用于具有磁性靶材的溅射源的磁力释放

    公开(公告)号:CN111316397B

    公开(公告)日:2021-05-25

    申请号:CN201880053183.X

    申请日:2018-07-16

    IPC分类号: H01J37/34 C23C14/35

    摘要: 一种用于旋转靶阴极的磁棒组件包括支撑结构、可移动地附接到所述支撑结构并且包含多个磁体的磁棒结构以及可操作地耦接到所述支撑结构和所述磁棒结构的定位机构。所述定位机构被配置为当在磁性靶材筒内时,在缩回位置和展开位置之间移动所述磁棒结构。当所述磁棒组件插入靶筒或从所述靶筒移除时,所述缩回位置显著减小所述磁体和所述靶筒的磁性靶材之间的磁力。当所述磁棒组件处于所述靶筒中时,所述展开位置显著增加所述磁体和所述磁性靶材之间的磁力,并且允许来自所述磁棒结构的磁场穿透所述磁性靶材。

    用于具有磁性靶材的溅射源的磁力释放

    公开(公告)号:CN111316397A

    公开(公告)日:2020-06-19

    申请号:CN201880053183.X

    申请日:2018-07-16

    IPC分类号: H01J37/34 C23C14/35

    摘要: 一种用于旋转靶阴极的磁棒组件包括支撑结构、可移动地附接到所述支撑结构并且包含多个磁体的磁棒结构以及可操作地耦接到所述支撑结构和所述磁棒结构的定位机构。所述定位机构被配置为当在磁性靶材筒内时,在缩回位置和展开位置之间移动所述磁棒结构。当所述磁棒组件插入靶筒或从所述靶筒移除时,所述缩回位置显著减小所述磁体和所述靶筒的磁性靶材之间的磁力。当所述磁棒组件处于所述靶筒中时,所述展开位置显著增加所述磁体和所述磁性靶材之间的磁力,并且允许来自所述磁棒结构的磁场穿透所述磁性靶材。

    溅射装置
    3.
    发明授权

    公开(公告)号:CN105463394B

    公开(公告)日:2018-06-12

    申请号:CN201510922598.4

    申请日:2012-01-06

    IPC分类号: C23C14/35 H01J37/34

    摘要: 本发明涉及溅射装置。在一个实施方案中,磁控组件包括多个磁体和被配置来将所述多个磁体固定在至少四个独立的线性阵列中的磁轭。将所述多个磁体布置在所述磁轭中,以便形成包括外部和内部的模式。所述外部基本上包围所述内部的周界。用于形成所述外部的所述磁体具有第一极性,且用于形成所述内部的所述磁体具有第二极性。所述模式的所述外部包括基本上彼此平行的一对细长断面。所述模式的所述外部包括一对回车道断面,其中每个回车道断面基本上跨越所述一对细长断面的相应端,且其中每个回车道断面包括具有所述第一极性的多个磁体。在另一个实施方案中,磁控组件包括磁轭和多个磁体,所述多个磁体可配置地放置在所述磁轭上,以便形成具有至少一个梯级回车道断面的跑道模式。

    溅射装置
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN105463394A

    公开(公告)日:2016-04-06

    申请号:CN201510922598.4

    申请日:2012-01-06

    IPC分类号: C23C14/35 H01J37/34

    摘要: 在一个实施方案中,磁控组件包括多个磁体和被配置来将所述多个磁体固定在至少四个独立的线性阵列中的磁轭。将所述多个磁体布置在所述磁轭中,以便形成包括外部和内部的模式。所述外部基本上包围所述内部的周界。用于形成所述外部的所述磁体具有第一极性,且用于形成所述内部的所述磁体具有第二极性。所述模式的所述外部包括基本上彼此平行的一对细长断面。所述模式的所述外部包括一对回车道断面,其中每个回车道断面基本上跨越所述一对细长断面的相应端,且其中每个回车道断面包括具有所述第一极性的多个磁体。在另一个实施方案中,磁控组件包括磁轭和多个磁体,所述多个磁体可配置地放置在所述磁轭上,以便形成具有至少一个梯级回车道断面的跑道模式。

    溅射装置
    5.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103354844B

    公开(公告)日:2016-01-13

    申请号:CN201280004692.6

    申请日:2012-01-06

    IPC分类号: C23C14/35

    摘要: 在一个实施方案中,磁控组件包括多个磁体和被配置来将所述多个磁体固定在至少四个独立的线性阵列中的磁轭。将所述多个磁体布置在所述磁轭中,以便形成包括外部和内部的模式。所述外部基本上包围所述内部的周界。用于形成所述外部的所述磁体具有第一极性,且用于形成所述内部的所述磁体具有第二极性。所述模式的所述外部包括基本上彼此平行的一对细长断面。所述模式的所述外部包括一对回车道断面,其中每个回车道断面基本上跨越所述一对细长断面的相应端,且其中每个回车道断面包括具有所述第一极性的多个磁体。在另一个实施方案中,磁控组件包括磁轭和多个磁体,所述多个磁体可配置地放置在所述磁轭上,以便形成具有至少一个梯级回车道断面的跑道模式。

    溅射装置
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103354844A

    公开(公告)日:2013-10-16

    申请号:CN201280004692.6

    申请日:2012-01-06

    IPC分类号: C23C14/35

    摘要: 在一个实施方案中,磁控组件包括多个磁体和被配置来将所述多个磁体固定在至少四个独立的线性阵列中的磁轭。将所述多个磁体布置在所述磁轭中,以便形成包括外部和内部的模式。所述外部基本上包围所述内部的周界。用于形成所述外部的所述磁体具有第一极性,且用于形成所述内部的所述磁体具有第二极性。所述模式的所述外部包括基本上彼此平行的一对细长断面。所述模式的所述外部包括一对回车道断面,其中每个回车道断面基本上跨越所述一对细长断面的相应端,且其中每个回车道断面包括具有所述第一极性的多个磁体。在另一个实施方案中,磁控组件包括磁轭和多个磁体,所述多个磁体可配置地放置在所述磁轭上,以便形成具有至少一个梯级回车道断面的跑道模式。