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公开(公告)号：CN109868461B
公开(公告)日：2021-01-22
申请号：CN201910181537.5
申请日：2019-03-11
申请人： 郑州磨料磨具磨削研究所有限公司
IPC分类号： C23C16/511 , C23C16/513 , C23C16/517
摘要： 一种微波等离子体化学气相沉积装置放取样系统，包括机架和升降放取机构，升降放取机构包括支撑座及置于支撑座上的支撑底板，且支撑底板与支撑座沿水平方向滑动配合；支撑底板上方还设有用于放置沉积物的石英钟罩，实现石英钟罩伴随支撑底板在竖直方向上的升降；机架上还设有用于检测石英钟罩位置的定位装置。该微波等离子体化学气相沉积装置放取样系统，通过升降放取机构、支撑座以及与支撑座水平滑动配合的支撑底板的结构布设，使放样、取样过程中操作空间不再受限制，放样、取样过程简单无妨碍，可有效的避免由于操作空间有限而导致损坏石英钟罩情况的发生。
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公开(公告)号：CN109868461A
公开(公告)日：2019-06-11
申请号：CN201910181537.5
申请日：2019-03-11
申请人： 郑州磨料磨具磨削研究所有限公司
IPC分类号： C23C16/511 , C23C16/513 , C23C16/517
摘要： 一种微波等离子体化学气相沉积装置放取样系统，包括机架和升降放取机构，升降放取机构包括支撑座及置于支撑座上的支撑底板，且支撑底板与支撑座沿水平方向滑动配合；支撑底板上方还设有用于放置沉积物的石英钟罩，实现石英钟罩伴随支撑底板在竖直方向上的升降；机架上还设有用于检测石英钟罩位置的定位装置。该微波等离子体化学气相沉积装置放取样系统，通过升降放取机构、支撑座以及与支撑座水平滑动配合的支撑底板的结构布设，使放样、取样过程中操作空间不再受限制，放样、取样过程简单无妨碍，可有效的避免由于操作空间有限而导致损坏石英钟罩情况的发生。
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公开(公告)号：CN110453202B
公开(公告)日：2023-08-25
申请号：CN201910580193.5
申请日：2019-06-28
申请人： 郑州磨料磨具磨削研究所有限公司
IPC分类号： C23C16/511 , C23C16/27 , H01P1/16 , H01Q1/22
摘要： 本发明涉及一种天线位置可调的波导模式转换器及MPCVD装置。MPCVD装置包括设置在输送波导管路与谐振腔之间的波导模式转换器，波导模式转换器包括转换波导管段、天线、支撑滑台及升降驱动装置，转换波导管段用于转接布置在MPCVD装置的输送波导管路与谐振腔之间，天线沿上下方向导向可升降的装配在所述转换波导管段中，天线穿出所述转换波导管段并与所述支撑滑台固定装配，升降驱动装置与支撑滑台滑动连接，以驱使所述支撑滑台带动天线升降调整至设定目标位置。天线固定装配在支撑滑台上，通过升降驱动装置可驱动支撑滑台带动天线升降调整，以实现天线高度位置的调节，使波导模式转换器较容易满足最佳结构，从而提高MPCVD装置中微波的转换效率。
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公开(公告)号：CN109778138B
公开(公告)日：2020-12-29
申请号：CN201910217762.X
申请日：2019-03-21
申请人： 郑州磨料磨具磨削研究所有限公司
IPC分类号： C23C16/27 , C23C16/511
摘要： 本发明涉及微波等离子体化学气相沉积技术领域，具体公开了一种微波等离子体金刚石膜沉积设备，其微波石英窗的顶部和底部通过密封垫片组分别与沉积台和底板密封连接，所述密封垫片组包括外圈密封垫片和内圈密封垫片，外圈密封垫片和内圈密封垫片间设有泄气间隙，顶部和底部的泄气间隙通过第二通气孔连通，在底板上的第三通气孔用于将泄气间隙与第二出气管连通，第二出气管与抽真空装置连接。本发明能有效隔离外界空气，维持了反应腔内真空工作环境，有效降低了本类型MPCVD设备的真空漏率，最终实现反应腔与外部空气有效隔离，为制备高品质产品提供了有利保障，提高了微波等离子体化学气相沉积产品质量，满足科研和工业化生产需求。
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公开(公告)号：CN109778138A
公开(公告)日：2019-05-21
申请号：CN201910217762.X
申请日：2019-03-21
申请人： 郑州磨料磨具磨削研究所有限公司
IPC分类号： C23C16/27 , C23C16/511
摘要： 本发明涉及微波等离子体化学气相沉积技术领域，具体公开了一种微波等离子体金刚石膜沉积设备，其微波石英窗的顶部和底部通过密封垫片组分别与沉积台和底板密封连接，所述密封垫片组包括外圈密封垫片和内圈密封垫片，外圈密封垫片和内圈密封垫片间设有泄气间隙，顶部和底部的泄气间隙通过第二通气孔连通，在底板上的第三通气孔用于将泄气间隙与第二出气管连通，第二出气管与抽真空装置连接。本发明能有效隔离外界空气，维持了反应腔内真空工作环境，有效降低了本类型MPCVD设备的真空漏率，最终实现反应腔与外部空气有效隔离，为制备高品质产品提供了有利保障，提高了微波等离子体化学气相沉积产品质量，满足科研和工业化生产需求。
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公开(公告)号：CN115799793A
