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公开(公告)号：CN114902141A
公开(公告)日：2022-08-12
申请号：CN202080089853.0
申请日：2020-12-04
Applicant: ASML控股股份有限公司
IPC: G03F7/20 , H01L21/683
Abstract: 提供了用于制造静电夹具的系统、设备和方法。示例性方法可以包括：在包括第一时间的第一持续时间期间形成顶部夹具，顶部夹具包括第一组电极以及多个突节。方法还可包括：在包括与第一时间重叠的第二时间的第二持续时间期间形成芯部，芯部包括多个流体通道，多个流体通道被配置成承载热调节流体。方法还可包括：在包括与第一时间和第二时间重叠的第三时间的第三持续时间期间形成底部夹具，底部夹具包括：第二组电极。在一些方面中，示例性方法可包括在没有阳极键合的情况下制造静电夹具。
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公开(公告)号：CN113785244A
公开(公告)日：2021-12-10
申请号：CN202080033297.5
申请日：2020-04-21
Applicant: ASML控股股份有限公司
IPC: G03F7/20 , H01L21/687 , H01L21/683
Abstract: 一种制作衬底台的方法包括：支撑台座，以接收涂层，并且将所述涂层设置在台座的表面上。台座的表面是实质上平坦的。涂层具有不均匀的厚度。涂层在台上施加应力以使台座弯曲。所述不均匀厚度使涂层的表面在弯曲之后变得实质上平坦。
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公开(公告)号：CN113614642A
公开(公告)日：2021-11-05
申请号：CN202080022466.5
申请日：2020-03-13
Applicant: ASML控股股份有限公司
IPC: G03F7/20 , B82Y35/00 , G01B7/34 , G01Q20/02 , G01Q60/04 , B23K26/04 , G01B9/02 , G01B11/22 , G01Q60/22 , H01L21/687
Abstract: 一种用于去除物体的一部分的装置包括平台、量测设备、材料去除装置和致动器。量测设备包括辐射源、光学系统和检测器。材料去除装置包括细长元件和在细长元件的端部处的尖锐元件。平台支撑物体。辐射源生成辐射。光学系统将辐射指向物体的该部分。检测器接收被物体的该部分散射的辐射并且基于所接收的辐射输出数据。该数据包括物体的该部分的位置。致动器移动材料去除装置使得尖锐元件设置在物体的该部分的位置上。该装置在物体的该部分上施加力使得物体的该部分可以被移除。
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公开(公告)号：CN112969966A
公开(公告)日：2021-06-15
申请号：CN201980071950.4
申请日：2019-10-22
Applicant: ASML控股股份有限公司
IPC: G03F7/20 , H01L21/687
Abstract: 一种用于在光刻工艺中使用的减少物体对表面的粘附的方法，该方法包括在控制计算机处接收用于被配置为对表面修改的工具的指令，以及基于在控制计算机处接收的指令以确定的方式形成具有沟和脊的修改表面，其中，脊通过减小修改表面的接触表面积来减少粘附。另一装置包括修改表面，修改表面包括形成减小的接触表面积以减少物体对修改表面的粘附的沟和脊，脊具有弹性性质，当多个脊弹性变形时，弹性性质导致减小的接触表面积增加。
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公开(公告)号：CN119882354A
公开(公告)日：2025-04-25
申请号：CN202411723461.1
申请日：2019-10-22
Applicant: ASML控股股份有限公司
IPC: G03F7/20 , H01L21/687
Abstract: 一种用于在光刻工艺中使用的减少物体对表面的粘附的方法，该方法包括在控制计算机处接收用于被配置为对表面修改的工具的指令，以及基于在控制计算机处接收的指令以确定的方式形成具有沟和脊的修改表面，其中，脊通过减小修改表面的接触表面积来减少粘附。另一装置包括修改表面，修改表面包括形成减小的接触表面积以减少物体对修改表面的粘附的沟和脊，脊具有弹性性质，当多个脊弹性变形时，弹性性质导致减小的接触表面积增加。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112969966B
公开(公告)日：2024-12-03
申请号：CN201980071950.4
申请日：2019-10-22
Applicant: ASML控股股份有限公司
IPC: G03F7/20 , H01L21/687
