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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113785244B
公开(公告)日：2024-09-03
申请号：CN202080033297.5
申请日：2020-04-21
Applicant: ASML控股股份有限公司
IPC: G03F7/20 , H01L21/687 , H01L21/683
Abstract: 一种制作衬底台的方法包括：支撑台座，以接收涂层，并且将所述涂层设置在台座的表面上。台座的表面是实质上平坦的。涂层具有不均匀的厚度。涂层在台上施加应力以使台座弯曲。所述不均匀厚度使涂层的表面在弯曲之后变得实质上平坦。
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公开(公告)号：CN113785244A
公开(公告)日：2021-12-10
申请号：CN202080033297.5
申请日：2020-04-21
Applicant: ASML控股股份有限公司
IPC: G03F7/20 , H01L21/687 , H01L21/683
Abstract: 一种制作衬底台的方法包括：支撑台座，以接收涂层，并且将所述涂层设置在台座的表面上。台座的表面是实质上平坦的。涂层具有不均匀的厚度。涂层在台上施加应力以使台座弯曲。所述不均匀厚度使涂层的表面在弯曲之后变得实质上平坦。
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公开(公告)号：CN109791363B
公开(公告)日：2021-01-08
申请号：CN201780042071.X
申请日：2017-07-06
Applicant: ASML荷兰有限公司 , ASML控股股份有限公司
IPC: G03F7/20 , H01L21/687
Abstract: 本文公开了一种衬底保持器、一种制造衬底保持器的方法、一种包括所述衬底保持器的光刻设备、以及一种使用所述光刻设备制造器件的方法。在一种布置中，提供了一种用于光刻设备的衬底保持器。衬底保持器支撑衬底。衬底保持器包括主体。主体具有主体表面。设置从主体表面突出的多个突节。每个突节具有突节侧表面和远端表面。每个突节的远端表面接合衬底。突节的远端表面基本上与支撑平面保持形状一致并且支撑所述衬底。碳基材料层被设置在碳基材料的多个分离区域中。所述碳基材料层提供具有比所述主体表面的在所述碳基材料的多个分离区域之外的部分更低的摩擦系数的表面。碳基材料层仅覆盖突节中的至少一个突节的远端表面的一部分。可替代地，碳基材料层覆盖突节中的至少一个突节的远端表面和突节侧表面的至少一部分。
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公开(公告)号：CN109791363A
公开(公告)日：2019-05-21
申请号：CN201780042071.X
申请日：2017-07-06
Applicant: ASML荷兰有限公司 , ASML控股股份有限公司
IPC: G03F7/20 , H01L21/687
Abstract: 本文公开了一种衬底保持器、一种制造衬底保持器的方法、一种包括所述衬底保持器的光刻设备、以及一种使用所述光刻设备制造器件的方法。在一种布置中，提供了一种用于光刻设备的衬底保持器。衬底保持器支撑衬底。衬底保持器包括主体。主体具有主体表面。设置从主体表面突出的多个突节。每个突节具有突节侧表面和远端表面。每个突节的远端表面接合衬底。突节的远端表面基本上与支撑平面保持形状一致并且支撑所述衬底。碳基材料层被设置在碳基材料的多个分离区域中。所述碳基材料层提供具有比所述主体表面的在所述碳基材料的多个分离区域之外的部分更低的摩擦系数的表面。碳基材料层仅覆盖突节中的至少一个突节的远端表面的一部分。可替代地，碳基材料层覆盖突节中的至少一个突节的远端表面和突节侧表面的至少一部分。
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公开(公告)号：CN119087748A
公开(公告)日：2024-12-06
申请号：CN202411175263.6
申请日：2020-04-21
Applicant: ASML控股股份有限公司
IPC: G03F7/20 , H01L21/687 , H01L21/683 , C23C16/50
Abstract: 一种光刻设备，包括：照射系统、支撑件、投影系统以及衬底台。衬底台包括：台座，包括表面；以及具有不均匀厚度的涂层，被设置在台座的表面上。台座相对于名义平坦度的偏转是由涂层引起的应力的函数，其中涂层的横截面轮廓至少基于应力和不均匀厚度，其中涂层的表面是实质上平坦的，并且其中涂层的表面被配置为在衬底台支撑衬底时接触衬底。
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