等离子体加工装置及方法,包括:电容耦合等离子体装置和跑道磁极装置;电容耦合等离子体装置包括上阳极板和下阴极板,上阳极板和下阴极板之间为等离子体工作区域,在上阳极板和下阴极板之间形成电场;跑道磁极装置包括运动装置和安装在运动装置上的跑道磁极,运动装置带动跑道磁极沿平行于下阴极板的平面运动;跑道磁极包括相邻放置的磁极磁性相反的永磁体,形成约束电场中电子的双极性扩散运动的附加耦合磁场。本发明多场耦合调制等离子体的密度、分布及定向漂移,极大地提高了难于加工材料的实际加工效率,也使得中大口径光学元件等离子体快速加工成为可能,同时提升了元件的抗激光损伤能力。
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公开(公告)号:CN215240063U
公开(公告)日:2021-12-21
申请号:CN202120932142.7
申请日:2021-04-30
Applicant: 西安工业大学
Abstract: 本实用新型公开了一种抛光光学元件载物台,包括固定底座,所述固定底座的顶部固定安装有支撑架,且所述支撑架的外壁设有外螺纹,所述支撑架的顶部设有圆形的第一置物槽,所述第一置物槽的中心处设有圆形的第二置物槽,所述第二置物槽的中心处设有负压吸气孔,所述负压吸气孔连接有导气管,本实用新型结构简单,在支撑架上配备机械固定的固定套,进一步稳定光学元件,避免在加工过程中出现位移,影响加工精度。加工结束后,拧下固定套,解除负压,通过特意预留的取物槽,可在不污染加工表面的情况下,完成加工元件的更换,便于加工后的检测步骤,最终达到易于装夹且在加工过程中保证平面光学元件的稳定性与精度的目的。
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