-
公开(公告)号：CN116818285B
公开(公告)日：2024-04-26
申请号：CN202310801959.4
申请日：2023-06-30
Applicant: 西安工业大学
IPC: G01M11/02
Abstract: 本发明涉及空气等离子体闪光持续时间的确定方法及装置，该方法包括：建立计算激光诱导薄膜表面空气等离子体闪光持续时间tc的模型，通过测量空气等离子体爆轰波在薄膜表面上产生的压强，获得激光诱导薄膜表面空气等离子体闪光持续时间tc；本发明装置包括气压计、刀口式光斑分析仪和操作控制台，以及沿光路依次设置的激光器、衰减器、聚焦系统、分束器和样片台，薄膜固定在样片台上，在薄膜的表面边缘布设压力传感器。本发明方法和装置可以准确地确定空气等离子体闪光持续时间，对激光诱导薄膜击穿过程中的空气等离子体闪光研究，具有重要意义。
-
公开(公告)号：CN116481769B
公开(公告)日：2024-03-12
申请号：CN202310441258.4
申请日：2023-04-23
Applicant: 西安工业大学
IPC: G01M11/00
Abstract: 本发明提供了一种球面元件激光损伤阈值测试方法及其装置。解决了对球面元件激光损伤阈值无法测量的技术问题。本发明将球面元件放置在该机构中通过上述的复合运动，首先是元件的平移运动，作用是让球面元件球心和机构的运动轴心重合，再通过俯仰机构和旋转机构进行后续俯仰和旋转运动；使激光能垂直入射到球面元件的表面进行辐照。从而在球面元件表面完成足够数量的损伤点，最终通过计算得到球面元件的激光损伤阈值。本发明装置结构科学合理,结合球面元件面型特点，使激光可垂直入射到球面元件表面，通过俯仰机构和旋转机构控制球面元件完成球面元件激光损伤阈值的测试，为球面元件抗激光损伤能力的提高奠定了技术基础。
-
公开(公告)号：CN113504588A
公开(公告)日：2021-10-15
申请号：CN202110763474.1
申请日：2021-07-06
Applicant: 西安工业大学
Abstract: 本发明涉及兼容电磁屏蔽红外增透薄膜器件的制备方法，该器件是将介质薄膜作为红外增透层与石墨烯薄膜组合，构建三明治结构的红外增透薄膜器件；利用石墨烯网栅叠加红外增透薄膜的方法实现兼容电磁屏蔽红外增透薄膜器件的制备。对其透明电磁屏蔽性能进行测试分析，本发明薄膜器件保持了红外增透膜的高透过率，同时具备良好的电磁屏蔽性能，能够解决现有装备窗口不能同时满足红外增透和电磁屏蔽的问题，研究成果可广泛的应用于各类装备窗口表面并为新型多功能复合薄膜的应用奠定技术基础。
-
公开(公告)号：CN110106470B
公开(公告)日：2020-11-27
申请号：CN201910348527.6
申请日：2019-04-28
Applicant: 西安工业大学
Abstract: 本发明涉及一种低应力类金刚石薄膜的制备方法。本发明的目的是要在保证DLC薄膜的光学透过率及硬度的基础上，减小其应力。所提供的技术方案是：一种提高类金刚石薄膜抗激光损伤能力的方法，是在DLC及介质薄膜的表面形成具有闭环的磁通路，且使闭环的磁通量具有最大的梯度。所提供的装置包括导磁外框，在外框内设置有一对永磁铁，第一永磁铁和第二永磁铁，第一永磁铁和第二永磁铁的距离可调。利用本发明的方法，对于DLC薄膜可以将损伤阈值从0.57 J/cm2提高到1.23 J/cm2。对于介质薄膜，可以使激光损伤面积减少50%左右。
-
公开(公告)号：CN109001122A
公开(公告)日：2018-12-14
申请号：CN201811149497.8
申请日：2018-09-29
Applicant: 西安工业大学
IPC: G01N21/21
Abstract: 本发明涉及一种梯度或渐变折射率薄膜的光学常数的测量装置及方法。所述装置包括真空系统、椭偏参数检测系统、膜厚监控系统和离子源，所述真空系统包括真空室和样品台；所述膜厚监控系统包括石英晶振膜厚仪；所述样品台安装在真空室顶部，离子源安装在真空室底部，离子源的离子束输出口正对样品台设置。测量方法是：先测量梯度折射率薄膜样品的初始椭偏参数，用离子束对薄膜进行减薄，再测量减薄后薄膜的椭偏参数，反复进行减薄、测试步骤，直到薄膜减薄到设定步长以下，即可得到最后一薄层的折射率和消光系数，在此基础上可依次得到其上各薄层的光学常数，最终获得薄膜样品沿厚度方向的光学常数分布，实现梯度折射率薄膜光学常数的测量。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105200389B
