氨基酸离子插层的ZnAL-LDHs薄膜的制备方法

    公开(公告)号:CN112176338A

    公开(公告)日:2021-01-05

    申请号:CN202010920501.7

    申请日:2020-09-04

    IPC分类号: C23C26/00

    摘要: 本发明公开了一种氨基酸离子插层的ZnAl‑LDHs薄膜的制备方法,包括以下步骤:步骤S001,对镁合金表面进行预处理;步骤S002,在氮气保护下将六水硝酸锌溶液与九水硝酸铝溶液均溶于去离子水中形成混合溶液;步骤S003,所述混合溶液中滴加入有机酸溶剂;步骤S004,将溶液中加入氢氧化钠溶液,调节溶液PH值为10;步骤S005,将溶液置于聚四氟乙烯高压釜中进行加热处理;步骤S006,清洗干燥,得到氨基酸离子插层的ZnAl‑LDHs薄膜。本发明制作工艺简单,采用水热法在镁合金衬底上原位制备了ASP和La插层的ZnAl‑LDHs薄膜,能够有效阻挡腐蚀液渗透镁合金基底,能够显著提高镁合金的耐蚀性。

    提高镁合金表面水滑石涂层致密性及耐蚀性的方法

    公开(公告)号:CN112267114A

    公开(公告)日:2021-01-26

    申请号:CN202010937501.8

    申请日:2020-09-08

    IPC分类号: C23C26/00

    摘要: 本发明公开了一种提高镁合金表面水滑石涂层致密性及耐蚀性的方法,包括镁合金样品预处理步骤和在镁合金表面制备MgAl‑ASP‑LDH涂层步骤:准备涂层时先取0.769g Mg(NO3)2·6H2O、0.375g Al(NO3)3·9H2O、0.044g天门冬氨酸溶于50ml去离子水中并磁力搅拌均匀后,用NaoH将混合溶液PH调至9~10;然后和处理好的镁合金移入水热釜中,在110~125℃条件下水热反应3~12h,再室温静置2~3h;最后从水热釜中取出样品,用去离子水超声清洗15min后干燥。本发明使用水热法在AZ31镁合金表面沉积MgAl‑ASP‑LDH薄膜,水热生长12h的MgAl‑ASP‑LDH涂层具有最高的致密性及孔隙覆盖率,拥有极正的腐蚀电位和极低的腐蚀电流密度,极大地提高了镁合金的耐蚀性。

    一种用于PAN型刻蚀液的湿法刻蚀装置

    公开(公告)号:CN118248593A

    公开(公告)日:2024-06-25

    申请号:CN202410333978.3

    申请日:2024-03-22

    申请人: 重庆大学

    IPC分类号: H01L21/67

    摘要: 本发明公开了一种用于PAN型刻蚀液的湿法刻蚀装置,所述湿法刻蚀装置包括刻蚀腔、刻蚀液槽、喷淋系统,所述刻蚀腔用于容纳并刻蚀基板,所述刻蚀液槽用于储存刻蚀液,所述喷淋系统用于将刻蚀液槽内的刻蚀液喷入刻蚀腔内,所述刻蚀液槽与刻蚀腔底部连通;所述湿法刻蚀装置还包括降黏循环系统和控酸循环系统。本发明能够确保刻蚀负载效应被抑制,刻蚀均一性提升,刻蚀液H3PO4浓度稳定。

    一种用于PAN型刻蚀液湿法刻蚀的抑菌水洗干燥装置

    公开(公告)号:CN118197961A

    公开(公告)日:2024-06-14

    申请号:CN202410333976.4

    申请日:2024-03-22

    申请人: 重庆大学

    IPC分类号: H01L21/67 A61L2/232

    摘要: 本发明公开了一种用于PAN型刻蚀液湿法刻蚀的抑菌水洗干燥装置;所述抑菌水洗干燥装置包括依次连接的第一水洗区间、第二水洗区间和风干区间;所述抑菌水洗干燥装置还包括抑菌循环系统,所述抑菌循环系统包括抑菌循环管和抑菌循环泵,所述抑菌循环管上缠绕有超导螺线圈;所述水箱上还设有振荡腔,所述振荡腔内设有压电换能器,所述振荡腔的一面连接抑菌循环管,所述振荡腔相对的另一面形成倒V字型凹陷并且连接文杜里管,所述文杜里管的出口连接矢量喷管,所述矢量喷管设置在水箱内;所述风干区间的入口处设有气帘风刀,所述气帘风刀用于沿着竖直方向吹气形成气帘,防止第二水洗区间的水汽进入风干区间。本发明解决了水洗干燥装置中的细菌问题。

    一种带有等离子体清洗的湿法刻蚀装置

    公开(公告)号:CN114695207A

    公开(公告)日:2022-07-01

    申请号:CN202210326399.7

    申请日:2022-03-30

    申请人: 重庆大学

    IPC分类号: H01L21/67

    摘要: 本发明公开了一种带有等离子体清洗的湿法刻蚀装置,所述湿法刻蚀装置包括等离子体清洗腔和刻蚀腔;所述湿法刻蚀装置还包括涡流管、冷却风刀Ⅰ、冷却风刀Ⅱ、加热风刀Ⅰ和加热风刀Ⅱ;所述涡流管的冷气管分别与冷却风刀Ⅰ和冷却风刀Ⅱ连通,所述涡流管的热气管分别与加热风刀Ⅰ和加热风刀Ⅱ连通。本发明通过引入涡流管形成特殊的气路装置,该装置可以将气体分离成冷气体和热气体,冷气体对基板和等离子体清洗腔进行降温,避免高压等离子体对Al、Cu、ITO等膜层的损伤,又可以充分去除有机物避免刻蚀残留,还能抑制挥发出的刻蚀蒸汽对膜层的腐蚀,防止线宽偏小的问题。同时,该装置分离出的热气体可以确保刻蚀腔室温度分布均匀,提升刻蚀均一性。