Abstract: 一种用于在光刻工艺中使用的减少物体对表面的粘附的方法，该方法包括在控制计算机处接收用于被配置为对表面修改的工具的指令，以及基于在控制计算机处接收的指令以确定的方式形成具有沟和脊的修改表面，其中，脊通过减小修改表面的接触表面积来减少粘附。另一装置包括修改表面，修改表面包括形成减小的接触表面积以减少物体对修改表面的粘附的沟和脊，脊具有弹性性质，当多个脊弹性变形时，弹性性质导致减小的接触表面积增加。
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公开(公告)号：CN113785244B
公开(公告)日：2024-09-03
申请号：CN202080033297.5
申请日：2020-04-21
Applicant: ASML控股股份有限公司
IPC: G03F7/20 , H01L21/687 , H01L21/683
Abstract: 一种制作衬底台的方法包括：支撑台座，以接收涂层，并且将所述涂层设置在台座的表面上。台座的表面是实质上平坦的。涂层具有不均匀的厚度。涂层在台上施加应力以使台座弯曲。所述不均匀厚度使涂层的表面在弯曲之后变得实质上平坦。
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公开(公告)号：CN115698864A
公开(公告)日：2023-02-03
申请号：CN202180041129.5
申请日：2021-05-25
Applicant: ASML荷兰有限公司 , ASML控股股份有限公司
Inventor： A·F·J·德格鲁特 , M·A·阿克巴斯 , A·齐弗契桑迪奇 , J·J·邓 , M·涅可柳多娃 , R·迈尔 , S·古普塔 , R·C·斯坦尼肯 , J·M·W·范登温凯尔 , C·M·奥利索维奇 , M·佩里
IPC: G03F7/20 , H01L21/687
Abstract: 本文中描述一种生产用于在光刻设备中使用的衬底保持器的方法，所述衬底保持器包括从所述衬底保持器突出的多个突节，并且每个突节具有被配置成与衬底接合的远端表面。所述方法包括经由等离子体增强式化学气相淀积，将耐磨材料的涂层施加于所述多个突节中的一个或更多个突节的远端表面处。所述涂层的所述施加包括在100W至1000W的范围内调整RF电极的射频(RF)功率以产生等离子体；和在腔室中将所述一个或更多个多个突节暴露于在20sccm至300sccm之间的气体流率的前体气体，所述前体气体是己烷。
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公开(公告)号：CN111465901A
公开(公告)日：2020-07-28
申请号：CN201880079853.5
申请日：2018-11-22
Applicant: ASML荷兰有限公司 , ASML控股股份有限公司
Inventor： T·波耶兹 , C·H·M·伯尔蒂斯 , A·A·索图特 , M·A·阿克巴斯 , D·范登伯格 , W·范内希 , M·M·C·F·托因尼森
IPC: G03F7/20 , H01L21/687
Abstract: 本发明提供了一种用于光刻设备的衬底保持器。衬底保持器被配置成支撑衬底，且包括主体、多个支撑元件和密封单元。主体具有主体表面。多个支撑元件从主体表面突伸出，并且每个支撑元件具有配置成支撑衬底的远端端面。密封单元可以包括第一密封构件，该第一密封构件在径向上位于所述多个支撑元件的外部并且围绕所述多个支撑元件。第一密封构件的上表面可以具有被配置成在衬底的加载和/或卸载期间与衬底接触的接触区域。在一实施例中，接触区域的位置布置在与多个支撑元件相距足够充分的距离处，使得在衬底的卸载期间，由衬底施加到第一密封构件上的力大于由衬底施加到多个支撑元件上的力。附加地或替代地，在径向通过密封构件的横截面中，接触区域的轮廓具有配置成使得在衬底卸载期间，衬底经由轮廓的至少两个不同点与密封构件接触的形状。本发明还提供了一种衬底保持器，该衬底保持器的另外构件在密封单元径向向外。所述另外构件被配置成在衬底的加载或卸载期间与衬底接触。衬底保持器的至少一部分可具有由类金刚石碳、金刚石、碳化硅、亚硝酸硼或氮化硼碳制成的涂层。
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公开(公告)号：CN119087748A
公开(公告)日：2024-12-06
申请号：CN202411175263.6
申请日：2020-04-21
Applicant: ASML控股股份有限公司
IPC: G03F7/20 , H01L21/687 , H01L21/683 , C23C16/50
Abstract: 一种光刻设备，包括：照射系统、支撑件、投影系统以及衬底台。衬底台包括：台座，包括表面；以及具有不均匀厚度的涂层，被设置在台座的表面上。台座相对于名义平坦度的偏转是由涂层引起的应力的函数，其中涂层的横截面轮廓至少基于应力和不均匀厚度，其中涂层的表面是实质上平坦的，并且其中涂层的表面被配置为在衬底台支撑衬底时接触衬底。
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