公开(公告)日：2018-11-16
申请号：CN201510727119.3
申请日：2015-10-30
Applicant: 西安工业大学
Abstract: 本发明提供一种提高氧化物薄膜激光损伤阈值的热处理设备与方法。该设备包括：样品台，位于腔室的内部，设有石英玻璃衬底和氧化物光学薄膜，该薄膜经由真空热蒸发技术或磁控溅射进行镀膜处理制成；加热装置，位于样品台的上方以及两侧，用于对样品台进行加热；输入气路管，用于将高纯度氧气充入腔室；真空泵，用于对腔室进行抽真空处理，使真空度达到2.0×10‑4Pa；以及负偏压电路，电性耦接至样品台。相比于现有技术，本发明的负偏压电路将电压电位调至500V，施加的电场使充入的高纯度氧气进行辉光放电，形成的氧离子对薄膜表面进行轰击，从而使薄膜晶化并可减少氧化物光学薄膜的表面缺陷。
-
公开(公告)号：CN105607173B
公开(公告)日：2018-09-14
申请号：CN201610007844.8
申请日：2016-01-07
Applicant: 西安工业大学
IPC: G02B5/20
Abstract: 本发明涉及光能量衰减光学元件制造领域，具体涉及一种圆形径向渐变中性密度滤光片及其制备方法和装置。解决了目前圆形渐变密度滤光片透射率只能在0‑270°扇形区域内沿极坐标角度方向线性变化，而不能在径向渐变的问题，实现了光通量在圆形滤光片径向上的线性递增和线性递减变化，基片上透射率沿半径方向线性渐变的功能。本发明滤光片依次包括基片和镀制在其上的膜层，膜层为金属铬(Cr)或Ni‑Cr，制备方法采用电子束热蒸发技术或磁控溅射技术制备金属Cr或Ni‑Cr薄膜，其中的关键是实现圆形基片上透射率在径向上的线性渐变需要一种专用的装置，所述装置包括，真空室，可旋转的基片架，与基片旋转轴同轴且固定不动的圆形遮挡板，以及蒸发源。
-
公开(公告)号：CN107052913A
公开(公告)日：2017-08-18
申请号：CN201710397592.9
申请日：2017-05-31
Applicant: 西安工业大学
Abstract: 本发明公开了一种RB‑SiC光学元件抛光工艺加工方法，该方法首先利用电感耦合等离子体抛光技术实现RB‑SiC光学元件的精磨抛光，之后利用射频磁控溅射表面平坦化技术在光学表面沉积纳米级平坦化层、最后利用离子束抛光修形技术辅助自由基微波等离子体抛光技术实现光学元件超光滑表面加工。相比于现有技术，本发明利用等离子体抛光技术替代传统的光学加工方法，结合纳米级的平坦化层制备技术和离子束修形抛光技术，极大地缩短了中大口径RB‑SiC元件的加工周期，构建了以高效率、高精度和低损耗的特点RB‑SiC光学元件抛光加工新方法。
-
公开(公告)号：CN103954680B
公开(公告)日：2016-08-24
申请号：CN201410200783.8
申请日：2014-05-13
Applicant: 西安工业大学
IPC: G01N27/64
Abstract: 本发明公开了一种光学薄膜激光毁伤的识别方法及装置，通过采集质荷比分布，用计算机软件进行质谱分析与元素判别，就能确定所毁伤材料中包含的元素种类，从而准确、在线、快速判别出薄膜是否发生损伤。采用该方法的装置由测试样品台、质荷比采集系统及计算机运算系统组成。本发明能够实现在线、实时、快速、准确判别薄膜或光学元件在强激光下的毁伤状态。将该方法应用于激光损伤阈值测试中，可实现测试系统的集成化、自动化、智能化。
-
公开(公告)号：CN103163147A
公开(公告)日：2013-06-19
申请号：CN201310047480.2
申请日：2013-02-06
Applicant: 西安工业大学
Abstract: 本发明提出了一种薄膜损伤的判别方法，包括以下步骤：1)将测试光束作用于待测光学薄膜获取背景光能量Eb；2)变化测试光束与待测光学薄膜的角度0，获取在当前角度0的散射光能量Eθ；3)获取测试光束波长处待测光学薄膜的透过率Tλ；4)根据步骤1)一步骤3)中的背景光能量Eb散射光能量Eθ、待测光学薄膜的透过率Tλ，得到相对光能量分布5)建立薄膜损伤判别模型：6)根据步骤5)的薄膜损伤判别模型，判别待测光学薄膜是否损伤；本发明针对不同膜系功能的损伤判别的统一标准，给出了判别损伤标准的方法，损伤判别过程不需要人为干预，即不同测量者可以获得统一的结果。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
99
records
(took 0.033 seconds)