公开(公告)日：2023-03-14
申请号：CN202211508133.0
申请日：2022-11-29
申请人： 郑州磨料磨具磨削研究所有限公司
IPC分类号： H01P7/06 , C23C16/511
摘要： 本发明公开了一种新型微波谐振腔及微波等离子体化学气相沉积装置，通过在沉积室内设置凸设的顶盖，且凸设的顶盖朝向沉积台布设为V型凸台或W型凸台，可改善谐振腔内的微波电磁场，消除顶盖处的电场强度，进而使顶盖处不产生等离子体，可消除次生等离子体对金刚石膜生长的不利影响，有利于金刚石膜的沉积；而带有锥形沉积台的谐振腔可以增大托盘上的电场强度和区域，改善谐振腔内的微波电磁场，进而增大等离子体，提高微波能量利用率、增大金刚石膜的沉积面积和沉积速度。
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公开(公告)号：CN110453202A
公开(公告)日：2019-11-15
申请号：CN201910580193.5
申请日：2019-06-28
申请人： 郑州磨料磨具磨削研究所有限公司
IPC分类号： C23C16/511 , C23C16/27 , H01P1/16 , H01Q1/22
摘要： 本发明涉及一种天线位置可调的波导模式转换器及MPCVD装置。MPCVD装置包括设置在输送波导管路与谐振腔之间的波导模式转换器，波导模式转换器包括转换波导管段、天线、支撑滑台及升降驱动装置，转换波导管段用于转接布置在MPCVD装置的输送波导管路与谐振腔之间，天线沿上下方向导向可升降的装配在所述转换波导管段中，天线穿出所述转换波导管段并与所述支撑滑台固定装配，升降驱动装置与支撑滑台滑动连接，以驱使所述支撑滑台带动天线升降调整至设定目标位置。天线固定装配在支撑滑台上，通过升降驱动装置可驱动支撑滑台带动天线升降调整，以实现天线高度位置的调节，使波导模式转换器较容易满足最佳结构，从而提高MPCVD装置中微波的转换效率。
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公开(公告)号：CN209652424U
公开(公告)日：2019-11-19
申请号：CN201920360861.9
申请日：2019-03-21
申请人： 郑州磨料磨具磨削研究所有限公司
IPC分类号： C23C16/511 , C23C16/513 , C23C16/517
摘要： 本实用新型涉及微波等离子体化学气相沉积技术领域，具体公开了一种对真空环境有效密封的MPCVD装置，包括上盖板、底板及由两者围成的反应腔，在底板与上盖板的连接处通过O型密封圈组进行密封，在底板上与环形泄气通道相对应的圆周上设有第一通气孔，所述第一通气孔的上端与环形泄气通道连接，第一通气孔的下端通过第一出气管与抽真空装置连接。本实用新型能有效隔离外界空气，维持了反应腔内真空工作环境，有效降低了本类型MPCVD设备的真空漏率，最终实现反应腔与外部空气有效隔离，为制备高品质产品提供了有利保障，提高了微波等离子体化学气相沉积产品质量，满足科研和工业化生产需求。
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公开(公告)号：CN211005614U
公开(公告)日：2020-07-14
申请号：CN201920996501.8
申请日：2019-06-28
申请人： 郑州磨料磨具磨削研究所有限公司
IPC分类号： C23C16/511 , C23C16/27 , H01P1/16 , H01Q1/22
摘要： 本实用新型涉及一种天线位置可调的波导模式转换器及MPCVD装置。MPCVD装置包括设置在输送波导管路与谐振腔之间的波导模式转换器，波导模式转换器包括转换波导管段、天线、支撑滑台及升降驱动装置，转换波导管段用于转接布置在MPCVD装置的输送波导管路与谐振腔之间，天线沿上下方向导向可升降的装配在所述转换波导管段中，天线穿出所述转换波导管段并与所述支撑滑台固定装配，升降驱动装置与支撑滑台滑动连接，以驱使所述支撑滑台带动天线升降调整至设定目标位置。天线固定装配在支撑滑台上，通过升降驱动装置可驱动支撑滑台带动天线升降调整，以实现天线高度位置的调节，使波导模式转换器较容易满足最佳结构，从而提高MPCVD装置中微波的转换效率。
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公开(公告)号：CN210529059U
公开(公告)日：2020-05-15
申请号：CN201920996507.5
申请日：2019-06-28
申请人： 郑州磨料磨具磨削研究所有限公司
IPC分类号： C23C16/517 , C23C16/455
摘要： 本实用新型属于微波等离子体化学气相沉积技术领域，具体涉及一种改善气体分布的沉积室及MPCVD装置。沉积室包括基部、外罩体及沉积台；所述外罩体密封安装在基部上，以与所述基部围成反应腔；所述沉积台，设置在基部的朝向反应腔的一侧；所述基部上设有与所述反应腔连通的进气通道和排气通道；改善气体分布的沉积室还包括处于外罩体内侧、并向反应腔上部延伸的导气通道；所述导气通道与所述进气通道对接连通；所述导气通道上部与反应腔连通，以将进气通道输入的气体引导至反应腔上部。导气通道将进入沉积室内的气体向上引导，确保气体在从排气通道排出前经过沉积台，提高气体的利用率，同时提高沉积装置的反应效率。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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