公开(公告)号：CN113290426B

公开(公告)日：2022-10-21

申请号：CN202110406099.5

申请日：2021-04-15

申请人： 金华博蓝特新材料有限公司

发明人： 徐良 ,  曹力力 ,  占俊杰 ,  邢晓鹏 ,  蓝文安 ,  刘建哲 ,  余雅俊 ,  夏建白 ,  李京波 ,  黄仕华 ,  孟秀清 ,  刘圣龙

IPC分类号： B24B1/00 ,  B24B49/04 ,  H01L21/02 ,  H01L21/66

摘要： 本发明涉及半导体生产加工领域，具体公开了一种提高晶片抛光厚度均匀性的方法，包括以下步骤：使用抛光头对多个呈环形排布的测试晶片进行抛光处理，得到抛光后的测试晶片；获取抛光后每个测试晶片不同位置的厚度数据；根据所述厚度数据确定所述抛光头不同位置的压力值；根据所述抛光头不同位置的压力值确定校正垫板的形状；将确定的校正垫板放置在所述抛光头与抛光盘之间；对抛光盘上的待处理晶片进行抛光处理。根据测试晶片不同位置的厚度数据确定抛光头不同位置的压力分布，进而确定校正垫板的形状，通过校正垫板的加入来调节抛光头的压力均匀性。

公开(公告)号：CN113433617B

公开(公告)日：2022-12-20

申请号：CN202110566627.3

申请日：2021-05-24

申请人： 金华博蓝特新材料有限公司

发明人： 徐良 ,  曹力力 ,  蓝文安 ,  刘圣龙 ,  刘建哲 ,  余雅俊 ,  夏建白 ,  李京波

IPC分类号： G02B6/122 ,  G02B6/13 ,  G03F7/00 ,  C23C16/505 ,  C23C16/40 ,  C23C16/04

摘要： 本发明提供了一种平面光波导及其制备方法，该平面光波导包括由下至上依次层叠的基板、纳米热压印胶层、第一包层、波导芯层和第二包层；所述纳米热压印胶层的表面形成有多个凹槽；所述第一包层形成于所述凹槽的侧壁、底壁和所述纳米热压印胶层的上表面；所述波导芯层填充所述凹槽，并且与所述纳米热压印胶层之间由所述第一包层间隔开；所述第二包层作为所述平面光波导的外表面覆盖所述第一包层和所述波导芯层。本发明中的平面光波导通过在基板上设置纳米热压印胶层，并在纳米热压印胶层上形成波导芯层，能够避免使用刻蚀和离子扩散等传统工艺，降低工艺成本，减少污染，进一步推进PLC光器件产业的发展。