一种基于无金工艺的微带传输线结构及制备方法

    公开(公告)号:CN112670695B

    公开(公告)日:2022-04-22

    申请号:CN202011530285.1

    申请日:2020-12-22

    IPC分类号: H01P11/00 H01P3/08 H01B1/02

    摘要: 本发明公开了一种基于无金工艺的微带传输线结构及制备方法,制备方法包括:选取半导体基片;在半导体基片上制备绝缘层;在绝缘层上制备钝化层;在钝化层上制备微带线金属开孔区;在微带线金属开孔区以及未开孔的钝化层上进行光刻,以暴露微带线金属开孔区;在微带线金属开孔区内依次制备第一微带金属层和第二微带金属层;在第一微带金属层侧壁、第二微带金属层上及第二微带金属层侧壁制备钝化层。本发明采用粘附性好的Ti金属材料作为第一层微带线金属,从而增大了接触面积,降低了接触电阻,且用Ti金属材料作为第一层微带线金属,所需制备的金属层的厚度将大大降低,从而本发明所制备的微带传输线结构不仅具有良好的微波特性,降低了制造成本。

    一种基于无金工艺的微带传输线结构及制备方法

    公开(公告)号:CN112670695A

    公开(公告)日:2021-04-16

    申请号:CN202011530285.1

    申请日:2020-12-22

    IPC分类号: H01P11/00 H01P3/08 H01B1/02

    摘要: 本发明公开了一种基于无金工艺的微带传输线结构及制备方法,制备方法包括:选取半导体基片;在半导体基片上制备绝缘层;在绝缘层上制备钝化层;在钝化层上制备微带线金属开孔区;在微带线金属开孔区以及未开孔的钝化层上进行光刻,以暴露微带线金属开孔区;在微带线金属开孔区内依次制备第一微带金属层和第二微带金属层;在第一微带金属层侧壁、第二微带金属层上及第二微带金属层侧壁制备钝化层。本发明采用粘附性好的Ti金属材料作为第一层微带线金属,从而增大了接触面积,降低了接触电阻,且用Ti金属材料作为第一层微带线金属,所需制备的金属层的厚度将大大降低,从而本发明所制备的微带传输线结构不仅具有良好的微波特性,降低了制造成本。

    一种基于误差函数精度补偿的GaN HEMT建模方法

    公开(公告)号:CN112733477B

    公开(公告)日:2023-08-11

    申请号:CN202011626803.X

    申请日:2020-12-30

    IPC分类号: G06F30/3308

    摘要: 本发明公开了一种基于误差函数精度补偿的GaN HEMT建模修正方法,包括:获取原始经验基模型的所有第一参数值;根据固定值改变第一参数值得到第二参数值;根据第二参数值和第二参数值对应的第一参数值得到若干敏感参数;根据敏感参数得到不同栅压下的敏感参数的参数值;根据栅压和栅压下的敏感参数的参数值得到第一经验基模型;根据第一经验基模型的第二拟合值和实测值得到误差的拟合值;根据误差的拟合值和预设误差阈值得到第二经验基模型。本发明提供了一种针对经验基模型的准确性修正方法,主要提升经验基模型对器件直流的拟合精度,进一步提升经验基模型的大信号拟合精度,并且提升电路设计的效率和准确性。

    一种宽带多支节Gysel型功分器

    公开(公告)号:CN115775963B

    公开(公告)日:2024-03-19

    申请号:CN202211355869.9

    申请日:2022-11-01

    IPC分类号: H01P5/16

    摘要: 本发明公开了一种宽带多支节Gysel型功分器,其中,L1、L9、L10、L11、L15、L16和L8按顺时针方向依次连接形成闭合回路,L1与L8的连接处和信号输入端连接;L12、L13、L14和L11按顺时针方向依次连接形成闭合回路;L1、L2、L3、L7和L8按顺时针方向依次连接形成闭合回路,L4、L5、L6和L3按顺时针方向依次连接形成闭合回路;第一隔离电阻的两端分别与N1、N2连接,第二隔离电阻的一端连接至N3、另一端接地,第三隔离电阻的一端连接至N4、另一端接地,第四隔离电阻的一端连接至N5、另一端接地,第五隔离电阻的一端连接至N6、另一端接地。本发明能够降低插损、提高隔离度,还可以承受高功率,适合微波的高功率分配合成应用。

    一种用于MMIC电路中的小型威尔金森功分器

    公开(公告)号:CN113097679B

    公开(公告)日:2021-11-19

    申请号:CN202110262417.5

    申请日:2021-03-10

    IPC分类号: H01P5/16

    摘要: 本发明涉及一种用于MMIC电路中的小型威尔金森功分器,包括介质层、附着在介质层一侧的金属导带层、以及附着在介质层另一侧的接地金属层,金属导带层包括:输入端口、至少2路传输微带线、输出端口、梯形结构微带线、矩形结构微带线、隔离模块,其中,输出端口的个数与传输微带线的路数相匹配,传输微带线的一端与输入端口连接,另一端与对应的输出端口连接;梯形结构微带线与输入端口连接;矩形结构微带线的个数与输出端口的个数相匹配,矩形结构微带线与对应的输出端口连接;隔离模块连接在相邻两个输出端口之间,隔离模块包括依次串接的第一隔离电容、隔离电阻和第二隔离电容。本发明的威尔金森功分器,缩小了威尔金森功分器的分支尺寸。

