公开(公告)号：CN113785244A

公开(公告)日：2021-12-10

申请号：CN202080033297.5

申请日：2020-04-21

Applicant: ASML控股股份有限公司

Inventor： B·蒂里 ,  周平 ,  E·M·斯通 ,  D·H·彼得森 ,  M·A·阿克巴斯 ,  R·迈尔 ,  R·B·刘易斯

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/687 ,  H01L21/683

Abstract: 一种制作衬底台的方法包括：支撑台座，以接收涂层，并且将所述涂层设置在台座的表面上。台座的表面是实质上平坦的。涂层具有不均匀的厚度。涂层在台上施加应力以使台座弯曲。所述不均匀厚度使涂层的表面在弯曲之后变得实质上平坦。

公开(公告)号：CN113785244B

公开(公告)日：2024-09-03

申请号：CN202080033297.5

申请日：2020-04-21

Applicant: ASML控股股份有限公司

Inventor： B·蒂里 ,  周平 ,  E·M·斯通 ,  D·H·彼得森 ,  M·A·阿克巴斯 ,  R·迈尔 ,  R·B·刘易斯

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/687 ,  H01L21/683

Abstract: 一种制作衬底台的方法包括：支撑台座，以接收涂层，并且将所述涂层设置在台座的表面上。台座的表面是实质上平坦的。涂层具有不均匀的厚度。涂层在台上施加应力以使台座弯曲。所述不均匀厚度使涂层的表面在弯曲之后变得实质上平坦。

公开(公告)号：CN119087748A

公开(公告)日：2024-12-06

申请号：CN202411175263.6

申请日：2020-04-21

Applicant: ASML控股股份有限公司

Inventor： B·蒂里 ,  周平 ,  E·M·斯通 ,  D·H·彼得森 ,  M·A·阿克巴斯 ,  R·迈尔 ,  R·B·刘易斯

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/687 ,  H01L21/683 ,  C23C16/50

Abstract: 一种光刻设备，包括：照射系统、支撑件、投影系统以及衬底台。衬底台包括：台座，包括表面；以及具有不均匀厚度的涂层，被设置在台座的表面上。台座相对于名义平坦度的偏转是由涂层引起的应力的函数，其中涂层的横截面轮廓至少基于应力和不均匀厚度，其中涂层的表面是实质上平坦的，并且其中涂层的表面被配置为在衬底台支撑衬底时接触衬底。