功率半导体器件
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102934231B

    公开(公告)日:2016-02-17

    申请号:CN201180029814.2

    申请日:2011-06-17

    摘要: 提供具有晶圆(10)的功率半导体器件,其包括在发射极侧(11)上的发射极电极(2)与集电极侧(15)上的集电极电极(25)之间的下列层:-(n-)掺杂漂移层(3),-n掺杂第一区(81),其设置在漂移层(3)与集电极电极(25)之间,-p掺杂基极层(4),其设置在漂移层(3)与发射极电极(2)之间,该基极层(4)与发射极电极(2)直接电接触,-n掺杂源区(6),其设置在发射极侧(11)且嵌入基极层(4)内并且接触发射极电极(2),-栅电极(7),其与基极层(4)、源区(6)和漂移层(3)电绝缘。发射极电极(2)在接触区域(22)内接触基极层(4)和源区(6)。有源半导体单元(18)在晶圆(10)内形成,有源半导体单元(18)包括层或这样的层的部分:其位于关于与源区接触的发射极电极的接触区域(22)的发射极侧(11)、所述源区(6)和基极层(4)的该处能够形成导电沟道的这样的部分的正交投影中。器件进一步包括p掺杂阱(5),其设置在与基极层(4)相同的平面中,但在有源单元(18)的外部。阱(5)直接或经由基极层(4)至少其中之一方式电连接到发射极电极(2)。

    功率半导体器件
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102934231A

    公开(公告)日:2013-02-13

    申请号:CN201180029814.2

    申请日:2011-06-17

    摘要: 本发明提供具有晶圆(10)的功率半导体器件,其包括在发射极侧(11)上的发射极电极(2)与集电极侧(15)上的集电极电极(25)之间的下列层:(n-)掺杂漂移层(3),n掺杂第一区(81),其设置在漂移层(3)与集电极电极(25)之间,p掺杂基极层(4),其设置在漂移层(3)与发射极电极(2)之间,该基极层(4)与发射极电极(2)直接电接触,n掺杂源区(6),其设置在发射极侧(11)且嵌入基极层(4)内并且接触发射极电极(2),栅电极(7),其与基极层(4)、源区(6)和漂移层(3)电绝缘。发射极电极(2)在接触区域(22)内接触基极层(4)和源区(6)。有源半导体单元(18)在晶圆(10)内形成,有源半导体单元(18)包括层或这样的层的部分:其位于关于与源区接触的发射极电极的接触区域(22)的发射极侧(11)、所述源区(6)和基极层(4)的该处能够形成导电沟道的这样的部分的正交投影中。器件进一步包括p掺杂阱(5),其设置在与基极层(4)相同的平面中,但在有源单元(18)的外部。阱(5)直接或经由基极层(4)至少其中之一方式电连接到发射极电极(2)。