    一种n路单片集总式功分器的拓扑结构及其设计方法

    公开(公告)号:CN112864561A

    公开(公告)日:2021-05-28

    申请号:CN202011584111.3

    申请日:2020-12-28

    IPC分类号: H01P5/12

    摘要: 本发明公开了一种n路单片集总式功分器的拓扑结构及其设计方法,该拓扑结构包括电感L1和n个支路,n个支路包括电容C1至电容Cn、电阻R1至电阻Rn,其中,电感L1的一端连接输入端口,电容C1至电容Cn的一端也均连接输入端口,电感L1的另一端接地,电容C1至电容Cn的另一端对应连接输出端口1至输出端口n,电阻R1至电阻Rn‑1分别并接于相邻两个输出端口之间,电阻Rn的两端分别连接于输出端口1和输出端口n。本发明相比于其他功分器只使用了1个电感,总共使用元件为2n+1(n≥3),能够以最少的元件实现n路功率分配,其中最简单的的2路和3路功分器仅仅分别由4和7个元件构成,因此能做到损耗最小和电路版图最小,实现高度集成。

    一种射频前端发射模块及相控阵雷达前端芯片

    公开(公告)号:CN113820666B

    公开(公告)日:2024-02-23

    申请号:CN202110882688.0

    申请日:2021-08-02

    IPC分类号: G01S7/282

    摘要: 本发明公开了一种射频前端发射模块,包括依次连接的有源倍频器、功率放大器和移相器;有源倍频器包括依次连接的输入匹配网络、耦合网络、有源倍频核以及输出匹配网络,其中,耦合网络包括功分器网络和第一耦合器网络;移相器包括依次连接的第一开关网络、第二耦合器网络以及第二开关网络;第一开关网络的输入端连接功率放大器的输出端,第二开关网络的输出端为整个射频前端发射模块的输出端。本发明提供的射频前端发射模块大大提高了芯片集成度,减小了模块面积;且大大降低了各部分的级联损耗,有利于提升模块整体性能。

    一种应用于氮化镓Doherty功率放大器的线性化方法

    公开(公告)号:CN115940832A

    公开(公告)日:2023-04-07

    申请号:CN202211356406.4

    申请日:2022-11-01

    IPC分类号: H03F1/32 H03F3/20 H03F1/02

    摘要: 本发明公开了一种应用于氮化镓Doherty功率放大器的线性化方法,通过在氮化镓Doherty功率放大器的前级增加一线性化前级驱动电路,以改善Doherty功率放大器的线性度;其中,线性化前级驱动电路包括有源偏置电路和驱动放大器,驱动放大器与氮化镓Doherty功率放大器连接;有源偏置电路设置于驱动放大器的前级,用于稳定驱动放大器的栅极电压,以使驱动放大器的工作状态偏置在弱C类。相比于传统的数字预失真技术,本发明的电路更加简单,且不需要高采样率的FPGA;相比于传统的模拟预失真技术,本发明不但能够明显提高氮化镓Doherty功放的线性度,还能提供额外的增益。

    一种基于误差函数精度补偿的GaN HEMT建模方法

    公开(公告)号:CN112733477A

    公开(公告)日:2021-04-30

    申请号:CN202011626803.X

    申请日:2020-12-30

    IPC分类号: G06F30/3308

    摘要: 本发明公开了一种基于误差函数精度补偿的GaN HEMT建模修正方法,包括:获取原始经验基模型的所有第一参数值;根据固定值改变第一参数值得到第二参数值;根据第二参数值和第二参数值对应的第一参数值得到若干敏感参数;根据敏感参数得到不同栅压下的敏感参数的参数值;根据栅压和栅压下的敏感参数的参数值得到第一经验基模型;根据第一经验基模型的第二拟合值和实测值得到误差的拟合值;根据误差的拟合值和预设误差阈值得到第二经验基模型。本发明提供了一种针对经验基模型的准确性修正方法,主要提升经验基模型对器件直流的拟合精度,进一步提升经验基模型的大信号拟合精度,并且提升电路设计的效率和准确性。

    一种基于横向沟道调制的增强型场效应晶体管及其制作方法

    公开(公告)号:CN107958928A

    公开(公告)日:2018-04-24

    申请号:CN201711155479.6

    申请日:2017-11-20

    摘要: 本发明提供了一种基于横向沟道调制的GaN基增强型场效应晶体管,主要解决现有同类器件由隧穿引起的漏电和阈值电压不足的问题。其自下而上包括衬底、AlN成核层、GaN缓冲层和AlGaN势垒层,AlGaN势垒层的两端设有源电极和漏电极,源电极和漏电极上设有金属互联层,AlGaN势垒层和GaN缓冲层上均设有多条隔开的纳米线沟道,AlGaN势垒层上设有凹槽和垂直于纳米线沟道的凹槽栅电极,凹槽栅电极以外的区域为钝化层,该SiN钝化层与凹槽栅电极之上设有SiN保护层,凹槽与凹槽栅电极之间设有HfO2介质层。本发明极大地减小了漏电,提高了GaN基器件的增强效果,可用于微波、毫米波通讯系统以及雷达系统的基本器件。